「イオンアシスト」に関連した英語例文の一覧と使い方 - Weblio英語例文検索

より高いイオンアシスト効果を得ることができる成膜装置を提供する。例文帳に追加

To provide a film deposition apparatus capable of obtaining the higher ion-assist effect than heretofore. - 特許庁

緩傾斜の第２種の斜め蒸着膜２３は、イオンアシスト蒸着によって形成される。例文帳に追加

The second oblique vapor deposition films 23 with gentle inclination are formed by ion-assist vapor deposition. - 特許庁

排気時間を最大限に短縮することが可能なイオンアシスト蒸着装置１を提供する。例文帳に追加

To provide an ion-assisted vapor deposition apparatus 1 capable of minimizing the exhaust time. - 特許庁

前記多層膜３，４，６，７は、真空蒸着、イオンプレーティング、イオンアシスト蒸着、スパッタリング法で成膜される。例文帳に追加

The multilayer films 3, 4, 6, 7 are deposited with vacuum deposition, ion plating, ion assisted deposition and sputtering method. - 特許庁

イオンアシストを併用した斜方蒸着によりＳｉＯ_2からなる無機配向膜を形成する際のイオン照射角度を最適化する。例文帳に追加

To optimize an ion irradiation angle when an inorganic alignment film is formed of SiO_2 by oblique vapor deposition using an ion assist in combination. - 特許庁

第３過程は、イオンプレーティング法又はイオンアシスト法により加速して緻密なＺｒＯ_2又はＨｆＯ_2を堆積する。例文帳に追加

In the third process, the dense ZrO_2 or HfO_2 is deposited by accelerating by an ion plating method or an ion assist method. - 特許庁

従って、イオン源を用いなくともイオンアシスト効果が得られ、基板１０表面に高密度な薄膜を成膜することができる。例文帳に追加

Accordingly, an ion assisted effect can be obtained without use of an ion source, and a thin film of high density can be deposited onto the surface of the substrate 10. - 特許庁

クラスターイオンアシストによる成膜方法において、成膜中の電子チャージによるフッ化物膜のフッ素欠損を防ぐ。例文帳に追加

To prevent the omission of fluorine in a fluoride film caused by an electronic charge during film deposition in a film deposition method using a cluster ion assist. - 特許庁

フッ化物を含む基板上またはフッ化物薄膜上に、真空蒸着法により酸化物膜を形成した後、酸化物膜の上にイオンプレーティング法またはイオンアシスト法により酸化物膜を形成する。例文帳に追加

After an oxide film is formed by a vacuum vapor deposition method on a substrate containing a fluoride or on a fluoride thin film, another oxide film is formed by an ion plating method or an ion assist method on the first oxide film. - 特許庁

フッ化物を含む基板やフッ化物薄膜上にイオンプレーティング法やイオンアシスト法で酸化物薄膜を形成するに際し、下地に光学的な吸収が発生することのない光学薄膜を作製する。例文帳に追加

To manufacture an optical thin film which does not cause optical absorption in the base when an oxide thin film is formed by an ion plating method or an ion assist method on a substrate containing a fluoride or on a fluoride thin film. - 特許庁

透明導電膜２、酸化発色膜３、電解質膜４、還元発色膜５、透明導電膜６が、真空蒸着、イオンプレーティング、イオンアシスト蒸着、スパッタリング法等で成膜される。例文帳に追加

The transparent conductive film 2, oxidation coloring film 3, electrolytic film 4, reduction coloring film 5, and transparent conductive film 6 are formed by vacuum vapor-deposition, ion plating, ion assisted vapor-deposition, sputtering, etc. - 特許庁

反射防止膜１５，１６を構成する交互積層体の高屈折率層及び低屈折率層のいずれもがイオンアシスト蒸着法により形成されている。例文帳に追加

Both the high refractive index layer and low refractive index layer in each mutual stacked body composing the antireflection films 15, 16 are formed by an ion beam assisted deposition process. - 特許庁

第１の成膜工程では、前照射工程後の基板１０１の粒子照射面にイオンビームを用いたイオンアシスト蒸着法によって第１の膜１０３を３ｎｍ以上の厚みで成膜する。例文帳に追加

In the first film-forming step, a first film 103 with the thickness of ≥3 nm is formed on a particle irradiation surface of the substrate 101 after the pre-irradiation step by an ion assisted vapor deposition method using ion beams. - 特許庁

これによって、基板の反り量が比較的大きく冷却効率が低いエッチング開始直後において、イオンアシスト作用による加熱で基板に割れ又はクラックが生じることを回避する。例文帳に追加

Thereby, a split or crack is prevented from occurring on the substrate by heating by an ion assist action immediately after the start of etching at which the amount of warpage of the substrate is relatively large and cooling efficiency is low. - 特許庁

入射角３０度以下のクラスターイオンアシストを用いた蒸着領域がレンズ４の有効面全体に及ぶように、揺動機構５によってレンズ４を揺動させる。例文帳に追加

The lens 4 is rocked by the rocking mechanism 5 in such a manner that a vapor deposition region using cluster ion assist with an incidence angle of ≤30° covers the whole of the effective face of the lens 4. - 特許庁

