1016万例文収録!

「不純」に関連した英語例文の一覧と使い方(3ページ目) - Weblio英語例文検索


小窓モード

プレミアム

ログイン
設定

設定


セーフサーチ:オン

不適切な検索結果を除外する

不適切な検索結果を除外しない

セーフサーチについて

不純を含む例文一覧と使い方

該当件数 : 14651



例文

半導体基板の不純物抽出方法および不純物抽出装置例文帳に追加

METHOD AND APPARATUS FOR EXTRACTING IMPURITIES IN SEMI CONDUCTOR SUBSTRATE - 特許庁

有機金属化合物中の不純物測定方法および不純物測定装置例文帳に追加

METHOD AND DEVICE FOR MEASURING IMPURITY IN ORGANIC METAL COMPOUND - 特許庁

不純物除去方法と不純物除去装置及び土壌洗浄処理装置例文帳に追加

IMPURITY REMOVING METHOD, IMPURITY REMOVING APPARATUS AND SOIL WASHING TREATMENT APPARATUS - 特許庁

p型不純物層60はn型不純物層50間に形成されている。例文帳に追加

The p-type impurity layer 60 is formed between the n-type impurity layers 50. - 特許庁

例文

半導体層には、第1不純物領域8、第2不純物領域9、第3不純物領域10、第4不純物領域11、第5不純物領域12および第6不純物領域13が形成されている。例文帳に追加

In a semiconductor layer, a first impurity region 8, a second impurity region 9, a third impurity region 10, a fourth impurity region 11, a fifth impurity region 12 and a sixth impurity region 13 are formed. - 特許庁


例文

第3の不純物領域は、第4の不純物領域よりも不純物濃度を低くし、第1の不純物領域は、第2の不純物領域よりも不純物濃度を低くする。例文帳に追加

The impurity concentration of the third impurity region is set lower than that of the fourth impurity region, and the impurity concentration of the first impurity region is set lower than that of the second impurity region. - 特許庁

水中の有機性不純物を無機イオン不純物に分解する装置、水中の有機性不純物を無機イオン不純物に分解するビーズの製造方法、光分解型有機性不純物濃度分析前処理装置、有機性不純物濃度測定装置および有機性不純物濃度測定方法例文帳に追加

DEVICE FOR DECOMPOSING ORGANIC IMPURITIES IN WATER INTO INORGANIC ION IMPURITIES, MANUFACTURING METHOD OF BEAD FOR DECOMPOSING ORGANIC IMPURITIES IN WATER INTO INORGANIC ION IMPURITIES, PRETREATMENT DEVICE FOR ANALYZING PHOTODECOMPOSABLE ORGANIC IMPURITY CONCENTRATION, AND DEVICE AND METHOD FOR MEASURING PHOTODECOMPOSABLE ORGANIC IMPURITY CONCENTRATION - 特許庁

第1不純物と第2不純物とを導入してなる第1不純物領域と、第2不純物のみを導入してなる第2不純物領域とを自己整合的に形成し、第1不純物領域と第2不純物領域とを高精度に隣接して形成する。例文帳に追加

To form a first impurity region, provided by introducing first impurities and second impurities, and a second impurity region, provided by introducing only the second impurities, in a self-alignment manner, and to form the first impurity region and the second impurity region adjacently at a high accuracy. - 特許庁

第1および第2の各半導体素子の一対の不純物領域は、所定の不純物濃度を示す第1の不純物区域と、該第1の不純物区域と同一の導電型を示しかつ該第1の不純物区域の濃度よりも低い不純物濃度を示す第2の不純物区域とを備える。例文帳に追加

A pair of impurity regions of first and second semiconductor elements are provided with a first impurity section of prescribed impurity concentration and a second impurity section which shows the same conductive type as the first impurity section while showing the impurity concentration lower than the first impurity section. - 特許庁

例文

半導体層には、第1不純物領域5、第2不純物領域6、第3不純物領域7、第4不純物領域8および第5不純物領域9が形成されている。例文帳に追加

A first impurity region 5, a second impurity region 6, a third impurity region 7, a fourth impurity region 8 and a fifth impurity region 9 are formed in a semiconductor layer. - 特許庁

例文

そして、第2不純物層52を、光電変換部10及び増幅部間の領域に設け、第2不純物層52の第2不純物濃度P2を第1不純物層51の第1不純物濃度P1より高くする。例文帳に追加

