「オキシ窒化物」に関連した英語例文の一覧と使い方 - Weblio英語例文検索

この粉末はさらに、複数の２ホウ化マグネシウム粒子のそれぞれを囲繞する第２相であって、炭化物、窒化物、酸化物、ホウ化物、オキシ窒化物、オキシホウ化物、オキシ炭化物、あるいはこれらの組み合わせを含む第２相を含む。例文帳に追加

The powder further includes a second phase surrounding each of the plurality of magnesium diboride particles, where the second phase includes a carbide, a nitride, an oxide, a boride, an oxy-nitride, an oxy-boride, an oxy-carbide, or combinations thereof. - 特許庁

高度に窒素ドープされた超薄オキシ窒化物ゲート誘電体の形成方法例文帳に追加

METHOD OF FORMING EXTREMELY THIN OXYNITRIDE GATE DIELECTRIC HIGHLY DOPED WITH NITROGEN - 特許庁

ＣＶＤ法によるシリコン窒化物膜、シリコンオキシ窒化物膜、またはシリコン酸化物膜の製造方法例文帳に追加

METHOD FOR MANUFACTURING SILICON NITRIDE FILM, SILICON OXYNITRIDE FILM, OR SILICON OXIDE FILM BY CVD METHOD - 特許庁

校正用ガス調製装置、オゾン分析計、オキシダント計、及び窒素酸化物分析計例文帳に追加

CALIBRATION GAS ADJUSTING DEVICE, OZONE ANALYZER, OXIDANT METER, AND NITROGEN OXIDE ANALYZER - 特許庁

ダイオキシンおよび／または窒素酸化物を除去するための触媒装置の乾燥方法例文帳に追加

METHOD FOR DRYING CATALYST DEVICE FOR REMOVING DIOXIN AND/OR NITROGEN OXIDE - 特許庁

オキシ窒化物蛍光体及びその製造方法並びにそれを用いた発光装置例文帳に追加

OXYNITRIDE FLUOROPHOR AND METHOD FOR PRODUCING THE SAME AND LIGHT-EMITTING DEVICE USING THE SAME - 特許庁

排気ガス中の窒素酸化物、硫黄酸化物、ダイオキシン等の有害物質を光触媒の作用により分解する。例文帳に追加

Injurious substances such as nitrogen oxides, sulfur oxides and dioxins contained in an exhaust gas are decomposed by the action of a photocatalyst. - 特許庁

排ガス中からダイオキシン、有機塩素化合物、窒素酸化物および硫黄酸化物を経済的かつ高度に除去する除去剤を提供する。例文帳に追加

To obtain a remover which economically and highly removes dioxins, organic chlorine compounds, nitrogen oxides, and sulfur oxides from exhaust gas. - 特許庁

シリコン基板２００をアンモニアガスの存在下で短時間加熱することによって基板上に窒化物層を形成する工程と、窒化物層を酸化窒素ガスの存在下で短時間加熱することによって窒化物層を再酸化させ、オキシ窒化物層２０４を形成する工程とを含む。例文帳に追加

This method comprises steps of forming a nitride layer on a substrate by heating a silicon substrate 200 for a short time in the presence of an ammonia gas and reoxidizing the nitride layer to form an oxynitride layer 204 by heating the nitride layer for a short time in the presence of an nitrogen oxide gas. - 特許庁

ダイオキシンを含む芳香族ハロゲン化合物、一酸化炭素及び窒素酸化物を除去する触媒及びその用途例文帳に追加

CATALYST FOR REMOVING AROMATIC HALOGEN COMPOUND INCLUDING DIOXIN, CARBON MONOXIDE, AND NITROGEN OXIDE AND USE THEREOF - 特許庁

したがって、燃焼ガス中に含まれるダイオキシン類の生成を防止でき、ＮＯ_X (窒素酸化物) の発生も抑制できる。例文帳に追加

Thus, generation of the dioxins included in combustion gas can be prevented, and generation of NOx (nitrogen oxides) can also be restrained. - 特許庁

プラズマ触媒反応器、空気浄化装置、窒素酸化物浄化装置、燃焼排ガス浄化装置、ダイオキシン分解装置、及びフロンガス分解装置例文帳に追加

PLASMA CATALYTIC REACTOR, AIR CLEANING APPARATUS, NITROGEN OXIDE CLEANING APPARATUS, WASTE COMBUSTION GAS CLEANING APPARATUS, DIOXINE DECOMPOSING APPARATUS AND FLUOROCARBON GAS DECOMPOSING APPARATUS - 特許庁

炭素質材を利用する乾式排ガス処理装置を用いて、排ガス中の窒素酸化物、塩化水素、ダイオキシン類等を効率よく除去する。例文帳に追加

To remove nitrogen oxides, hydrogen chloride, dioxins or the like efficiently by a dry type waste gas treatment apparatus using a carbonaceous material. - 特許庁

