stepwise formationとは 意味・読み方・使い方

To provide a semiconductor substrate in which faults such as the cross leak of a substrate, dispersed matters, and stepwise formation on the surface are eliminated in a partial distorted SOI substrate including a distorted structure, and to provide a method for manufacturing the same.例文帳に追加

本発明は、ひずみＳＯＩ構造を含む部分ひずみＳＯＩ基板における、基板クロスリークや、拡散物及び表面段差といった不具合を解消した半導体基板とその製造方法の提供することを目的とする。 - 特許庁

In the pattern formation step, the plurality of openings 53 disposed along the first formation direction X are formed at a uniform pitch B_h smaller than the ideal opening pitch in the row direction of the parallax barrier 5 prescribed based on a pixel pitch in the row direction in a display means, and are formed such that the openings are disposed stepwise shifted in the second formation direction Y and follow the first cutting direction X'.例文帳に追加

パターン形成工程では、第１の形成方向Ｘに沿って並ぶ複数の開口部５３を表示手段における行方向の画素ピッチに基づいて規定される視差バリア５の行方向の理想開口ピッチよりも小さい均等なピッチＢ_ｈで形成するとともに、第１の切出方向Ｘ´に倣うように第２の形成方向Ｙにずらして階段状に並ぶように形成する。 - 特許庁

There is no necessity to perform such a stepwise formation to use a transfer sheet at which uneven pattern parts are installed, or to pile a high part on a low part, and the ribs of the matrix structure having the tall longitudinal ribs and the low lateral ribs can be formed simply.例文帳に追加

凹凸パターン部を設けた転写シートを用いたり、低い部分の上に高い部分を重ねるという段階的な形成を行ったりする必要がなく、背の高い縦リブと背の低い横リブを有するマトリックス構造のリブを簡単に形成することができる。 - 特許庁

Molar ratio of the nickel ion to the amine compound is 1.0 to 3.0 times of coordination number of the amine compound to the nickel ion and stepwise formation constant K_1 of a primary step reaction when the amine compound forms the complex with the nickel ion preferably falls into the range of K_1= 4.0 to 15.0.例文帳に追加

前記ニッケルイオンと前記アミン化合物とのモル比が、前記アミン化合物の前記ニッケルイオンへの配位数の１．０〜３．０倍であり、また、前記アミン化合物は、ニッケルイオンと錯体形成する際における第一段階反応の逐次生成定数Ｋ_１が、Ｋ_１＝４．０〜１５．０の範囲にあることが好ましい。 - 特許庁

To provide an image forming apparatus in which potential irregularities on the surface of an image holder are suppressed compared to the case of not applying a transfer voltage applied when forming images immediately before to a transfer member continuously for at least a first period and not applying a development voltage applied when forming images immediately before to a development member by changing it stepwise to 0V during the first period when image formation is switched to image non-formation.例文帳に追加

本発明は、画像形成から非画像形成へ切り替えられた時に、直前の画像形成時に印加されていた転写電圧をなくとも第１の期間継続して転写部材へ印加せず、且つ直前の画像形成時に印加されていた現像電圧を第１の期間の間０Ｖに向かって段階的に変化させて現像部材へ印加しない場合に比べて像保持体の表面の電位ムラの抑制された画像形成装置を提供する。 - 特許庁

To provide a coating system for repair, which enables a smooth and stepwise formation of a coating film thickness from the center to a gradation part even by using a water based paint having a high viscosity, and enables a coating film drying with a high efficiency without requiring an ambitious equipment and cost, and enables even an inexperienced worker to carry out a coating of a high quality at short times.例文帳に追加

粘度の高い水系塗料を用いても中心部からボカシ部に徐々に塗装膜厚を滑らかに形成でき、大掛かりな設備やコストをかけることなく高効率で塗膜乾燥が行え、経験の浅い作業者であっても高品質な塗装を短時間で行い得る、補修のための塗装システムを提供する。 - 特許庁