「レーザー光照射」に関連した英語例文の一覧と使い方(46ページ目) - Weblio英語例文検索

導電性支持体上に直接または中間層を介して電荷発生層、電荷輸送層を順次設けた積層型電子写真感光体において、該電子写真感光体が書込光として４００〜４５０ｎｍの波長を有する半導体レーザー光を照射され、且つ該電荷輸送層が少なくとも高分子型電荷輸送材料を含有し、且つ３９０〜４６０ｎｍ波長領域の単色光を透過することを特徴とする電子写真感光体。例文帳に追加

In the laminated electrophotographic photoreceptor having a charge generating layer and a charge transfer layer successively formed directly on a conductive supporting body or formed with an intermediate layer interposed, the electrophotographic photoreceptor is irradiated with semiconductor laser light having 400 to 450 nm wavelength as the addressing light, and the charge transfer layer contains at least a polymer type charge transfer material and transmits monochromatic light in 390 to 460 nm wavelength region. - 特許庁

波長４５０ｎｍ以下のレーザー光照射により光情報記録媒体に情報を記録する光情報記録方法であって、前記光情報記録媒体の記録層がフタロシアニン誘導体を含有し且つ溶剤塗布により形成され、前記記録層の屈折率（ｎ）が１．５＜ｎ＜１．９であり、消衰係数（ｋ）が０．０３＜ｋ＜０．３０であり、前記記録層上に金属からなる光反射層を有することを特徴とする光情報記録方法である。例文帳に追加

The method is characterized as the recording layer of the optical information recording medium contains phthalocyanine inductor, is formed with a solvent coating, has an index of a refraction (n) of 1.5<n<1.9, has an extinction coefficient (k) of 0.03<k<0.30, and has a light reflex layer of a metal composition on its surface. - 特許庁

本発明のリード・ワンス記録媒体は、コントロールデータ域とデータ域を備え、予め記録されたデータを有するデータ担体と、データ担体上方に配置された感光層と、感光層上方に配置された反射層と、反射層上方に配置された接着層と、接着層上方に配置された透明基材を含み、記録媒体が光学ストレージデバイスに読み込まれるとき、光学ストレージデバイスから照射される特定の出力のレーザー光が前記データ担体を通過して前記感光層上に集中されると、前記感光層または前記データ担体の構造が変えられ、前記レーザー光が感光層により反射されて前記光学ストレージデバイスに認識されなくなることを特徴とする。例文帳に追加

The read-once record medium comprises: a data substrate having control data zone and a data zone and having pre-record data; the photo-sensitive layer disposed above the data substrate; a reflective layer disposed above the photo-sensitive layer; an adhesive layer disposed above the reflective layer; and a transparent substrate disposed above the adhesive layer. - 特許庁

コア１１とクラッド１２とを有する光ファイバ母材１を加熱、線引きしてなる紫外線伝送用光ファイバであって、上記コア１１は少なくともＯＨ基および／またはＦを合計で１００〜５０００ｐｐｍ含有し、かつ、１２ｍＪ／ｃｍ^2のＡｒＦエキシマレーザーを常温、常圧下で１０^7ショット照射したときに、下記（Ｉ）または（ＩＩ）の要件を充足するシリカガラスからなり、当該光ファイバの外周には、溶融したアルミニウムまたはその合金を被覆し凝固させてなる被覆層をさらに有する、紫外線伝送用光ファイバ。例文帳に追加

The optical fiber for UV transmission is obtained by heating and drawing an optical fiber preform 1 comprising a core 11 and a clad 12. - 特許庁

支持体上にジアゾニウム塩化合物を含有する記録層を有する記録材料に、レーザー光又は発光ダイオードによりパターン状に光照射を行い、露光領域に突起形状物を形成させることを特徴とするパターン形成方法、及び、支持体上にジアゾニウム塩化合物を含有する記録層を有し、該記録層の酸素透過性が、０．３ｍｌ・２５μｍ／ｍ^2・２４ｈ・ａｔｍ以下であることを特徴とする記録材料、等である。例文帳に追加

In this recording material, the recording layer including the diazonium salt compound is provided on a support and, through the patterned irradiation with laser beams or by light emitting diode, projection-like matters are formed in an exposed region under the condition that the diazonium salt compound-containing recording layer provided on the support has its oxygen permeability of not more than 0.3 mL×25 μm/m^2×24 h×atm. - 特許庁

液状の光硬化性樹脂の内部にレーザー光を走査させながら連続的に照射し、その内部を線分的に連続させて硬化することにより、面状の微小構造物を作製し、さらにその面状の微小構造物を積層することで３次元計上の微小構造物を作製することを特徴とするマイクロ光造形法において、面状の微小構造物を積層する際のピッチ間隔を変更することで、完成した構造物のヤング率を制御する。例文帳に追加

