manufacturing exposure timeとは 意味・読み方・使い方

To provide a method of X-ray contracted projection/exposure, an X-ray contracted projection/exposure device and a method of manufacturing a semiconductor device using the same where there is no loss of luminous energy, an exposure time is shortened and the throughput is enhanced.例文帳に追加

光量の損失がなく、露光時間が短縮され、スループットを高めることができるＸ線縮小投影露光方法、Ｘ線縮小投影露光装置及びこれを用いた半導体デバイス製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a master disk exposure apparatus and master disk exposure method for manufacturing an optical information recording medium with high recording density at a low cost by shortening an exposure time per a sheet of master disk for information recording medium.例文帳に追加

情報記録媒体用原盤の１枚当たりの露光時間を短縮し、高記録密度の光情報記録媒体をより低コストで製造するための原盤露光装置及び原盤露光方法を提供する。 - 特許庁

To cut down manufacturing time of the manufacturing process as a whole without causing disorder in pitch of coaxial cables at exposure of an inner insulation coating layer.例文帳に追加

内側絶縁被覆層が露出時に同軸ケーブルのピッチが狂わず、製造工程全体の製造時間を短縮する。 - 特許庁

Pattern exposure is made onto a wafer with a ground pattern on the surface and a wafer without any ground pattern on the surface while increasing the exposure energy by a certain amount each time for each shot, thus manufacturing a wafer for inspection that is an exposure running wafer (S13).例文帳に追加

表面に下地パタンを有するウェハ上および表面に下地パタンを有しないウェハ上のそれぞれに、１ショット毎に露光量を一定量ずつ増加させながらパタンの露光を行うことによって、exposure runningウェハである検査用ウェハを作製する（Ｓ１３）。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing a semiconductor device which decreases the number of exposure mask to remarkably shorten the man-hours and period of time of a process for exposure, in the manufacturing method of the semiconductor device, in which an identification information is given on a chip.例文帳に追加

チップ上に識別情報を付与した半導体装置の製造方法において、露光マスクの数を減らし、露光にかかる工程の工数と時間を大幅に短縮した半導体装置の製造方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a manufacturing method of a multilayer film reflecting mirror for forming a film in a short time, and thinning the thickness of an interface layer, and an exposure device.例文帳に追加

短い時間で膜形成が行われ、かつ、界面層の厚さが薄い多層膜反射鏡の製造方法及び露光装置を提供する。 - 特許庁

To provide an enameled wire capable of restraining expansion at the time of winding a coil and preventing exposure of a conductor, and a method of manufacturing the same.例文帳に追加

コイル巻時の伸びを抑えることができると共に、導体の露出を防止することができるエナメル線及びその製造方法を提供する。 - 特許庁

To obtain a photomask for manufacturing a printed wiring board less liable to a dimensional change even when subjected to repetitive exposure over a long time.例文帳に追加

長時間繰り返し露光を行っても寸法変化の少ないプリント配線板作製用のフォトマスクを得る。 - 特許庁