「重ね合わせ精度」に関連した英語例文の一覧と使い方 - Weblio英語例文検索

重ね合わせ精度測定マークおよび重ね合わせ精度測定方法例文帳に追加

SUPERPOSITION ACCURACY MEASUREMENT MARK AND SUPERPOSITION ACCURACY MEASURING METHOD - 特許庁

重ね合わせ精度測定パターン及び重ね合わせ精度測定方法例文帳に追加

PATTERN AND METHOD FOR MEASURING SUPERPOSITION PRECISION - 特許庁

重ね合わせ精度測定方法および重ね合わせ精度測定用パターン例文帳に追加

METHOD FOR MEASUREMENT OF OVERLAY ACCURACY AND PATTERN FOR MEASUREMENT OF OVERLAY ACCURACY - 特許庁

重ね合わせ精度向上方法および重ね合わせずれ量測定装置例文帳に追加

REGISTERING PRECISION IMPROVING METHOD AND REGISTER DEVIATION MEASURING DEVICE - 特許庁

重ね合わせ精度測定における精度の向上を図る。例文帳に追加

To improve the accuracy in the measurement of superposition accuracy. - 特許庁

露光装置における重ね合わせ精度制御方法及び重ね合わせ精度測定器例文帳に追加

METHOD FOR CONTROLLING ALIGNMENT ACCURACY IN ALIGNER AND ALIGNMENT ACCURACY MEASURING INSTRUMENT - 特許庁

重ね合わせ精度測定装置および測定方法例文帳に追加

SUPERPOSITION PRECISION MEASURING APPARATUS AND MEASURING METHOD - 特許庁

パターンの高い重ね合わせ精度を維持する。例文帳に追加

To maintain the high overlay accuracy of a pattern. - 特許庁

パターン重ね合わせ精度測定装置および方法例文帳に追加

EQUIPMENT AND METHOD FOR MEASURING PATTERN MATCHING ACCURACY - 特許庁

レジストマスクの重ね合わせ精度を向上させる。例文帳に追加

To increase the registration accuracy of a resist mask. - 特許庁

パターン重ね合わせ精度測定装置および方法例文帳に追加

APPARATUS AND METHOD FOR MEASUREMENT OF ACCURACY OF PATTERN OVERLAP - 特許庁

ハーフショットでの重ね合わせ精度を改善する。例文帳に追加

To improve overlapping accuracy in a half-shot process. - 特許庁

パターンの高い重ね合わせ精度を維持する。例文帳に追加

To maintain a high overlay accuracy of a pattern. - 特許庁

重ね合わせ測定の精度を向上できる重ね合わせ測定マークを提供する。例文帳に追加

To provide a superposition measurement mark which improve the accuracy of superposition measurement. - 特許庁

重ね合わせ用マーク、重ね合わせ精度測定方法およびアライメント方法、並びに半導体装置例文帳に追加

OVERLAY MARK, METHOD FOR MEASURING OVERLAY ACCURACY AND ALIGNMENT METHOD, AND SEMICONDUCTOR DEVICE - 特許庁

段差が極めて低いパターンの重ね合わせ精度を精度よく測定する。例文帳に追加

To accurately measure a superposing accuracy of patterns having extremely low stepwise differences. - 特許庁

重ね合わせ精度の測定を高精度化し、半導体装置の製造歩留まりを向上させる重ね合わせ精度測定用パターンを提供する。例文帳に追加

To provide a pattern for measuring precision in overlapping for realizing the high precision of the measurement of overlapping precision, and for improving the manufacturing yield of a semiconductor device. - 特許庁

重ね合わせ精度測マークを構成するレジストパターン形状の非対称性を防止し、重ね合わせ精度測定マーク位置を精度よく検出することで、高精度な重ね合わせ精度の測定を可能にする。例文帳に追加

To enable a highly accurate measurement of overlap accuracy by preventing asymmetry from occurring in the shape of a resist pattern constituting an overlap accuracy measuring mark for a highly accurate sensing of the position of the overlap accuracy measuring mark. - 特許庁

