「"Pattern Defect"」に関連した英語例文の一覧と使い方(3ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide a pattern defect inspection device reducing pseudo defect detection due to uneven colors and capable of improving sensitiveness of actual defect detection.例文帳に追加

色むらによる疑似欠陥検出を減少させ実欠陥検出の感度を向上させることのできるパターン欠陥検査装置を提供する。 - 特許庁

The line width of the pattern of the absorbing film 4 adjacent to a pattern defect correcting portion is made narrow, thereby improving the reflection rate.例文帳に追加

パターン欠陥修正部に隣接する吸収膜４のパターンの線幅を狭くすることにより、反射率を向上させることができる。 - 特許庁

Consequently, generation of pattern defect is retarded at the time of manufacture and an excellent performance for discharging bubbles in ink is provided as one structural advantage.例文帳に追加

したがって、製造時のパターン欠陥が発生しにくく、また、その構造上の利点として、インク中の気泡の排出性に優れている。 - 特許庁

Then the command value of the laser apparatus is adjusted on the basis of the operating information items so as to prevent a pattern defect on the integrated circuit chip.例文帳に追加

そしてこれらの動作情報に基づいて集積回路チップにパターン不良が生じないようにレーザ装置の指令値を調整する。 - 特許庁

To provide a reticle repair method which can exactly and easily detect the end point of repair processing in repair processing of the pattern defect of a reticle.例文帳に追加

レチクルのパターン欠陥を修正加工する際に的確且つ容易に修正加工の終点を検出できるレチクルリペア方法を提供する。 - 特許庁

The reference chip is compared with the pattern of the inspection chip, and a defect generation place where a pattern defect can be easily generated is specified in the layout (S3 to S5).例文帳に追加

リファレンスチップと検査チップのパターンを比較し、レイアウト内においてパターン欠陥が生じやすい欠陥発生箇所を特定する（Ｓ３〜Ｓ５）。 - 特許庁

METHOD AND SYSTEM OF PATTERN DEFECT INSPECTION BY USING ELECTRON BEAM INSPECTION DEVICE AND MIRROR ELECTRON PROJECTION TYPE OR MULTIPLE BEAM TYPE ELECTRON BEAM INSPECTION DEVICE例文帳に追加

電子線検査装置を用いたパターン欠陥検査方法及びそのシステム、並びに写像投影型又はマルチビーム型電子線検査装置 - 特許庁

To provide a pattern transfer method which attains high throughput by suppressing the occurrence of pattern defect in a step for removing a template from a resist.例文帳に追加

レジストからテンプレートを離す工程において、パターン欠陥の発生を抑制し高スループットを実現するパターン転写方法を提供する。 - 特許庁

To prevent losing of a defect correcting material in a washing precess of carbon-based contamination in a method for correcting pattern defects and a pattern defect correcting device.例文帳に追加

パターン欠陥修正方法及びパターン欠陥修正装置に関し、炭素系汚染の洗浄プロセスにおける欠陥修正材料の消失を防止する。 - 特許庁

To provide an integrated substrate inspection apparatus which is automated and carries out all of EBR/EEW inspection, pattern defect inspection, and reticle error inspection on a substrate.例文帳に追加

基板のEBR/EEW検査、パターンの欠陥検査及びレティクルエラー検査を全部実施することができる自動化された統合基板検査装置を提供する。 - 特許庁

Since stripping or floating of a DFR pattern formed before electroforming the second layer is suppressed, generation of pattern defect can be suppressed.例文帳に追加

したがって、２層目の電鋳前に形成するＤＦＲパターンの剥がれや浮きの不良の発生を抑制して、パターン欠陥の発生を抑制することができ。 - 特許庁

As a result, it is made difficult for a user to recognize a pattern defect and dust deposited on the diffuser 16, and the effect of image quality degradation is suppressed.例文帳に追加

その結果、ディフューザ１６に付着したゴミやパターン欠陥をユーザが認識し難くすることでき、画質低下の影響を抑制することができる。 - 特許庁

To provide a pattern forming method that can reduce pattern defect in an imprint lithography method used for the manufacture of semiconductor device or the like.例文帳に追加