続いて、ＺｒＯ_２等の蒸着材料を電子ビームで加熱すると共にイオンソース４０からイオンを供給することによりイオンアシスト効果を付与しＺｒＯ_２膜を形成する。例文帳に追加

Successively, a vapor deposition material composed of ZrO_2 or the like is heated by an electron beam, and further, ions are fed from an ion source 40, thus ion assist effect is imparted thereto, so as to deposit a ZrO_2 film. - 特許庁

シリコンまたは無酸素同基材の上に、低屈折率層としてＺｎＳｅまたはＺｎＳを、高屈折率層としてＧｅを組み合わせた交互多層膜を複数組、イオンアシスト蒸着する。例文帳に追加

A plurality of sets of alternate multilayered films combined with ZnSe or Zns as low-refractive index layers and Ge as high-refractive index layers on a silicon or oxygen-free silicon substrate are formed by ion assisted vapor deposition. - 特許庁

ホルダー２に保持された被処理基板Ｗに、電子ビーム蒸発源２０からの蒸発粒子２０ａとクラスターイオン生成装置３０からのクラスターイオン３０ａを入射させることで、クラスターイオンアシストによるフッ化物膜の成膜を行う。例文帳に追加

Evaporated particles 20a from an electron beam evaporation source 20 and cluster ions 30a from a cluster ion generator 30 are made incident on the substrate W to be treated held to a holder 2; thus the deposition of a fluoride film by a cluster ion assist is performed. - 特許庁

クラスターイオンアシスト蒸着によって、クラスターイオンビームＬのビームスポットよりも大きいサイズの基板７に薄膜を形成する際に、基板７を回転させながら基板７の表面７Ａに膜材料を蒸着して薄膜を形成する。例文帳に追加

When a thin film is formed on a substrate 7 having a size larger than that of a beam spot of a cluster ion beam L by cluster ion assist deposition, a film material is deposited on a surface 7A of the substrate 7 while the substrate 7 is rotated to form the thin film. - 特許庁

基板の上に薄層を形成してなる耐擦傷性物品の製造方法であって、前記薄層は単層膜または多層膜からなり、前記単層膜および多層膜は、少なくとも酸化ジルコニウムからなる層を含み、前記酸化ジルコニウムからなる層を、窒素ガス、アルゴンガス、またはこれらの混合ガスを導入しながらイオンアシスト蒸着により前記基板上に形成する。例文帳に追加

The monolayer film and the multilayer film include a layer made of at least zirconium oxide, and the layer made of zirconium oxide is formed on the substrate according to an ion-assist deposition while introducing nitrogen gas, argon gas or a mixed gas thereof. - 特許庁

光学基材の上に、直にまたは他の層を介して透光性の第１の層を形成する工程と、チタン、ニオブ、チタンの酸化物およびニオブの酸化物からなる群から選ばれる少なくとも１つの組成をイオンアシスト蒸着することにより、第１の層の表層の少なくとも一部を低抵抗化する工程とを有する光学物品の製造方法を提供する。例文帳に追加

The method for producing the optical article includes a step of forming a light-transmissive first layer on an optical substrate directly or via another layer and a step of reducing electrical resistance of at least a portion of a surface layer of the first layer by ion-assisted deposition of at least one composition selected from a group consisting of titanium, niobium, titanium oxides and niobium oxides. - 特許庁

この反射防止膜の屈折率層の構造は第１〜第３の屈折率層の膜厚の総和を１８０〜２２０ｎｍとし、第１の屈折率層の膜厚を１０〜５０ｎｍとし、第３の屈折率層の膜厚を１５０〜１９０ｎｍとし、更に第１層〜第３層のみをイオンアシスト照射下で蒸着させる。例文帳に追加

The refractive layer of the antireflection film is constituted such that the total film thickness of the first to third refractive layers is 180 to 220 nm, the film thickness of the first refractive layer is 10 to 50 nm, the film thickness of the third refractive layer is 150 to 190 nm and, further, only the first to third layer are deposited under ion beam assisted irradiation. - 特許庁

イオンアシスト蒸着装置１は、排気口２９を持つ真空容器２と、排気口２９を介して真空容器２内を真空引きする排気系４と、真空容器２内の圧力を調整する圧力調整手段２０と、圧力調整手段２０を移動させるアクチュエータ２０４と、アクチュエータ２０４を移動させるタイミングを制御するコントローラ２０６とを有する。例文帳に追加

The ion-assisted vapor deposition apparatus 1 includes: a vacuum vessel 2 having an exhaust port 29; an exhaust system 4 for vacuumizing the inside of the vacuum vessel 2 through the exhaust port 29; a pressure regulating means 20 for regulating the pressure in the vacuum vessel 2; an actuator 204 for moving the pressure regulating means 20; and a controller 206 for controlling timing to move the actuator 204. - 特許庁