位置合わせ方法、重ね合わせ精度計測方法、露光方法、位置合わせ装置、露光装置、及び重ね合わせ精度計測装置例文帳に追加

ALIGNMENT METHOD, OVERLAPPING ACCURACY MEASUREMENT METHOD, EXPOSURE METHOD, ALIGNMENT APPARATUS, EXPOSURE APPARATUS, AND OVERLAPPING ACCURACY MEASUREMENT APPARATUS - 特許庁

パターン検出方法及びパターン検出装置、並びに重ね合わせ精度測定方法及び重ね合わせ精度測定装置例文帳に追加

METHOD AND APPARATUS FOR DETECTING PATTERN, AND METHOD AND APPARATUS FOR MEASURING SUPERPOSING ACCURACY - 特許庁

３層のパターンの重ね合わせ精度を１回で測定可能な「重ね合わせ精度測定マーク」を提供する。例文帳に追加

To provide a "registration accuracy measuring mark" for measuring registration accuracy of a three layer pattern at once. - 特許庁

３　重ね合わせ精度の絶対値が〇・二マイクロメートル未満のもの例文帳に追加

iii. Equipment with an overlay precision absolute value of less than 0.2 micrometers  - 日本法令外国語訳データベースシステム

重ね合わせ精度計測方法、露光装置、及びデバイス製造方法例文帳に追加

OVERLAY ACCURACY MEASUREMENT METHOD, EXPOSURE DEVICE, AND MANUFACTURING METHOD OF DEVICE - 特許庁

十分に高精度なパターンの重ね合わせ（位置合わせ）を実現する。例文帳に追加

To achieve highly accurate superposition (alignment) of patterns. - 特許庁

複数の画像を重ね合わせて合成する際の位置合わせ精度を向上する。例文帳に追加

To improve positioning precision in superimposing and synthesizing a plurality of images. - 特許庁

重ね合わせ精度測定装置の焦点位置調整方法及び調整装置例文帳に追加

METHOD AND APPARATUS FOR ADJUSTING FOCUS POSITION OF OVERLAY ACCURACY MEASURING EQUIPMENT - 特許庁

走査型露光装置の像性能および重ね合わせ精度を向上させる。例文帳に追加

To improve the imaging performance and the overlay accuracy of a scanning exposure apparatus. - 特許庁

重ね合わせ精度の測定制御装置および測定制御方法例文帳に追加

MEASUREMENT CONTROL DEVICE AND METHOD OF REGISTRATION ACCURACY - 特許庁

重ね合わせ精度を向上させるリソグラフィ装置を提供する。例文帳に追加

To provide a lithographic apparatus realizing a high-accuracy superposition. - 特許庁

生産支援システム、重ね合わせ精度の検査方法および記録媒体例文帳に追加

PRODUCTION SUPPORT SYSTEM, INSPECTION METHOD OF OVERLAY ACCURACY, AND RECORDING MEDIUM - 特許庁

データ保存部１１は、重ね合わせ検査装置４によって測定された写真製版処理後の重ね合わせ精度の測定値と、エッチング後の重ね合わせ精度の測定値とを保存する。例文帳に追加

A data storing section 11 stores the measurement value of overlay accuracy after photoengraving processing which has been measured by an overlay inspecting device 4, and the measurement value of overlay accuracy after etching. - 特許庁

演算部１２は、データ保存部１１によって保存された写真製版処理後の重ね合わせ精度の測定値から、エッチング後の重ね合わせ精度の測定値を減算して重ね合わせ検査装置４の補正量を算出する。例文帳に追加

A calculator 12 subtracts the measurement value of the overlay accuracy after etching from the measurement value of the overlay accuracy after the photoengraving processing which has been stored by the section 11 to calculate the correcting amount of the device 4. - 特許庁