窒素酸化物、ダイオキシン類等の有害物質を高効率で以って除去することが出来る灰溶融炉の排ガス処理装置を提供する。例文帳に追加

To provide an exhaust gas processing unit of an ash melting furnace which highly efficiently removes a toxic substance such as nitrogen oxides and dioxin and the like. - 特許庁

シリコンオキシ窒化物膜を形成する場合には、ジアミノシランをも前駆体ガスとして使用することができる。例文帳に追加

At the time of forming the silicon oxy-nitride film, diaminosilane can also be used as the precursor gas. - 特許庁

酸素供給源ガスをさらに反応チャンバに導入することにより、シリコンオキシ窒化物膜が得られる。例文帳に追加

The silicon oxy-nitride film is obtained by further introducing a supply source of oxygen into the chamber. - 特許庁

特に蛍光体として、発光中心としてＥｕ^２＋イオンを添加したＣａ−Ａｌ−Ｓｉ−Ｏ−Ｎ系オキシ窒化物ガラスを用いる。例文帳に追加

Especially as a phosphor, Ca-Al-Si-O-N based oxy-nitride glass in which an Eu^2+ ion is added as an emission center is used. - 特許庁

酸素プラズマで洗浄すると、低誘電率有機材料層の上にオキシ窒化物の薄膜が形成される。例文帳に追加

When the laminate is cleaned with the oxygen plasma, an oxynitride thin film 110 is formed on the organic material layer. - 特許庁

この方法により、窒化物を部分酸化して所望の組成を有する金属オキシナイトライドを得ることができる。例文帳に追加

By this method, the nitride is partially oxidized to obtain the metal oxynitride having a desired composition. - 特許庁

ＣＶＤ反応チャンバ（１１）に酸素源ガスをさらに導入することにより、シリコンオキシ窒化物が得られる。例文帳に追加

A silicon oxynitride can be obtained by further introducing the oxygen source gas to the CVD reaction chamber (11). - 特許庁

酸素、空気、窒素酸化物または他の気体状酸化剤を用いる炭化水素の直接酸化による、エポキシド、特にエチレンオキシドより長鎖のエポキシド、例えばプロピレンオキシドの製造方法。例文帳に追加

To provide a method for producing an epoxide, especially the epoxide having a chain longer than that of ethylene oxide, e.g. propylene oxide by directly oxidizing a hydrocarbon by using oxygen, air, nitrogen oxide or other gaseous oxidants. - 特許庁

なお、該ガラスフレークが軟化点８００℃以上であることが、また、被覆層として、金属酸化物、金属亜酸化物、金属オキシハロゲン化物、金属弗化物、金属カルコゲニド、金属窒化物、金属硫化物、金属炭化物、またはそれらの混合物からなっていることが好ましい。例文帳に追加

The glass flakes preferably have a softening point above 800°C, and the coating layer preferably includes a metal oxide, metal suboxide, metallic oxyhalide, metal fluoride, metal chalcogenide, metal nitride, metal sulfide, metal carbide or mixture thereof. - 特許庁

塩化アンモニウムの生成を伴うことなく、しかも炭素系汚染質を膜内に混入させずに、シリコン窒化物膜もしくはシリコンオキシ窒化物膜をＣＶＤ法により製造するための方法を提供する。例文帳に追加

To provide a method by which a silicon nitride film or silicon oxy-nitride film can be manufactured by the CVD method without generating any ammonium chloride nor allowing the intrusion of carbon-based contaminants into the film. - 特許庁

塩化アンモニウムの生成を伴うことなく、比較的低温で、優れた膜特性を有するシリコン窒化物膜もしくはシリコンオキシ窒化物膜をＣＶＤ法により製造するための方法を提供する。例文帳に追加

To provide a method for producing a silicon nitride film or silicon oxynitride film having excellent film characteristics at a relatively low temperature by a chemical vapor deposition (CVD) method without being accompanied by formation of ammonium chloride. - 特許庁

本発明の白色発光素子は、ＩＩＩ族窒化物半導体を用いた青色ＬＥＤの光放出部に、発光中心を添加したオキシ窒化物ガラス蛍光体層を有する構造とする。例文帳に追加

Related to the white light-emitting element, the light emitting part of the blue LED comprising group III nitride semiconductor is provided with an oxynitride glass phosphor layer to which a luminescent center is added. - 特許庁

塩素フリーであり、しかもシリコン窒化物膜またはシリコンオキシ窒化物膜の低温での成膜特性に優れ、取り扱い性も良好なシラン化合物およびその製造方法を提供する。例文帳に追加

To obtain a silane compound free from chorine, also excellent in film-forming characteristic of a silicon nitride film or a siliconoxynitride film at a low temperature and having a good handling property, and to provide a method for producing the same. - 特許庁