半導体装置等の製造に用いられるインプリントリソグラフィ方法において、パターン欠陥を低減することができるパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

An image processing section 140 carries out the EBR/EEW inspection on the substrate based on the first image, and carries out the pattern defect inspection and the reticle error inspection based on the second image.例文帳に追加

イメージ処理部１４０は第１イメージから基板のEBR/EEW検査を実施し、第２イメージからパターンの欠陥検査及びレティクルエラー検査を実施する。 - 特許庁

To prevent a pattern defect from being caused by preventing an immersion lithography device from being contaminated by removing a bump formed on a wafer surface before immersion lithography processing.例文帳に追加

ウェハ表面に形成したハンプを液浸露光処理前に除去することで、液浸露光装置の汚染を防止し、パターン不良の発生を防止する。 - 特許庁

To provide a pattern defect inspection apparatus and an inspection method having enhanced pixel resolution and high defect detection performance, by excluding the noise due to radiation.例文帳に追加

画素分解能を高め、また、放射線によるノイズを排除することで、欠陥検出能力の高いパターン欠陥検査装置及び検査方法を提供する。 - 特許庁

To provide a photoresist composition to be used for the manufacture a semiconductor, superior in uniform coating and small in pattern defect after development and wide in focal depth.例文帳に追加

半導体製造に使用されるフォトレジストであって、塗布均一性に優れ、現像後のパターン欠陥が少なく、且つ焦点深度の広い組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a pattern defect inspecting device capable of simultaneously inspecting both of a chrome pattern and a phase shift pattern without detecting pseudo defect in a photomask in which the chrome pattern and the phase shift pattern coexist.例文帳に追加

クロムパターンと位相シフトパターンの混在フォトマスクにおいて、擬似欠陥を検出すること無く、両パターンを同時に検査できるパターン欠陥検査装置を提供する。 - 特許庁

To provide a pattern defect inspecting method and device capable of accurately detecting a minute defect after specifying its location.例文帳に追加

微細な欠陥を、その位置を特定した上で正確に検出することができるパターン欠陥検査方法およびパターン欠陥検査装置を提供することを目的とする。 - 特許庁

To provide a method of making high-precision position corrections of imaging data of a mask pattern in an easy method, and to provide a high-reliability pattern defect inspecting method.例文帳に追加

マスクパターンの撮像データに対して簡便な方法により、高精度の位置補正を行う方法を実現し、高信頼性のパターン欠陥検査方法を実現する。 - 特許庁

Then it uses the 2nd brightness illuminometer reference value to determine whether the unit determined as defective actually has any pattern defect or non-defective foreign material.例文帳に追加

そして、不良として判別されたユニットは第２の明るさ照度計基準値を利用して実際にパターン不良であるか、良品性異物による不良であるかを判別する。 - 特許庁

To accurately evaluate the defect detection sensitivity of an inspection apparatus for a defect in a mask pattern by suppressing influences of the shift of a pattern defect created in a basic pattern from a design value.例文帳に追加

基本パターンに作り込んだパターン欠陥の、設計値からのズレによる影響を抑えて、正確にマスクパターンの欠陥検査装置の欠陥検出感度を評価する。 - 特許庁

To provide a semiconductor device capable of preventing occurrence of a pattern defect in a wafer peripheral part when chips are arranged in a surface of a semiconductor wafer, and to provide a method of manufacturing the same.例文帳に追加

半導体ウエハの面内にチップを配列する場合に、ウエハ周辺部のパターン不良の発生を防止できる半導体装置およびその製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a curable composition for nanoimprint which causes no mold contamination or pattern defect even after repeated pattern transfer and excels in line edge roughness after dry etching.例文帳に追加

繰り返しパターン転写を行ってもモールド汚れ、パターン欠陥が発生せず、かつドライエッチング後のラインエッジラフネスに優れるナノインプリント用硬化性組成物を提供する。 - 特許庁

