「track etching」に関連した英語例文の一覧と使い方 - Weblio英語例文検索

The generation step of the metallization track 7 comprises an etching step of the track insulation material 1 forming a clearance 4 in the position of the track, a step for depositing a conduction barrier layer 5 in the clearance, a step for filling the clearance with copper, and a step for depositing a silicon nitride layer 8 on the predetermined metallization level.例文帳に追加

この金属トラック７の生成ステップは、前記トラックの位置に空隙４を形成するトラック間絶縁材料１のエッチング・ステップと、空隙に伝導バリア層５を堆積するステップと、銅で空隙を充填するステップと、予め定めたメタライゼーション・レベル上に窒化珪素層８を堆積するステップと、を含む。 - 特許庁

The quantity of needless etched substances re-adhered to the upper part magnetic core and the recording gap at the time of etching is suppressed by this method and the work of high efficient and stable track width precision can be performed.例文帳に追加

この方法によりエッチング時に上部磁気コアや記録ギャップ部への再付着の量が押さえられ、高効率で安定したトラック幅精度の加工が可能になる。 - 特許庁

In order to correct an error in a profile parameter, the above-mentioned procedure is supplied to a track/stepper and an etcher to control lithography and etching processes.例文帳に追加

プロフィール・パラメータのエラーを補正するために上述した手法をトラック／ステッパおよびエッチャに供給してリソグラフィおよびエッチングのプロセスを制御することができる。 - 特許庁

In this case, a resist 40 regulating a track width is coated on the write part 33A of the write pole 33 and next the write pole 33 is subjected to etching by using the resist.例文帳に追加

本発明では、前記書き込みポールの書き込み部（３３Ａ）上にトラック幅を規定するレジスト（４０）を塗布し、次にこのレジストを利用して前記書き込みポールをエッチングする。 - 特許庁

Since the side wall 5 formed on the side face of a magnetic pole 4 by etching back the plated base layer 2 does not have an influence on writing because of the smallness of the saturation magnetic flux density, a track width is regulated by the width of the magnetic pole 4, thus preventing the track width from being increased by the side wall 5.例文帳に追加

めっきベース層２のエッチバックにより磁極部４側面に形成されたサイドウォール５は、飽和磁束密度が小さいため書込には影響しないので、トラック幅は磁極部４の幅で規定され、サイドウォール５によるトラック幅の拡幅が起こらない。 - 特許庁

Using a semiconductor laser as a light source, an inorganic resist (a phase change film etc.) is irradiated with the laser beam to change its state, and the narrow track pitch substrate is obtained by development treatment and etching treatment.例文帳に追加

光源に半導体レーザを用い、無機レジスト（相変化膜など）にレーザビームを照射して状態変化させ、現像処理及びエッチング処理により狭トラックピッチ基板を得る。 - 特許庁

Then, the frame is removed and, further, the unnecessary part of the substrate film 21 other than a part present blow the track width defining layer 12a is removed by using dry etching such as ion milling.例文帳に追加

次に、フレームを除去し、更に、下地膜２１のうち、トラック幅規定層１２ａの下に存在する部分以外の不要な部分をイオンミリング等のドライエッチングを用いて除去する。 - 特許庁

To prevent an increase of effective recording track width by utilizing local etching, to make it possible to precisely control magnetic pole width and to prevent the recording characteristic deterioration due to an edge formed at a magnetic layer by means of magnetic pole trimming using a local etching method.例文帳に追加

局部的なエッチングを利用して、実効的な記録トラック幅の増加を防止し、且つ磁極幅を精度よく制御することを可能にすると共に、局部的なエッチング方法を用いた磁極トリミングによって磁性層に形成されるエッジによる記録特性の劣化を防止する。 - 特許庁

A cylindrical straight pore canal having a uniform pore diameter is formed on an insulating membrane to form a filter membrane, by using at least one among a track-etching method, a photolithographic method, a punching method, a replica method and a laser method.例文帳に追加

絶縁膜に円筒状かつ真直であり、均一な孔径の孔道を形成してろ過膜を、トラックエッチング法、フォトリソグラフィ法、パンチング法、レプリカ法及びレーザー法の少なくとも一つを用いて形成する。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing a magnetic recording medium reducing magnetic interference in a track direction by uniform etching and improving recording density and to provide the magnetic recording medium obtained by the manufacturing method.例文帳に追加

本発明の目的は、均一なエッチングによりトラック方向の磁気的干渉を低減し、記録密度の向上が可能な、磁気記録媒体の製造方法、および当該製造方法により得られた磁気記録媒体を提供することにある。 - 特許庁

Accordingly, since the height of a removable proturberance can be kept track of in advance based on the thickness of a resist layer 22 to be formed, neither too much nor too little etching will allow a proturberance to be properly removed that protrudes out of the surface of the cap layer 5.例文帳に追加

したがって、形成するレジスト層２２の厚さに基づいて、除去可能な突起物の高さを予め把握できるので、過不足のないエッチングによって、キャップ層５の表面から突出する突起物を適切に除去できる。 - 特許庁

