particle distribution functionとは 意味・読み方・使い方

The convolution of an arrival probability distribution function obtained through simulations for a charged particle beam and the step function is numerically computed, and an energy profile obtained as a result or its inverse function is approximated by a polynominal, and the amount of blur is determined by the use of the approximate expression.例文帳に追加

シミュレーションにより得られた荷電粒子線の到達確率分布関数とステップファンクションのコンボリューションを数値計算し、その結果得られるエネルギープロファイル又はその逆関数を多項式で近似し、この近似式を用いてボケ量を決定する。 - 特許庁

To provide a charged particle beam exposure method of extracting the parameters of an exposure light intensity distribution function optimal for correcting exposure data on a proximity effect so as to form a pattern of high dimensional accuracy, in accordance with exposure data corrected on a proximity effect on the basis of an exposure light intensity distribution function.例文帳に追加

露光強度分布関数に基づいて近接効果補正処理を行った露光データに従って露光を行う荷電粒子ビーム露光方法に関し、露光データの近接効果補正処理に最適な露光強度分布関数のパラメタを抽出し、寸法精度の高いパターンを作成することができるようにする。 - 特許庁

About a process by a particle seed such as ion having a strong anisotropic for an entering, an ion angle energy distribution function (IAEDF) which is respectively the function of an angle θ and an energy E, and an etching yield energy component which is the coefficient of an action with respect to the surface, are numerically integrated to generate the weighted etching yield ion angle distribution function (EYIADF) in advance.例文帳に追加

入射に関する異方性の強いイオンなどの粒子種によるプロセスに関して、それぞれ角度θおよびエネルギーＥの関数であるイオン角度エネルギー分布関数（ＩＡＥＤＦ）と、表面との作用の係数としてのエッチング・イールドのエネルギー成分とを数値積分して、エッチング・イールドの重み付けのついたイオン角度分布関数（ＥＹＩＡＤＦ）をあらかじめ作成する。 - 特許庁

The film deposition system is provided with a film deposition chamber 11, a plasma generation section which is disposed in the film deposition chamber 11 and has a first electrode 21 and a second electrode 22, and an energy distribution function variable section which is disposed inside the film deposition chamber 11, and causes the electron energy distribution function that the neutron particle moving inside the film deposition chamber 11 senses to change.例文帳に追加

成膜装置は、成膜室１１と、成膜室１１内に設けられた第１の電極２１と第２の電極２２とを有するプラズマ発生部と、成膜室１１の中に設けられ、成膜室１１内を運動する中性粒子が感ずる電子エネルギー分布関数を変化させるエネルギー分布関数可変部とを備えている。 - 特許庁

The display device 10 performs display by difference in reflectance by variation of spatial distribution generated by movement of a plurality of the particle bodies 13 in the insulating solution by the function of e.g. an electric field.例文帳に追加

そして、表示装置１０は、複数の粒子体１３が、例えば電界等の作用によりその絶縁性溶液中を移動し、その空間分布変化による反射率の違いにより表示を行うものである。 - 特許庁

To provide a particle size distribution-measuring apparatus which can prevent generation of errors in complicated validation work, by including a function for informing an apparatus operator of the procedures for the validation work of the apparatus.例文帳に追加

粒度分布測定装置のバリデーション作業を手順を装置操作者に知らせる機能を持たせることによって、複雑なバリデーション作業におけるミスの発生を防止することができる粒度分布測定装置を提供する。 - 特許庁

The particle generating process and the flying and scattering process are preliminarily calculated according to the flow chart shown in (a) at any points in a sputtering chamber or at specified positions on a substrate so as to obtain the incident angle of particles, namely the distribution of horizontal and vertical incident angle of entering particles, and to obtain the energy distribution function at the angle.例文帳に追加

粒子発生過程と飛翔散乱行程を図１（ａ）に示すフローに従い、予めスパッターチャンバー内の任意の点、又は基板上特定位置において計算しておき、その入射方向、即ち入射する各粒子の水平、垂直入射角分布、及びその角度でのエネルギー分布関数を求めておく。 - 特許庁

The dose distribution of charged particle beams arriving on a wafer is approximated with a linear combination of two or more Gaussian functions, and the energy distribution in the wafer due to charged particles incident on one point of the wafer is expressed with a single Gaussian function of a linear combination of two or more Gaussian functions, to calculate the energy accumulation quantity.例文帳に追加

ウエハ上に到達する荷電粒子線の線量分布を２個以上のガウシアン関数の線形結合で近似すると共に、ウエハ上の１点に入射した荷電粒子によりウエハ中に分布されるエネルギーの分布を単一のガウシアン関数又は２つ以上のガウシアン関数の線形結合で表して、エネルギー蓄積量の計算を行う。 - 特許庁