The fine pattern correcting device is provided for correcting a pattern defect part of a fine pattern provided on a plane substrate by applying correcting liquid with the coating stylus 13.例文帳に追加

この微細パターン修正装置は、平面基板上に設けた微細パターンのパターン欠陥部に塗布針１３によって修正液を塗布して修正するものである。 - 特許庁

The defect of wiring, that is formed by damascene method, is extracted by the pattern defect comparison inspection and SEM inspection and is identified to be a defect, that is ascertained by a process trace in advance.例文帳に追加

ダマシン法で形成された配線の欠陥をパターン欠陥比較検査およびＳＥＭ検査で抽出し、予め工程トレースによって判明した欠陥と同定する。 - 特許庁

It is desired that the residue is detected by using a pattern defect device, and that the residual site detected by using an electronic microscope device with an electronic ray under decompression.例文帳に追加

パターン欠陥装置を用いて残さを検出し、電子顕微鏡装置を用いて検出された残さ部位に減圧下において電子線を照射することも好ましい。 - 特許庁

To provide a pattern-inspecting device for reducing unneeded inspection time caused by the pattern defect of design-side data due to the inconveniences of a design data development circuit.例文帳に追加

設計データ展開回路の不具合による設計側データのパターン欠陥に起因する無駄な検査時間を削減することが可能なパターン検査装置を提供する。 - 特許庁

The reticle pattern is replaced as coordinate data by a certain means and the pattern defect is extracted by differential processing of this coordinate data and CAD coordinate data.例文帳に追加

レチクル検査装置では、レチクルパターンを何らかの手段で座標データとして置き換え、その座標データとＣＡＤ座標データとの差分処理よりパターン欠陥を抽出する。 - 特許庁

To provide a photomask which does not cause a pattern defect after exposure even when a glass substrate for the photomask contains air bubbles and other foreign matters inside.例文帳に追加

内部に気泡その他の異物を含むフォトマスク用ガラス基板であっても露光後にパターン欠陥が発生しないようなフォトマスクを提供することを技術的課題とする。 - 特許庁

To inspect a pattern defect on a sample, to recognize the causal relationship between abnormality in an apparatus and defect inspection, and to increase operating efficiency and reliability.例文帳に追加

試料上のパターン欠陥を検査することができ、且つ装置異常と欠陥検査の因果関係を認識することができ、装置稼動率及び信頼性の向上をはかる。 - 特許庁

The dummy patterns 2 are arranged in such a manner that at least one dummy pattern is present in the objective range of scanning by a mask pattern defect detecting device.例文帳に追加

ダミーパターン２は、パターン点在領域２２内では、マスクパターン欠陥検査装置の走査対象範囲内に少なくとも１個が存在するようにして配置されている。 - 特許庁

When the resin layer has a two-layered structure wherein the rugged surface is formed at a lower layer part and an upper layer part is flattened, an adhesion defect and a pattern defect of a rugged film are easily generated.例文帳に追加

この樹脂層が、下層部に凹凸を形成し、上層部に平坦化を持たせた二層構造の場合、凹凸膜の密着性およびパターン不良などが発生しやすい。 - 特許庁

To provide a technology for accurately inspecting pattern defect by eliminating a difference in level between sensor data and reference data, and eliminating recognition errors in detecting defects.例文帳に追加

パターンの欠陥を検査する技術で、センサデータと参照データのレべル差を解消し、欠陥検出の際の誤認識を無くして、正確な欠陥検査を行う技術を提供すること。 - 特許庁

To provide a photomask that can easily be manufactured and inspected, has small deterioration in transfer shape of a light shielding pattern, and can prevent a light shielding pattern defect due to discharge.例文帳に追加

簡易に作製及び検査することができ、遮光パターンの転写形状の劣化が小さく、かつ放電による遮光パターン欠陥を防止することができるフォトマスクを提供すること。 - 特許庁

