応力差の英語

フリップチップ用のパッド部の段差部上のアンダーバリアメタル（ＵＢＭ）による応力低減構造として、段差部に応力が発生しにくい応力設定、および構造として段差の抑制、絶縁膜の収縮抑制を行い低応力化構造とする。例文帳に追加

To provide a stress reducing structure by an under barrier metal (UBM) on a step part of a pad part for a flip-chip, which is a stress lowering structure for setting stress in order to prevent stress on the step part, suppressing a step as a structure, and suppressing contraction of an insulation film. - 特許庁

提案する方法では、主応力方向ψ^0および主応力(σ^0_1, σ^0_2)の残留応力モデルに、大きさの異なる二つの荷重P_1 ,P_2 (P_2 = mP_1, mは実数)を作用させることにより生じたそれぞれの合成応力の主応力方向と主応力差を測定する。例文帳に追加

The main stress direction and main stress difference of the synthesized stress, generated, by making two loads of different value P_1, P_2(P_2=mP_1m, m is real number) to be acted on the residual stress model of main stress direction ψ^0 and main stress (σ^0_1, σ^0_2), are measured. - 特許庁

燃料噴射弁における高圧送油路交差部の応力低減構造例文帳に追加

STRESS REDUCTION STRUCTURE OF HIGH-PRESSURE OIL FEED PASSAGE INTERSECTION PART IN FUEL INJECTION VALVE - 特許庁

ここで、第１の絶縁膜１０１と第２の絶縁膜１０２との間の応力差は、第１の絶縁膜１０１と導電膜１０４との間の応力差よりも小さい。例文帳に追加

Here, a stress difference between the first insulating film 101 and the second insulating film 102 is smaller than that between the first insulating film 101 and the conductive form 104. - 特許庁

δが光の位相差、ｄが導光基板５２０の厚さ、Ｃが相対応力の光学定数、Δσが応力差、λが光の波長を示す場合、両方の応力／ひずみによる光の位相差δは次式δ＝２πＣｄΔσ／λを満足する。例文帳に追加

The phase difference δ of light caused by the both stress strains satisfies the following equation δ=2πCd/λ wherein δ designates phase difference, d designates the thickness of the light guide plate 520, C designates the optical constant of a relative stress, Δσdesignates a stress difference, and λ designates the wave length of light. - 特許庁

これにより、材料の差異による熱膨張差に基づくはんだ部２の応力ひずみの発生を低減できる。例文帳に追加

Accordingly, generation of stress-strain of the soldered portion 2, based on the difference in the thermal expansion resulting from the difference in materials, can be reduced. - 特許庁

キー３０２の基端部には応力緩和溝３０３，３０４が形成されている、応力緩和溝３０３，３０４には、応力緩和段差凹部４０８、４０９が連続して設けられている。例文帳に追加

Stress relaxing grooves 303, 304 are formed at the base end of a key 302, and a stress-relaxing stepped recesses 408, 409 are provided continuously at the stress-relaxing grooves 303, 304. - 特許庁

ただ一度の解析により求めた応力拡大係数中の誤差の程度を評価し、結果的に、精度の高い応力拡大係数を短時間で算出することができる応力拡大係数の誤差評価方法を提供する。例文帳に追加

To provide an error evaluation method to evaluate the degree of errors in the stress intensity factor which is obtained by analysis done only once, eventually, enables the calculation of the highly precise stress intensity factor in a short time. - 特許庁