「"Pattern Defect"」に関連した英語例文の一覧と使い方(2ページ目) - Weblio英語例文検索

METHOD AND SYSTEM FOR PATTERN DEFECT INSPECTION AND COMPUTER-READABLE STORAGE MEDIUM WITH RECORDED PATTERN DEFECT INSPECTION PROGRAM例文帳に追加

パターン欠陥検査方法及びパターン欠陥検査システム並びにパターン欠陥検査プログラムを記録したコンピュータ読み取り可能な記録媒体 - 特許庁

PATTERN DEFECT INSPECTION APPARATUS AND METHOD, AND METHOD FOR MANUFACTURING PHOTOMASK例文帳に追加

ムラ欠陥検査装置及び方法、並びにフォトマスクの製造方法 - 特許庁

REPAIR METHOD OF PATTERN DEFECT AND MANUFACTURING METHOD OF PLASMA DISPLAY PANEL例文帳に追加

パターン欠陥のリペア方法およびプラズマディスプレイパネルの製造方法 - 特許庁

The correcting device corrects a pattern defect of the display in which an electronic circuit pattern having the pattern defect on a surface of a substrate is formed, and is equipped with a plasma irradiation means of irradiating an area of the pattern defect locally with plasma to correct the pattern defect.例文帳に追加

基板の表面にパターン欠陥を有する電子回路パターンが形成された表示装置の前記パターン欠陥を修正する修正装置であって、 前記パターン欠陥の領域に局所的なプラズマの照射によって前記パターン欠陥を修正するプラズマ照射手段を備えてなる。 - 特許庁

FIELD PATTERN DEFECT DETECTION METHOD IN SEMICONDUCTOR PRODUCTION PROCESS例文帳に追加

半導体製造工程におけるＦｉｅｌｄパターン欠陥検出方法 - 特許庁

COLORED COMPOSITION AND COLORED PATTERN DEFECT CORRECTION METHOD例文帳に追加

着色組成物およびこれを用いた着色パターン欠陥修正方法 - 特許庁

PHOTOMASK, METHOD FOR INSPECTING PATTERN DEFECT AND METHOD FOR PRODUCING SEMICONDUCTOR DEVICE例文帳に追加

フォトマスク、パターン欠陥検査方法、及び半導体装置の製造方法 - 特許庁

PHOTOMASK PATTERN DEFECT INSPECTING METHOD AND DETECTING METHOD FOR FINE FIGURE PATTERN例文帳に追加

フォトマスクパタン欠陥検査方法および微細図形パタンの検出方法 - 特許庁

METHOD FOR CORRECTING FINE PATTERN DEFECT OF FLAT SURFACE SUBSTRATE AND CORRECTING DEVICE例文帳に追加

平面基板の微細パターン欠陥修正方法および修正装置 - 特許庁

A pattern defect of the absorbing film 4 is corrected, and then, the thickness of the buffer film 3 on a portion below the pattern defect is thinned to form a film thin portion 5.例文帳に追加

吸収膜４のパターン欠陥を修正した後、パターン欠陥の下方にある部分の緩衝膜３の膜厚を薄くして膜薄部５を形成する。 - 特許庁

To provide a pattern defect classifying and detecting method which can accurately detect a pattern defect and can classify the type of the defect and detect it.例文帳に追加

パターン欠陥を正確に検出できるとともに、その欠陥の種類を分別して検出することができるパターン欠陥分別検出方法を提供する。 - 特許庁

DISPENSER DEVICE, PATTERN DEFECT CORRECTION DEVICE, AND METHOD FOR ELIMINATING CLOGGING OF DISPENSER例文帳に追加

ディスペンサ装置、パターン欠陥修正装置、ディスペンサの詰まり解消方法 - 特許庁

The pattern defect of the absorbing film 4 is corrected, and then, the line width of the absorbing film 4 of a portion adjacent in a horizontal direction of the pattern defect is made narrow.例文帳に追加

吸収膜４のパターン欠陥を修正した後、パターン欠陥の水平方向隣にある部分の吸収膜４のパターンの線幅を狭くする。 - 特許庁

Focused ion beam used as the pattern defect correcting means allows ion implantation into the buffer layer 3 of the portion having the corrected pattern defect.例文帳に追加