To provide an imprint mold which can manufacture a bit-patterned medium having a high S/N, suppress the occurrence of a pattern defect and manufacture the bit-patterned medium in a comparatively short period of time, and the manufacturing method thereof.例文帳に追加

高Ｓ／Ｎを有するビットパターンドメディアを製造でき、パターン欠陥の発生を抑制でき、製造を比較的短時間で行えるインプリントモールド及びその製造方法を提供する。 - 特許庁

To stably manufacture a transfer master disk substrate with a surface formed with rugged pattern excellent in line width accuracy, and excellent in pattern shape accuracy where pattern defect is inhibited.例文帳に追加

表面凹凸パターンの線幅精度が良好で、パターン欠陥が抑制されパターン形状精度が良好な転写用原盤基板を安定的に製造することを可能とする。 - 特許庁

Resultantly, a fine pattern defect formed on the swath on the die to be inspected can be easily detected, while reducing the storage capacity required for the image memory 51.例文帳に追加

その結果、画像メモリ５１に要求される記憶容量を低減しつつ被検査ダイのスワス上に形成された微細なパターンの欠陥検出を容易に実現することができる。 - 特許庁

To provide a mask blank that prevents disappearance of a resist pattern and also prevent a pattern defect upon producing a transfer mask by a semiconductor design rule (for a DRAM with hp half pitch of 65 nm or less), and also to provide a mask.例文帳に追加

半導体デザインルール（ＤＲＡＭ ｈｐ６５ｎｍ以下）の転写用マスクを作製する際、レジストパターンの消失を防止し、パターン欠陥を防止できるマスクブランク、及びマスクを提供する。 - 特許庁

To provide a method for detecting pattern defect in which the processing quantity in the detection of defect by the comparison of a pattern to be inspected with a non-defective pattern is reduced to improve the inspection speed.例文帳に追加

検査対象パターンを良品パターンと比較して欠陥を検出するときの処理量を削減して検査速度の向上を図ったパターン欠陥検出方法を提供する。 - 特許庁

Consequently, the amount z of irradiation light which is optimal for inspection can be set and neither a detection omission of a pattern defect nor a dummy defect is caused to precisely perform the pattern inspection.例文帳に追加

これにより、最適な検査用照射光量ｚが設定できることになり、パターン欠陥の検出漏れや擬似欠陥も起きなくなって、精度よくパターン検査を行うことができる。 - 特許庁

To provide an inspection device for pattern defects, capable of realizing high reliability stable pattern defect inspection, having high resolution relative to minute patterns by using an ultraviolet laser beam as the light source.例文帳に追加

紫外レーザ光を光源として微細パターンを高解像度で、しかも安定したパターン欠陥検査を高信頼性で実現するようにしたパターン欠陥検査装置を提供することにある。 - 特許庁

Thereby, in the each pixel 20R1, 20G1, 20B1 for R, G, B; pixel pattern density of corresponding pixel circuit become equal one another, and a pattern defect rate is reduced as a whole pixel circuit.例文帳に追加

これにより、Ｒ，Ｇ，Ｂ用の各画素２０Ｒ１，２０Ｇ１，２０Ｂ１において、対応する画素回路の画素パターン密度が互いに均等となり、画素回路全体としてのパターン欠陥率が低減する。 - 特許庁

This reticle repair method has a pattern transfer section comprising an electron beam scattering body and is a method of correction processing of the pattern defect of the reticle 13 used in exposure by electron beams.例文帳に追加

本発明に係るレチクルリペア方法は、電子線散乱体から構成されたパターン転写部を有し、電子線で露光する時に用いるレチクル１３のパターン欠陥を修正加工する方法である。 - 特許庁

Thus, the electro-optical device having high display quality, wherein light scattering properties is enhanced and the adhesion defect and the pattern defect are eliminated can be obtained without increasing the number of the manufacturing steps.例文帳に追加

したがって、本発明は、プロセス数を増やすことなく、光散乱特性を向上し、膜の密着性およびパターン不良を解決した、表示品位の高い電気光学装置を得ることができる。 - 特許庁