In the microoptical forming method of manufacturing a three-dimensional microstructure by scanning and irradiating the inside of an optically curable liquid resin with laser light and curing the inside linearly continuously to form a planar microstructure, and laminating the planar microstructures, the Young's modulus of the completed structure is controlled by changing a pitch in the case of laminating the planar microstructures. - 特許庁

本発明は、感光性ポリマーを使用したホログラフィーによってホログラムを製造する方法であって、光重合可能なモノマー、結合剤、及び開始剤を含んだ組成物を支持体の表面上に塗布する工程、前記開始剤はイオン染料−反応性対イオン化合物を含み、レーザーから放出される輻射光を前記支持体の表面に照射することによって画像を形成する工程、及び画像を定着させる工程の各工程を含むことを特徴とする。例文帳に追加

The process for producing the hologram by the holography using the photosensitive polymer includes a stage for applying a compsn. contg. a photopolymerizable monomer, binder and initiator on the surface of a base, a stage for incorporating an ion dye-reactive pair ion compd. into the initiator and forming an image by irradiating the surface of the base with the radiation light released from a laser and a stage for fixing the image. - 特許庁

任意の立体形状を備えた３次元金属微細構造体の製造方法において、光硬化性樹脂に対して短パルスレーザー光を照射して２光子吸収微細造形法により３次元微細構造を備えたポリマー構造体を形成する第１の工程と、上記第１の工程により形成されたポリマー構造体に無電解めっきにより金属膜を形成する第２の工程とを有する３次元金属微細構造体の製造方法である。例文帳に追加

The manufacturing method of the three-dimensional metal fine structure having an arbitrary stereoscopic shape comprises a first process for forming a polymer structure having a three-dimensional fine structure by a two-photon absorbing fine shaping method for irradiating a photosetting resin with a short pulse laser beam and a second process for forming a metal film on the polymer structure formed by the first process by electroless plating. - 特許庁

本発明にかかる穿孔ユニットは、回転軸を中心として回転可能な主軸部と、前記主軸部を回転駆動させる駆動部と、前記主軸部と一体となって前記回転軸周りに回転し、被穿孔物を穿孔する穿孔工具であって、前記回転軸から径方向に偏心された仮想直線に沿って設けられ、前記被穿孔物を照射するレーザー光が通る光路となる偏心孔を内部に有する穿孔工具と、を備える。例文帳に追加

The perforating unit includes: a spindle part rotatable around a rotating shaft; a driving part rotating the spindle part; and a perforating tool rotating around the rotating shaft integrally with the spindle part to perforate the perforated object, installed along a virtual straight line eccentric from the rotating shaft to the radial direction and having inside an eccentric hole serving as an optical path through which laser beams irradiating the perforated object passes. - 特許庁

第１の非晶質半導体膜に珪素の結晶化を助長する金属元素を導入し、前記第１の非晶質半導体膜を加熱して結晶性半導体膜を形成し、前記結晶性半導体膜上に周期表の１５族に属する元素を含有する第２の非晶質半導体膜を形成し、前記第２の非晶質半導体膜にレーザー光または赤外光を照射することを特徴とする結晶性半導体膜の作製方法である。例文帳に追加

The method for manufacturing a crystalline semiconductor film includes steps of introducing metallic elements into a first amorphous semiconductor film to promote crystallization of silicon, heating the first amorphous semiconductor film to form a crystalline semiconductor film, forming a second amorphous semiconductor film containing elements belonging to periodic table, group 15 on the crystalline semiconductor film, and irradiating it with laser light or the second amorphous semiconductor film with infrared light. - 特許庁

ソース領域、ドレイン領域及びチャネル形成領域を含む半導体、該半導体に接したゲート絶縁膜並びに該ゲート絶縁膜に接したゲート電極を有するトランジスタの作製方法において、前記ソース領域及び前記ドレイン領域は、半導体にＮ型もしくはＰ型の不純物を添加した後、前記不純物が添加された半導体にＮｄ：ＹＡＧレーザー光を照射して形成されることを特徴とするトランジスタの作製方法。例文帳に追加

In the method for preparing a transistor having a semiconductor containing source and drain regions and a channel formation regions, a gate insulated film in contact with the semiconductor, and a gate electrode in contact with the gate insulated film; the source and drain regions are formed by adding N or P type impurities in the semiconductor and then radiating an Nd: YAG laser beam onto the semiconductor having the impurities added therein. - 特許庁