パターン欠陥修正手段として用いる集束イオンビームにより、パターン欠陥が修正された部分の緩衝膜３にはイオンが注入されている。 - 特許庁

ILLUMINATION OPTICAL SYSTEM, PATTERN DEFECT INSPECTION DEVICE USING IT AND OPTICAL FIBER例文帳に追加

照明光学系及びこれを用いたパターン欠陥検査装置及び光ファイバー - 特許庁

REFLECTION IMAGE FORMING ELECTRON MICROSCOPE AND PATTERN DEFECT INSPECTION DEVICE USING IT例文帳に追加

反射結像型電子顕微鏡及びそれを用いたパターン欠陥検査装置 - 特許庁

The pattern correcting mechanism 2 automatically corrects a pattern defect of a glass substrate.例文帳に追加

パターン修正機構２は、ガラス基板のパターン欠陥を自動的に修正する。 - 特許庁

To provide a system and a method for pattern defect inspection which can speed up detailed analysis of detected pattern defect in semiconductor circuit pattern formation process, by skipping visual reinspection through a review device.例文帳に追加

半導体回路パターン形成工程において、レビュー装置による目視再検査を省略して、検出したパターン欠陥の詳細な解析を迅速化する。 - 特許庁

IMAGE CORRECTION DEVICE, PATTERN TEST DEVICE, IMAGE CORRECTION METHOD, AND PATTERN DEFECT TEST METHOD例文帳に追加

画像補正装置、パターン検査装置、画像補正方法、及び、パターン欠陥検査方法 - 特許庁

To provide a pattern defect correcting method and a pattern defect correcting device capable of satisfactorily correcting pattern defects, and enhancing correction efficiency.例文帳に追加

パターン欠陥修正を良好に行なうとともに修正効率の向上を図ることが可能なパターン欠陥修正方法およびパターン欠陥修正装置を提供する。 - 特許庁

SYSTEM FOR INSPECTING/CORRECTING ELECTRODE LAYER PATTERN DEFECT OF CAPACITANCE TYPE TRANSMISSIVE TOUCH PANEL例文帳に追加

静電容量式透過型タッチパネルの電極層パターン欠陥検査修正システム - 特許庁

IMAGE CORRECTION DEVICE, PATTERN INSPECTION DEVICE, IMAGE CORRECTION METHOD, AND PATTERN DEFECT INSPECTION METHOD例文帳に追加

画像補正装置、パターン検査装置、画像補正方法、及び、パターン欠陥検査方法 - 特許庁

METHOD AND SYSTEM FOR INSPECTING PATTERN DEFECT OF KEYBOARD OF VARIOUS ELECTRONIC DEVICES, AND COMPUTER- READABLE RECORDING MEDIUM WHERE PATTERN DEFECT INSPECTION PROGRAM IS RECORDED例文帳に追加

各種電子機器のキ—ボ—ドのパタ—ン欠陥検査方法及びパタ—ン欠陥検査システム並びにパタ—ン欠陥検査プログラムを記録したコンピュ—タ読み取り可能な記録媒体 - 特許庁

PHOTOMASK, METHOD FOR DETECTING PATTERN DEFECT AND METHOD FOR FORMING PATTERN BY USING THE SAME例文帳に追加

フォトマスク、そのパターン欠陥検出方法及びそれを用いたパターン形成方法 - 特許庁

IMAGING CONDITION DETERMINATION METHOD FOR PERIODIC PATTERN, DEFECT INSPECTION METHOD, AND DEFECT INSPECTING DEVICE例文帳に追加

周期性パターンの撮像条件決定方法、欠陥検査方法、および欠陥検査装置 - 特許庁

COLORING COMPOSITION FOR CORRECTING COLOR PATTERN DEFECT AND METHOD FOR CORRECTING DEFECT OF COLOR FILTER例文帳に追加

着色パターン欠陥修正用着色組成物およびカラーフィルタの欠陥修正方法 - 特許庁

COLORANT COMPOSITION FOR CORRECTING COLOR PATTERN DEFECT AND METHOD FOR CORRECTING COLOR FILTER DEFECT例文帳に追加

着色パターン欠陥修正用着色組成物およびカラーフィルタの欠陥修正方法 - 特許庁

To provide a technology capable of detecting a circuit pattern defect at a high S/N ratio.例文帳に追加

高いＳ／Ｎ比で回路パターンの欠陥を検出することができる技術を提供する。 - 特許庁

To provide a method for inspecting a phase shift mask, which never detects a false defect of a pattern as a pattern defect by mistake when a pattern defect of the phase shift mask is inspected.例文帳に追加

位相シフトマスクのパターン欠陥検査に際し、パターンの疑似欠陥を誤ってパターン欠陥として検出することがないようにした、位相シフトマスクの検査方法を提供する。 - 特許庁