The second impurity layer 52 is provided in an area between the photoelectric conversion part 10 and the amplifying part, and second impurity concentration P2 of the second impurity layer 52 is made higher than first impurity concentration P1 of the first impurity layer 51. - 特許庁

アノード用開口部をマスクして、カソード用開口部を通して、n型不純物領域にp型不純物元素を添加し、n型不純物元素およびp型不純物元素を含む第2のn型不純物領域を形成する。例文帳に追加

The opening for the anode is masked, a p-type impurity element is added to the n-type impurity region, and a second n-type impurity region containing an n-type impurity element and the p-type impurity element is formed. - 特許庁

チャネル領域27は、相対的に不純物濃度が小さい1対の低濃度不純物領域25と、低濃度不純物領域25に挟まれて位置し、相対的に不純物濃度が大きい高濃度不純物領域26とを含む。例文帳に追加

The channel region 27 includes a pair of low-concentration impurity regions 25 with relatively smaller impurity concentration, and a high-concentration impurity region 26 that is located while being held between the low-concentration impurity regions 25 and has relatively large impurity concentration. - 特許庁

ポリシリコン層に不純物をドーピングして不純物拡散領域を形成するため、不純物拡散領域を浅く形成できる。例文帳に追加

Since the impurity diffusion region is formed by doping the impurity on the polysilicon layer, the impurity diffusion region can be formed shallow. - 特許庁

不純物分析方法、不純物分析ガス採取装置、不純物ガス分析装置及び半導体装置の製造方法例文帳に追加

IMPURITY ANALYSIS METHOD, IMPURITY ANALYSIS GAS SAMPLING DEVICE, IMPURITY GAS ANALYZER, AND SEMICONDUCTOR DEVICE MANUFACTURING METHOD - 特許庁

第1不純物領域5b,5cの不純物濃度とキャパシタ60の一方電極8aの不純物濃度とが同じである。例文帳に追加

The impurity concentration of the first impurity areas 5b and 5c is the same as that of one electrode 8a of the capacitor 60. - 特許庁

その後の不純物除去を行う際に、不純物除去用のガスがガラス層3の内部を流れ易くなり、不純物が良好に除去できる。例文帳に追加

By this method, a gas to remove impurities can easily flow through the glass layer 3 in the succeeding process of removing impurities, and thereby impurities can be easily removed. - 特許庁

ゲート不純物領域6および/またはチャネル形成不純物領域2が、チャネル方向に不純物濃度差を有する。例文帳に追加

The gate impurity region 6 and/or the channel forming impurity region 2 has an impurity density difference in the channel direction. - 特許庁

第1の不純物のプロファイルと第3の不純物のプロファイルとが交差する領域に、第2の不純物が分布する。例文帳に追加

The second impurities are distributed in a region where a profile of the first impurities and a profile of the third impurities intersect with each other. - 特許庁

不純物の電気的活性化率を向上させ、不純物の拡散を抑制した不純物ドープ層を用いた半導体装置を提供する。例文帳に追加

To provide a semiconductor device which improves the electric activation rate of impurities and uses an impurity-doped layer deterring impurities from being diffused. - 特許庁

p^-半導体基板1及びp^+不純物領域4は、p^+不純物領域6及びn^+不純物領域45よりも低い電位が与えられる。例文帳に追加

A potential applied to the p^- semiconductor substrate 1 and the p^+ impurity region 4 is lower than that of the p^+ impurity region 6 and the n^+ impurity region 45. - 特許庁

n^+埋め込み層31は、n型不純物領域121が有する第1の不純物濃度よりも高い第2の不純物濃度を有する。例文帳に追加

The n^+-embedding layer 31 has a second impurity concentration higher than the first impurity concentration of the n-type impurity region 121. - 特許庁

本発明は、前記不純物ドープ方法によって、前記一方の不純物領域が前記他方の不純物領域と接触しないようにする。例文帳に追加

Concerning such an impurity dope method, one impurity area does not contact the other impurity area. - 特許庁

次いで、熱処理を施して、N型不純物層32及びP型不純物層34の不純物を活性化させる。例文帳に追加

Next, it is heated to activate impurities of the N-type impurity layer 32 and P-type impurity layer 34. - 特許庁