In a refill film formed at the beginning among the track width direction refill film or the element height direction refill film 6, a layer 14 which contacts with the magnetoresistive effect film 3 is formed with materials which has late etching rate, but can suppress property degradation by heat treatment, and a layers 15 which are other than the layers which contact with the magnetoresistive effect film are formed with the material having fast etching rate.例文帳に追加

トラック幅方向リフィル膜又は素子高さ方向リフィル膜６のうち最初に形成するリフィル膜を、磁気抵抗効果膜３に接している層１４はエッチングレートが遅いが、熱処理による特性劣化を抑えることのできる材料で形成し、磁気抵抗効果膜に接している層以外の層１５はエッチングレートの速い材料で形成する。 - 特許庁

In the formation of lead electrodes 4 electrically divided by a very small track width by EB drawing and etching in both sides of the GMR element, the end point detection land 6 of a substrate AlTiC substrate 1 is installed in a part other than the GMR, and the end point of etching is detected by using an optical microscope to check the exposure of the substrate AlTiC substrate 1.例文帳に追加

ＧＭＲ素子両側にＥＢ描画とエッチングにて微細なトラック幅寸法で電気的分割されたリード電極４を形成する際に、ＧＭＲ以外の部分に下地ＡｌＴｉＣ基板１の終点検出ランド６を設け、光学顕微鏡にて下地ＡｌＴｉＣ基板１の露出を確認することでエッチングの終点を検出する。 - 特許庁

When the oscillatory arm 21 oscillates, an oxidizing liquid supply position P1 and an etching liquid supply position P2 move synchronously on a substrate W rotating while being held by a spin chuck 1 along a common track T passing the center of rotation of the substrate W.例文帳に追加

揺動アーム２１が揺動されると、酸化性処理液供給位置Ｐ１およびエッチング液供給位置Ｐ２は、スピンチャック１に保持されて回転される基板Ｗ上を、基板Ｗの回転中心を通る共通の軌道Ｔに沿って同期して移動する。 - 特許庁

When a substrate is directly etched, the width Wa at the boundary between the photosensitive layer and a supporting body corresponding to the grooves prior to etching is so set as to attain (T.P×0.50)-45 nm≤Wa≤(T.P×0.60)+45 nm with respect to the track pitch T.P.例文帳に追加

基板を直接エッチングする場合には、エッチング前のグルーブに対応する感光層と支持体との境界面における幅ＷａをトラックピッチＴ．Ｐに対して（Ｔ．Ｐ×０．５０）−４５ｎｍ≦Ｗａ≦（Ｔ．Ｐ×０．６０）＋４５ｎｍとなるように設定する。 - 特許庁

To provide a magnetoresistive magnetic head made correspondent to narrow tracks and a method for manufacturing the magnetic head by which the level difference in the base is eliminated when the lead head track of the magnetoresistive magnetic head is formed, and degradation in the dielectric voltage due to overetching is prevented when the magnetoresistance film is patterned by etching.例文帳に追加

電極間隔を決定するためのホトレジストパターンを形成する時点で下地パターンの段差が大きいと、安定的な狭トラック形成が不可能となる事、磁気抵抗効果膜をエッチングでパターンニングする時のオーバーエッチングによって、下部絶縁膜の膜厚が薄くなり、絶縁耐圧が悪化する事。 - 特許庁

To provide an optical recording medium in which cross-write is suppressed by suppressing spread of heat and a track pitch is greatly reduced as compared with the conventional one, and to provide a method for manufacturing the medium at a low cost, with which photo-lithography used for manufacturing semiconductor equipment and etching work using a vacuum apparatus are not needed.例文帳に追加

熱の拡がりを抑制することによりクロスライトを抑制し、トラックピッチを従来品よりも大幅に縮小した光記録媒体の提供、及び、半導体装置の製造で用いられるフォトリソグラフィーや、真空装置を用いるエッチング加工などを行わないで済む、前記媒体の安価な製造方法の提供。 - 特許庁

After forming the lower pole 1 and the upper pole 2, focused ion beam etching is applied to trim them from the sliding surface to back the depth zero line except their tips 1A, 2A made to fit the recording track in width, to manufacture this head.例文帳に追加

また、下部磁極１及び上部磁極２を形成した後に、下部磁極１及び上部磁極２のうち所定の記録トラック幅となる部分１Ａ，２Ａを除いた部分に対して、収束イオンビームエッチングによりヘッド摺動面から磁気ギャップのデプスゼロラインよりも奥まで後退するようにトリミング処理する工程を行って、上記薄膜磁気ヘッド１０を製造する。 - 特許庁

Consequently, a discrete track medium (DTM) and a patterned medium (PM), with which recording corresponding to the pattern formed with thermal imprinting is feasible, are manufactured without performing processes such as etching and ashing (that is, without preparing equipment for performing these processes), the magnetic disk with which high density recording is feasible is manufactured with simplicity and at a low cost.例文帳に追加

したがって、熱インプリントで形成されたパターンに応じた記録が可能なディスクリート・トラックメディア（ＤＴＭ）やパターンドメディア（ＰＭ）が、エッチングやアッシングなどの処理を行うことなく（すなわち、これらの処理を行うための設備を用意することなく）製造できるので、高密度記録が可能な磁気ディスクを簡易かつ低コストで製造することができる。 - 特許庁