Then image data of an inspection image obtained by a pattern defect inspecting device with inspection wavelength is compared and contrasted with the data for phase shift mask correspondence inspection to detect a pattern defect.例文帳に追加

続いて、検査波長でのパターン欠陥検査装置により得た検査画像の画像データと位相シフトマスク対応検査用データとを比較対照してパターン欠陥を検出する。 - 特許庁

The defect detection sensitivity of the inspection apparatus for a pattern defect is inspected by the above detection result.例文帳に追加

そして、その検出結果から、パターン欠陥検査装置の欠陥検出感度を検査する。 - 特許庁

To prevent deviation of specification relating to optical characteristics of a mask blank and to prevent a pattern defect in a transfer material.例文帳に追加

マスクブランクの光学特性に係る仕様の逸脱や、被転写体のパターン欠陥を防止する。 - 特許庁

TREATING AGENT FOR DECREASING CHEMICAL AMPLIFICATION TYPE RESIST PATTERN DEFECT AND RESIST PATTERN FORMING METHOD USING THE SAME例文帳に追加

化学増幅型レジストパターンディフェクト低減用処理剤及びそれを用いるレジストパターン形成方法 - 特許庁

Visual inspection is carried out to detect the defect such as a pattern defect and a foreign matter on the substrate.例文帳に追加

そして、基板上のパターン欠陥や異物の欠陥を検出する外観検査を行う。 - 特許庁

A defect detecting part 15 determines whether a pattern defect is found based on the respective difference image detection results.例文帳に追加

欠陥検出部１５は、それぞれの差画像検出結果をもとに、パターン欠陥の有無を判定する。 - 特許庁

To provide an inspection method of a pattern defect capable of stably detecting a target defect in various processes by reducing the misdetection of grain or morphology or the effect of interference light intensity irregularity, and an inspection device of the pattern defect.例文帳に追加

グレインやモホロジーの誤検出や干渉光強度ムラの影響を低減して、様々なプロセスにおけるターゲット欠陥を安定に検出できるパターン欠陥検出方法及びその装置を提供すること。 - 特許庁

To solve the problem of failures in search processing due to foreign matters sticking on a sample or a pattern defect in a template matching processing.例文帳に追加

テンプレートマッチング処理において、試料に付着した異物やパターン欠陥によってサーチ処理を失敗する。 - 特許庁

To detect easily a fine pattern defect, while reducing a storage capacity required for an image storage part.例文帳に追加

画像記憶部に要求される記憶容量を低減しつつ微細なパターンの欠陥検出を容易に実現する。 - 特許庁

To obtain a foreign object and pattern defect inspecting apparatus which is capable of easily discriminating the types of foreign objects and pattern defects.例文帳に追加

異物や欠陥の種類を容易に区別することができる異物及びパターン欠陥検査装置を得る。 - 特許庁

To provide a circuit pattern defect inspection method of substrate capable of reducing the risk of wrong measurements and reducing the measurement time.例文帳に追加

誤測定の可能性を減少させ、測定時間を節減する基板の回路パターン欠陥検査方法を提供する。 - 特許庁

To make it possible to attain a fine pattern having an excellent shape by preventing the generation of pattern defect in double patterning.例文帳に追加

ダブルパターニングにおけるパターン不良の発生を防止して、良好な形状を有する微細パターンを得られるようにする。 - 特許庁

To provide an inspection apparatus and an inspection method for simultaneously detecting a phase defect and a pattern defect or a foreign substance.例文帳に追加

位相欠陥と、パターン欠陥または異物とを、同時に検出可能な検査装置および検査方法を提供する。 - 特許庁

To obtain a fine pattern having an excellent form by preventing the occurrence of a pattern defect by a double patterning method.例文帳に追加

ダブルパターニング法によるパターン不良の発生を防止して、良好な形状を有する微細パターンを得られるようにする。 - 特許庁

Pattern matching by a 'shaking method' is operated to a master pattern M and an object pattern P being multivalue images having gradation in this pattern defect detecting method.例文帳に追加

階調を備えた多値画像であるマスターパターンＭとオブジェクトパターンＰに対して「揺すらせ法」によるパターンマッチングを行う。 - 特許庁

To provide a device and method of correcting a pattern defect on a substrate having a wide-ranging thickness and shape.例文帳に追加

広範囲の厚さと形状を有する基板上のパターン欠陥部を修正する装置および修正方法を提供する。 - 特許庁