第5不純物領域12および第6不純物領域13は、第2不純物領域9と接続されている。例文帳に追加

The fifth impurity region 12 and the sixth impurity region 13 are connected to the second impurity region 9. - 特許庁

つまり、不純物注入領域に前記不純物と反対の導電型の不純物を少量注入する。例文帳に追加

Namely, a small quantity of an opposite conductivity type impurities to the foregoing impurities are doped into the impurity doped region. - 特許庁

不純物濃度の定量的な測定や、微小領域の不純物濃度分布を測定することができる不純物濃度測定方法を提供する。例文帳に追加

To provide an impurity concentration measuring method for quantitatively measuring an impurity concentration and measuring an impurity concentration distribution in a minute area. - 特許庁

不純物拡散シミュレーション方法、不純物拡散シミュレーション装置、及び、不純物拡散シミュレーションプログラム例文帳に追加

METHOD, DEVICE, AND PROGRAM FOR IMPURITY DIFFUSION SIMULATION - 特許庁

第1主面の第3不純物領域は第1不純物領域との間で第2不純物領域を挟んでいる。例文帳に追加

The third impurity region on the first main surface and the first impurity region sandwich the second impurity region. - 特許庁

第2主面の第4および第5不純物領域は第2不純物領域との間で第1不純物領域を挟んでいる。例文帳に追加

The fourth and fifth impurity regions and the second impurity region sandwich the first impurity region on a second main surface. - 特許庁

不純物濃度測定システム、不純物濃度測定方法、不純物濃度測定プログラム及びコンピュータ読み取り可能な記録媒体例文帳に追加

SYSTEM, METHOD, AND PROGRAM FOR MEASURING IMPURITY CONCENTRATION AND COMPUTER READABLE RECORD MEDIUM - 特許庁

これにより、基板301にn型不純物のみを導入したn型高濃度不純物領域336と、基板301にn型不純物とp型不純物とを導入したn型低濃度不純物領域337とが隣接してなるn型不純物領域を形成する。例文帳に追加

Thus an n-type impurity region is formed wherein an n-type high-concentration impurity region 336 doped with only n-type impurities on the substrate 301 and an n-type low-concentration impurity region 337 doped with n-type impurities and p-type impurities on the substrate 301 are adjacent to each other. - 特許庁

これにより、n型第1不純物とn型第2不純物とを導入した高濃度n型不純物領域211と、n型第2不純物のみを導入した低濃度n型不純物領域212とが隣接してなるn型不純物領域を形成する。例文帳に追加

Thus, the n-type impurity region is formed, which is constituted by putting a high concentration n-type impurity region 211 into which the n-type first impurities and the n-type second impurities are introduced into a state adjacent to the lightly-doped n-type impurity region 212 into which only the n-type second impurities are introduced. - 特許庁

第1の不純物領域の不純物濃度ピークの濃度C1と、第2の不純物領域の不純物濃度ピークの濃度C2と、第3の不純物領域の不純物濃度ピークの濃度C3とが、C2<C3<C1の関係を満たすようにする。例文帳に追加

A concentration C1 corresponding to a peak of an impurity concentration in a first impurity region, a concentration C2 corresponding to a peak of an impurity concentration in a second impurity region and a concentration C3 corresponding to a peak of an impurity concentration in a third impurity region satisfy a following relationship of C2<C3<C1. - 特許庁

第1の不純物領域の不純物濃度ピークの濃度C1と、第2の不純物領域の不純物濃度ピークの濃度C2と、第3の不純物領域の不純物濃度ピークの濃度C3とが、C2<C3<C1の関係を満たすようにする。例文帳に追加

As for a concentration C1 of an impurity concentration peak of a first impurity region, a concentration C2 of an impurity concentration peak of a second impurity region, and a concentration C3 of an impurity concentration peak of a third impurity region, a relation of C2<C3<C1 is satisfied. - 特許庁

さらに、第2のソース・ドレイン領域が、第1のn型不純物層よりも不純物濃度が低く深さの浅い第3のn型不純物層と、第3のn型不純物層よりも不純物濃度が高く深さの深い第4のn型不純物層を備える。例文帳に追加

The second source/drain region includes a third n-type impurity layer having an impurity concentration lower and a depth shallower than those of the first n-type impurity layer, and a fourth n-type impurity layer having an impurity concentration higher and a depth deeper than those of the third n-type impurity layer. - 特許庁