（Ａ）３，３，３−トリフルオロプロピンと、（Ｂ）Ｏ_２、Ｏ_３、ＣＯ、ＣＯ_２、ＣＯＣｌ_２、及びＣＯＦ_２からなる群より選ばれる少なくとも１種のガスを含むドライエッチング剤を用いることにより、酸化物、窒化物、炭化物、フッ化物、オキシフッ化物、シリサイド及びこれらの合金等を好適にエッチングできる。例文帳に追加

By using the dry etching agent including at least one kind selected from a group comprising 3, 3, 3-trifluoropropyne (A) and O_2, O_3, CO, CO_2, COCl_2, and COF_2 (B), oxide, nitride, carbide, fluoride, oxyfluoride, silicide, their alloy, and the like can be etched ideally. - 特許庁

排ガス中に含まれるダイオキシン類、ダスト、塩化水素（ＨＣｌ）、窒素酸化物（ＮＯｘ）及び硫黄酸化物（ＳＯｘ）を同時に一括低減除去するろ過式集塵装置（バグフィルター）例文帳に追加

FILTER DUST COLLECTOR (BAG FILTER) FOR SIMULTANEOUSLY AND COLLECTIVELY REDUCING AND REMOVING DIOXIN, DUST, HYDROGEN CHLORIDE(HCl), NITROGEN OXIDES(NOx) AND SULFUR OXIDES(SOx) - 特許庁

そして、接触時にアンモニアを共存させることにより、ダイオキシン類の除去率が更に増大されるほか、ガス中に硫黄酸化物、窒素酸化物が含まれる場合、これらも同時に除去される。例文帳に追加

Then removing efficiency of the dioxins is moreover increased by allowing ammonia to coexist at the time of contacting, and also sulfur oxide and nitrogen oxide are simultaneously removed when these are contained. - 特許庁

焼却装置や焼結装置からの排ガスからそれに含まれる塩化水素、硫黄酸化物、窒素酸化物、ダイオキシン等の有機塩素化合物などの有害ガスを低コストで効率的に除去しうる素材を提供する。例文帳に追加

To provide a raw material capable of efficiently removing harmful gas such as organic chlorine compounds e.g. hydrogen chloride, sulfur oxide, nitrogen oxide and dioxins contained in exhaust gas from an incinerator and a sintering apparatus at a low cost from the exhaust gas. - 特許庁

セメント製造装置の排ガス中の残留性有機汚染物質（ダイオキシン類、ＰＣＢ類等）、水銀、酸性ガス（硫黄酸化物等）、窒素酸化物、及び悪臭物質を効率的に除去しうる処理方法を提供する。例文帳に追加

To provide a treating method, by which a residual organic pollutant (dioxins, PCBs or the like), mercury, an acidic gas (a sulfur oxide or the like), a nitrogen oxide and a malodorous substance contained in an exhaust gas discharged from a cement manufacturing plant are efficiently removed. - 特許庁

塩化アンモニウムの生成を伴うことなく、しかも水素および炭素含有量の少ないシリコン窒化物膜、シリコンオキシ窒化物膜、またはシリコン酸化物膜を低温においてさえＣＶＤ法により製造することができる方法を提供する。例文帳に追加

To provide a method for manufacturing a silicon nitride film, a silicon oxynitride film, or a silicon oxide film, of little hydrogen and carbon content, without generating ammonium chloride, even at a low temperature by a CVD method. - 特許庁

またヒドロペルオキシラジカルが燃焼により生成したＮＯをＮＯ_2に酸化し、ＮＯ_2は未燃炭化水素等により窒素に分解されて、排ガス中の窒素酸化物（ＮＯｘ）の量を低減させることができる。例文帳に追加

The hydroperoxy radical oxidizes NO produced by combustion to NO_2, the NO_2 is decomposed to nitrogen with unburned hydrocarbon, and the amount of nitrogen oxide (NOx) in the combustion waste gas is reduced. - 特許庁

オキシ窒化物層は、約１．０×１０^15原子／ｃｍ^2 〜約６．０×１０^15原子／ｃｍ^2 の窒素濃度を有し、１０Å未満の範囲内に制御される厚さを有する。例文帳に追加

The oxynitride layer has nitrogen concentration of about 1.0×10^15 atoms/cm^2 to about 6.0×10^15 atoms/cm^2, and a thickness limited in the range of less than 10 Å. - 特許庁

プロピレンの気相酸化によるプロピレンオキシドの製造方法において、プロピレン、酸素及び窒素酸化物含有ガスをアルカリ金属化合物及びアルカリ土類金属化合物を無機担体に担持させた触媒と接触させるプロピレンオキシドの製造方法である。例文帳に追加

