positive spinとは 意味・読み方・使い方

The positive magnetoresistance effect element may be constituted by a mixture of CrO_2 or CrO_2 and Ni_80Fe_20 (a first conductive magnetic material having positive spin polarizability) powder, and CrO_2 or CrO_2 and Ni_80Fe_20 (a second conductive magnetic material having negative spin polarizability) powder.例文帳に追加

正の磁気抵抗効果素子が、ＣｒＯ_2またはＣｒＯ_2およびＮｉ_80Ｆｅ_20（正のスピン分極率を有する第１導電性磁性体）の粉状体と、ＣｒＯ_2またはＣｒＯ_2およびＮｉ_80Ｆｅ_20（負のスピン分極率を有する第２導電性磁性体）の粉状体との混合物により構成されていてもよい。 - 特許庁

To provide a positive radiation-sensitive resin composition, for forming resin films widely differing in film thickness by changing the performance conditions of a spin coating method.例文帳に追加

スピンコート法の実施条件を変更することにより、膜厚が大きく異なる樹脂膜を形成することが可能なポジ型感放射線性樹脂組成物を提供すること。 - 特許庁

After the surface of a substrate 1 is spin-coated with a positive photosensitive resist and a circuit pattern forming spot and a through hole forming spot are exposed on this positive photosensitive resist in a first exposure process, only a through hole 1a and neighboring thereof are exposed in a second exposure process.例文帳に追加

基板１の表面にポジ型感光レジストをスピンコートし、このポジ型感光レジストに対し第１露光工程で回路パターン形成箇所とスルーホール形成箇所とを露光した後、第２露光工程でスルーホール孔１ａとその近傍のみを露光する。 - 特許庁

The positive photosensitive resin composition is applied onto the interlayer insulating film 4 and the second conductor layer 7 by a spin coating method, dried, irradiated with light through a mask patterned to form windows 6c in predetermined parts, and developed with an aqueous alkali solution to form a pattern.例文帳に追加

本発明によるポジ型感光性樹脂組成物をスピンコート法にて層間絶縁膜４及び第２導体層７上に塗布、乾燥し、所定部分に窓６Ｃを形成するパターンを描いたマスク上から光を照射した後、アルカリ水溶液にて現像してパターンを形成する。 - 特許庁

The positive photosensitive resin composition is applied on the interlayer insulation film 4 and the second conductor layer 7 by a spin coating method, the composition is dried and irradiated with light through a mask patterned so as to form a window 6C in a predetermined portion, and a pattern is formed by development with an alkaline aqueous solution.例文帳に追加

本発明によるポジ型感光性樹脂組成物をスピンコート法にて層間絶縁膜４及び第２導体層７上に塗布、乾燥し、所定部分に窓６Ｃを形成するパターンを描いたマスク上から光を照射した後、アルカリ水溶液にて現像してパターンを形成する。 - 特許庁