track etchingとは 意味・読み方・使い方

The generation step of the metallization track 7 comprises an etching step of the track insulation material 1 forming a clearance 4 in the position of the track, a step for depositing a conduction barrier layer 5 in the clearance, a step for filling the clearance with copper, and a step for depositing a silicon nitride layer 8 on the predetermined metallization level.例文帳に追加

この金属トラック７の生成ステップは、前記トラックの位置に空隙４を形成するトラック間絶縁材料１のエッチング・ステップと、空隙に伝導バリア層５を堆積するステップと、銅で空隙を充填するステップと、予め定めたメタライゼーション・レベル上に窒化珪素層８を堆積するステップと、を含む。 - 特許庁

Then, the frame is removed and, further, the unnecessary part of the substrate film 21 other than a part present blow the track width defining layer 12a is removed by using dry etching such as ion milling.例文帳に追加

次に、フレームを除去し、更に、下地膜２１のうち、トラック幅規定層１２ａの下に存在する部分以外の不要な部分をイオンミリング等のドライエッチングを用いて除去する。 - 特許庁

Using a semiconductor laser as a light source, an inorganic resist (a phase change film etc.) is irradiated with the laser beam to change its state, and the narrow track pitch substrate is obtained by development treatment and etching treatment.例文帳に追加

光源に半導体レーザを用い、無機レジスト（相変化膜など）にレーザビームを照射して状態変化させ、現像処理及びエッチング処理により狭トラックピッチ基板を得る。 - 特許庁

In this case, a resist 40 regulating a track width is coated on the write part 33A of the write pole 33 and next the write pole 33 is subjected to etching by using the resist.例文帳に追加

本発明では、前記書き込みポールの書き込み部（３３Ａ）上にトラック幅を規定するレジスト（４０）を塗布し、次にこのレジストを利用して前記書き込みポールをエッチングする。 - 特許庁

A cylindrical straight pore canal having a uniform pore diameter is formed on an insulating membrane to form a filter membrane, by using at least one among a track-etching method, a photolithographic method, a punching method, a replica method and a laser method.例文帳に追加

絶縁膜に円筒状かつ真直であり、均一な孔径の孔道を形成してろ過膜を、トラックエッチング法、フォトリソグラフィ法、パンチング法、レプリカ法及びレーザー法の少なくとも一つを用いて形成する。 - 特許庁

The quantity of needless etched substances re-adhered to the upper part magnetic core and the recording gap at the time of etching is suppressed by this method and the work of high efficient and stable track width precision can be performed.例文帳に追加

この方法によりエッチング時に上部磁気コアや記録ギャップ部への再付着の量が押さえられ、高効率で安定したトラック幅精度の加工が可能になる。 - 特許庁

In order to correct an error in a profile parameter, the above-mentioned procedure is supplied to a track/stepper and an etcher to control lithography and etching processes.例文帳に追加

プロフィール・パラメータのエラーを補正するために上述した手法をトラック／ステッパおよびエッチャに供給してリソグラフィおよびエッチングのプロセスを制御することができる。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing a magnetic recording medium reducing magnetic interference in a track direction by uniform etching and improving recording density and to provide the magnetic recording medium obtained by the manufacturing method.例文帳に追加

本発明の目的は、均一なエッチングによりトラック方向の磁気的干渉を低減し、記録密度の向上が可能な、磁気記録媒体の製造方法、および当該製造方法により得られた磁気記録媒体を提供することにある。 - 特許庁