In the method for manufacturing propylene oxide by vapor phase oxidation of propylene, propylene, oxygen and nitrogen oxide-containing gas is brought into contact with a catalyst in which an inorganic carrier is carried with an alkali metal compound and an alkaline earth metal compound. - 特許庁

レーザアブレーションによる金属オキシナイトライドの製造において、ターゲット材に金属オキシナイトライドを構成する遷移金属を含む窒化物を用い、反応室内に酸素を含む雰囲気ガスを一定圧力で導入することを特徴とする。例文帳に追加

In the method for producing metal oxynitride by laser abrasion, nitride including transition metal composing metal oxynitride is used as a target material, and an oxygen-containing atmospheric gas is introduced into a reaction chamber under a fixed pressure. - 特許庁

塩化アンモニウムの生成を伴うことなく、しかも炭素系汚染質を膜内に混入させずに、優れた特性を有するシリコン窒化物膜もしくはシリコンオキシ窒化物膜を熱化学気相成長（熱ＣＶＤ）法により製造するための方法を提供する。例文帳に追加

To provide a method of manufacturing a silicon nitride film or a silicon oxynitride film having excellent characteristics by the thermal chemical vapor deposition method without accompaniment of generation of ammonium chloride and mixture of carbon system contamination quality into the film. - 特許庁

β型窒化珪素結晶を含む窒化珪素を焼結助剤と混合して焼成する窒化珪素系焼結体の製造方法において、前記焼結助剤は、希土類酸化物と、酸化マグネシウムと、二酸化珪素とを溶融させると共に、窒素が過飽和状態となるように窒化物を溶融させたオキシナイトライドガラスとしていることとした。例文帳に追加

In the method for producing a silicon nitride based sintered compact where silicon nitride including β type silicon nitride crystals is mixed with a sintering assistant, and the mixture is fired, as the sintering assistant, oxynitride glass obtained by melting rare earth oxide, magnesium oxide and silicon dioxide and further melting nitride in such a manner that nitrogen is made into a supersaturated state is used. - 特許庁

２次燃焼室の燃焼温度が安定し、ダイオキシン及び窒素酸化物の発生もきわめて少ないガス化焼却炉の運転方法を提供する。例文帳に追加

To provide a method of operating a gasifying incinerator whereby the combustion temperature in a secondary combustion chamber is stable and dioxines and nitrogen oxides are little produced. - 特許庁

排ガス中のダイオキシン類等の有機ハロゲン化合物や、排ガス中のＮＯ_Ｘ等の窒素酸化物を、効率良く除去することのできる排ガス処理用触媒、および、これを用いた排ガス処理方法を提供する。例文帳に追加

To provide an exhaust gas treating catalyst capable of efficiently removing organic halogen compounds such as dioxins and nitrogen oxides such as NO_X in exhaust gas, and to provide an exhaust gas treating method using the exhaust gas treating catalyst. - 特許庁

多量の塩化アンモニウムの生成を伴うことなく、低温化でも十分な成膜速度をもってシリコン（オキシ）窒化物膜をＣＶＤ法により製造し得る方法を提供する。例文帳に追加

To provide a method for forming a silicon (oxy) nitride film by CVD at a sufficient deposition rate even under a low temperature without producing a large quantity of ammonium chloride. - 特許庁

廃棄物の燃焼等により発生する窒素酸化物を抑制し高温排ガス中に含まれている未燃分、ダイオキシン類を完全燃焼して低減し、大気や土壌への汚染物質の排出を抑制する。例文帳に追加

To suppress the discharge of polluting substances into the air and the soil by suppressing nitrogen oxides generated by the combustion of waste and reducing, such as unburned combustible contents and dioxin included in a high temperature exhaust gas by complete combustion. - 特許庁

排ガス中に含まれる有害物質（ダイオキシン類、窒素酸化物、臭気成分等）を高効率に処理することができる有害物質処理システムを提供すること。例文帳に追加

To provide a harmful substance treating system that can highly efficiently treat a waste gas to remove harmful substances (dioxins, nitrogen oxides, odorants, or the like) therefrom. - 特許庁

火葬炉排ガス中の窒素酸化物、臭気成分および／またはダイオキシン類を除去処理する装置であって、前記排ガスを処理するための特定の触媒層を備えていることを特徴とする。例文帳に追加

The device for removing the nitrogen oxides, the malodorous components and/or dioxins in the crematory waste gas is provided with a specific catalytic layer for treating the waste gas. - 特許庁

焼却した場合、ダイオキシンや窒素酸化物などの有害ガスの発生を、人間の健康に影響を与えることのない極微小量に抑えることができるシガレットを提供する。例文帳に追加

To provide a cigarette capable of suppressing generation of noxious gases such as dioxins and/or nitrogen oxides to such minimal levels as not affect human health when incinerated. - 特許庁