最適な光学特性を容易に測定でき、各レイヤーの最適なパターンの重ね合わせ精度、最適重ね合わせ量を計測する。例文帳に追加

To measure the precision of an optimum pattern superposition and an amount of the optimum superposition for each layer by measuring optimum optical characteristics with ease. - 特許庁

効率良く重ね合わせ測定をすることができ、しかも精度良く重ね合わせを行なうことができる処理装置及び処理方法を提供する。例文帳に追加

To provide a processor and a processing method which can perform superposition measurement efficiently and besides can perform superposition measurement efficiently. - 特許庁

重ね合わせ誤差の発生要因を解析でき、さらには重ね合わせ精度を向上させることができる位置合わせ装置及び位置合わせ方法を提供する。例文帳に追加

To provide a aligning apparatus and method for analyzing the causes of the generation of overlapping errors and further improving overlapping accuracy. - 特許庁

製作、取り扱いが容易で、精度よく基板を重ね合わせることができる基板重ね合わせ装置を提供する。例文帳に追加

To provide a substrate overlaying device that is easy to manufacture and handle, and precisely overlays substrates. - 特許庁

スキャン露光装置を用いて、下層のパターンに重ね合わせて上層のパターンを形成する際、重ね合わせ精度向上を図る。例文帳に追加

To improve precision of alignment when forming an upper layer pattern by overlaying it on a lower layer pattern using a scanning exposure apparatus. - 特許庁

半導体装置の製造工程における重ね合わせ検査へのバックグラウンド・ノイズの影響を低減し、高精度の重ね合わせ検査を実現しうる重ね合わせ検査方法及び装置を提供する。例文帳に追加

To provide a method and a device that can reduce an influence of a back-ground noise on superposition inspection in a production process of a semi-conductor, so as to be able to realize a highly precise superposition inspection. - 特許庁

異なるマスクレイヤに属するショット間の重ね合わせ精度を高速に計測することができ、高精度なショット重ね合わせを実現できるフォトマスク、重ね合わせ精度計測方法及び半導体装置の製造方法を提供する例文帳に追加

To provide a photomask and a method for measuring shot overlay accuracy by which the overlay accuracy among shots belonging in different mask layers can be rapidly measured and shot overlay with high accuracy can be achieved, and to provide a method for manufacturing a semiconductor device. - 特許庁

位相シフトレチクルの遮光膜と位相シフタ−との精度の良い重ね合わせ位置精度の評価が可能で、仮に重ね合わせ位置精度が良くない場合には、重ね合わせ描画のやり直しができる位相シフトレチクルの製造方法を提供する。例文帳に追加

To provide a manufacturing method of a phase shift reticle by which an overlap positional precision between a light shielding film of the phase shift reticle and a phase shifter can be evaluated highly precisely, and a overlap plotting is conducted again when the overlapped positional precision is judged to be insufficient. - 特許庁

フォトリソグラフィー工程でのマスクの重ね合わせ精度を正確にかつ再現性よく測定する。例文帳に追加

To measure the precision in superposition of masks in a photolithography process accurately regeneratively with high reproducibility. - 特許庁

フォトマスク、ショット重ね合わせ精度測定方法、及び半導体装置の製造方法例文帳に追加

PHOTOMASK, METHOD FOR MEASURING SHOT OVERLAY ACCURACY, AND METHOD FOR MANUFACTURING SEMICONDUCTOR DEVICE - 特許庁

半導体装置およびその製造に用いるフォトマスクならびにその重ね合わせ精度向上方法例文帳に追加

SEMICONDUCTOR DEVICE, PHOTOMASK TO BE USED FOR PRODUCING THE SAME AND OVERLAPPING ACCURACY IMPROVING METHOD - 特許庁

高いスループットと高い重ね合わせ精度を有する露光装置を提供する。例文帳に追加

To provide an exposure apparatus having high throughput and high accuracy in overlay. - 特許庁

これにより、パターンの重ね合わせ精度の低下、又はスループットの低下を回避することが可能となる。例文帳に追加

Thus, the reduction in accuracy of superposition of patterns or a reduction in throughput can be avoided. - 特許庁