to Ruとは 意味・読み方・使い方

The Ru film 5 is etched with use of the hard mask 8 to form an Ru electrode 9.例文帳に追加

ハードマスク８を用いてＲｕ膜５がエッチングされＲｕ電極９が形成される。 - 特許庁

Further, 5 to 30% Pt, 10 to 30% Cr, >0 to 10% Ta, >0 to 30% Ni and >0 to 15% (Ti+Zr+Hf+V+Nb+Mo+W+Cu+Ag+Au+Ru+Rh+Pd+ Os+Ir+rare earth elements) can be incorporated therein.例文帳に追加

30≧Pt≧5at%、30≧Cr≧10at%、10≧Ta＞0at%、30≧Ni＞0at%、さらには、15≧(Ti+Zr+Hf+V+Nb+Mo+W+Cu+Ag+Au+Ru+Rh+Pd+Os+Ir+希土類元素)＞0at%を含有させることが可能である。 - 特許庁

When the sum of Ru and the metal other than Ru is 100 wt.%, the proportion of Ru lies in the range of 20 to 90 wt.%.例文帳に追加

前記ＲuとＲu以外の金属の合計を100重量％としたときに、Ｒｕの割合が２０〜９０重量％の範囲にある。 - 特許庁

The thin-film-forming apparatus transports a Ru film formed in a Ru chamber F1 to an oxidization chamber F2, and exposes the Ru film to an atmosphere of an oxidative gas to oxidize the Ru film (Step S14).例文帳に追加

薄膜形成装置は、ＲｕチャンバＦ１で形成するＲｕ膜を酸化チャンバＦ２に搬送し、酸化性ガスの雰囲気にＲｕ膜を曝して、Ｒｕ膜に対し酸化処理を施す（ステップＳ１４）。 - 特許庁

For reduction of cost of a catalyst material, low-cost precursor bodies of Pt and Ru are used, to which a complexing agent forming chelates in a synthetic system under existence of a reducing agent to narrow reduction potential differences of Pt and Ru, and synthesize PtRu system catalyst with Pt and Ru atoms fully combined into an alloy.例文帳に追加

触媒材料コスト低減のため、安価なPtおよびRuの前駆区体を使用し、還元剤の存在下、合成系内にキレートを形成する錯化剤を添加することにより、PtとRuの還元電位差を狭め、PtとRu原子が十分に混合合金化したPtRu系触媒を合成する。 - 特許庁

Disclosed is the white gold alloy composed of an Au alloy obtained by adding, to 75 to 77 mass% Au, 10 to 17 mass% Cu and 0.01 to 0.5 mass% Ru, and, as necessary, 0.1 to 2.0 mass% Ga, and the balance Pd.例文帳に追加

75〜77mass%のAuにCuを10〜17mass%、Ruを0.01〜0.5mass%、場合によってはGaを0.1〜2.0mass%を添加し、残部がPdからなるAu合金より構成されているホワイトゴールド合金。 - 特許庁

To efficiently leach/recover a platinum group metal from a raw material comprising a platinum group metal including Ru and/or Rh.例文帳に追加

Ru及び又はRhを含む白金族金属を含む原料から、効率よく白金族金属を浸出・回収する。 - 特許庁

To provide an Ru sputtering target for forming an Ru film or an Ru oxide film excellent in adhesion and used at the time of forming an electrode for the capacitor of a semiconductor memory of a high integrating degree or the like and to provide Ru raw material powder for producing the Ru sputtering target.例文帳に追加

高集積度の半導体メモリーのキャパシタ用電極などを形成する際に使用される密着性に優れたＲｕ膜または酸化Ｒｕ膜を形成するためのＲｕスパッタリングターゲットおよびそのＲｕスパッタリングターゲットを製造するためのＲｕ原料粉末を提供する。 - 特許庁