さらに、第1の半導体素子の前記一対の不純物領域のそれぞれは、該不純物領域の前記第2の不純物区域の導電型と逆の導電型を示しかつ当該不純物領域の前記第2の不純物区域を抑制する第3の不純物区域を有する。例文帳に追加

Each of the pair of impurity regions of the fist semiconductor element shows a conductive type which is opposite to the second impurity section of the impurity region, while comprising a third impurity section which suppresses the second impurity section of the impurity region. - 特許庁

およそ3パーセントの鉛および他の不純物(特にインゴットの形で)を含んでいる不純な亜鉛例文帳に追加

impure zinc containing about three percent lead and other impurities (especially in the form of ingots)  - 日本語WordNet

不純物を含む1,1,1,5,5,5−ヘキサフルオロアセチルアセトン・二水和物から不純物を除く。例文帳に追加

To remove impurities from 1,1,1,5,5,5-hexafluoroacetylacetone dihydrate containing the impurities. - 特許庁

不純物ガスを含むモノシラン中の不純物を分離し、効率よくモノシランを精製する。例文帳に追加

To efficiently purify monosilane by separating impurities in impurity gas-containing monosilane. - 特許庁

不純物を含む金属を活性水素を含むプラズマアークで溶融し、不純物を除去する。例文帳に追加

A metal containing impurities is melted with plasma arc containing active hydrogen to remove the impurities. - 特許庁

不純物を多く含む廃酸から低不純物の廃酸石膏を製造する方法を提供する。例文帳に追加

To provide a method for manufacturing waste acid gypsum of low impurities from a waste acid containing much impurities. - 特許庁

高濃度不純物層から不純物が半導体層に拡散することを効果的に防止すること例文帳に追加

To effectively prevent impurities from being diffused into a semiconductor layer from a highly doped impurity layer. - 特許庁

そして、不純物イオンを打ち込み、セルアレイ領域に埋込型不純物拡散領域を形成する。例文帳に追加

Then, impurity ions are implanted, and the embedded type impurity diffused region is formed in the cell array region. - 特許庁

不純物を含む廃油の中から不純物を確実に除去して油を再使用し得るようにする。例文帳に追加

To certainly remove impurities from waste oil containing impurities to reuse the waste oil as regenerated oil. - 特許庁

nドリフト領域12aの不純物がリンで、p仕切り領域12bの不純物がボロンとした。例文帳に追加

The impurities in the n-drift regions 12a were phosphorus, and the impurities in the p-partition regions 12b were boron. - 特許庁

不純物固体拡散源2A,2Bの直下に不純物拡散層3A,3Bが形成される。例文帳に追加

Directly under the solid impurity diffusing sources 2A and 2B, impurity diffusing layers 3A and 3B are formed. - 特許庁

半導体ウエハの不純物の測定方法及び半導体ウエハの不純物の測定プログラム例文帳に追加

MEASURING METHOD OF IMPURITY IN SEMICONDUCTOR WAFER AND MEASURING PROGRAM OF IMPURITY IN SEMICONDUCTOR WAFER - 特許庁

第1半導体領域の不純物濃度が、第2半導体領域の不純物濃度よりも高い。例文帳に追加

An impurity density of the first semiconductor region is higher than an impurity density of the second semiconductor region. - 特許庁

例文

拡散バッチ内における固体不純物源から半導体基板への不純物拡散の均等化を図る。例文帳に追加

To uniformly diffuse impurities to a semiconductor substrate from a solid impurity source in a diffusion batch. - 特許庁

索引トップ用語の索引



  
日本語WordNet
日本語ワードネット1.1版 (C) 情報通信研究機構, 2009-2024 License. All rights reserved.
WordNet 3.0 Copyright 2006 by Princeton University. All rights reserved.License
  
Copyright © Japan Patent office. All Rights Reserved.
こんにちは ゲスト さん

ログイン

Weblio会員(無料)になると

会員登録のメリット検索履歴を保存できる!

会員登録のメリット語彙力診断の実施回数増加!

無料会員に登録する
英→日 日→英
こんにちは ゲスト さん

ログイン

Weblio会員(無料)になると

会員登録のメリット検索履歴を保存できる!

会員登録のメリット語彙力診断の実施回数増加!

無料会員に登録する

©2024 GRAS Group, Inc.RSS