| 意味 | 例文 |
ACID CLEANING LIQUID FOR MAGNESIUM ALLOY MATERIAL例文帳に追加
マグネシウム合金材の酸洗浄液 - 特許庁
ACID CLEANING AGENT FOR CARGO TANK OR THE LIKE OF CHEMICAL TANKER AND AUTOMATIC ACID CLEANING METHOD OF THE CARGO TANK OR THE LIKE例文帳に追加
ケミカルタンカーのカーゴタンク等の酸洗浄剤及びその自動酸洗方法 - 特許庁
More specifically, the acid cleaning is carried out by dipping a fired substrate 47 in the acid cleaning liquid.例文帳に追加
詳しくは、焼成基板47を、酸性の脱脂液に漬けて、酸性脱脂を行った。 - 特許庁
SULFURIC ACID RECYCLING CLEANING SYSTEM AND SULFURIC ACID RECYCLING PERSULFURIC ACID FEEDER例文帳に追加
硫酸リサイクル型洗浄システムおよび硫酸リサイクル型過硫酸供給装置 - 特許庁
APPARATUS FOR MANUFACTURING PERSULFURIC ACID AND CLEANING SYSTEM例文帳に追加
過硫酸製造装置および洗浄システム - 特許庁
ACID CLEANING METHOD FOR RARE-EARTH MAGNET, AND RARE-EARTH MAGNET SUBJECTED TO ACID CLEANING BY THE METHOD例文帳に追加
希土類磁石の酸洗浄方法および前記方法によって酸洗浄された希土類磁石 - 特許庁
In addition, alkali cleaning and acid cleaning can be performed after the third process.例文帳に追加
第3の工程の後、アルカリ洗浄と酸洗浄を行っても良い。 - 特許庁
CORROSION INHIBITOR USED FOR ACID CLEANING OF METAL, CLEANING LIQUID COMPOSITION, AND CLEANING METHOD OF METAL例文帳に追加
金属の酸洗浄に用いる腐食抑制剤、洗浄液組成物及び金属の洗浄方法 - 特許庁
There is provided the jelly cleaning composition containing an acetic acid.例文帳に追加
酢酸を含有する、ゼリー状洗浄組成物。 - 特許庁
METHOD FOR CLEANING APPARATUS FOR PRODUCING (METH) ACRYLIC ACID ESTER例文帳に追加
(メタ)アクリル酸エステル製造装置の洗浄方法 - 特許庁
To provide a measurement method of the concentration of a sulfuric acid in an acid cleaning bath for measuring the concentration of a sulfuric acid in an acid cleaning bath for acid-cleaning a steel band in a sulfuric acid by throwing a fixed amount of iron- masking agent into a sample that is sampled from the acid cleaning bath and then precipitating iron.例文帳に追加
鋼帯を硫酸で酸洗処理する酸洗槽中の酸洗液の硫酸濃度を、該酸洗槽から採取したサンプルに一定量鉄マスキング剤を投入して鉄分を沈殿させてから測定する酸洗槽の硫酸濃度測定方法に関する。 - 特許庁
The soil cleaning agent comprises a phosphoric acid aqueous solution or a sulfuric acid aqueous solution.例文帳に追加
リン酸水溶液又は硫酸水溶液からなる土壌洗浄剤。 - 特許庁
CLEANING AGENT COMPRISING TITANIUM OXIDE-HUMIC ACID ASSOCIATE例文帳に追加
二酸化チタン−フミン酸会合体からなる浄化剤 - 特許庁
CORROSION INHIBITOR FOR ACID CLEANING, CLEANING LIQUID COMPOSITION CONTAINING THE SAME AND CLEANING METHOD FOR METALLIC SURFACE例文帳に追加
酸洗浄用腐食抑制剤、それを含んだ洗浄液組成物および金属表面の洗浄方法 - 特許庁
The cleaning system comprises a cleaning bath 1 for a cleaning target material with a cleaning solution 16 containing a sulfuric acid solvent, a means 20 for preparing a persulfuric acid solution, and a persulfuric acid adding means (switching valve 14, persulfuric acid adding line 15) for adding the cleaning solution to the persulfuric acid solution.例文帳に追加
硫酸溶液を含む洗浄液16によって被洗浄材を洗浄する洗浄槽1と、過硫酸溶液を生成する過硫酸溶液生成手段20と、過硫酸溶液を前記洗浄液に添加する過硫酸添加手段(開閉弁14、過硫酸添加ライン15)とを備える。 - 特許庁
CORROSION INHIBITOR COMPOSITION FOR CLEANING BY CHELATING AGENT-ORGANIC ACID例文帳に追加
キレート剤・有機酸洗浄用腐食抑制剤組成物 - 特許庁
In the chemical cleaning process, an alkali cleaning process which immerses the etched foil in an alkali cleaning liquid, and an acid cleaning process which immerses the etched foil after the alkali cleaning process in an acid cleaning liquid are carried out.例文帳に追加
前記ケミカル洗浄工程では、エッチド箔をアルカリ性洗浄液に浸漬させるアルカリ洗浄工程と、アルカリ洗浄工程を行った後のエッチド箔を酸性洗浄液に浸漬させる酸洗浄工程とを行う。 - 特許庁
CLEANING METHOD OF SEMICONDUCTOR SUBSTRATE WITH HIGH TEMPERATURE MIST SULFURIC ACID AND CLEANING EQUIPMENT例文帳に追加
高温霧状硫酸による半導体基板の洗浄方法及び洗浄装置 - 特許庁
CLEANING METHOD AND CLEANING DEVICE OF SAFETY VALVE CHEST OF CONTROL VALVE TYPE LEAD-ACID BATTERY例文帳に追加
制御弁式鉛蓄電池の安全弁室の洗浄方法及び洗浄装置 - 特許庁
The strong acid included in the cleaning solution for CMP is preferably at least one kind of compound selected from sulfuric acid, oxalic acid, hydrofluoric acid, nitric acid and hypochlorous acid.例文帳に追加
CMP用洗浄液に含まれる強酸は、硫酸、シュウ酸、フッ酸、硝酸及び次亜塩素酸から選ばれる少なくとも1種類の化合物であることが好ましい。 - 特許庁
SULFURIC ACID ELECTROLYTIC CELL AND SULFURIC ACID RECYCLE TYPE CLEANING SYSTEM例文帳に追加
硫酸電解槽及び硫酸電解槽を用いた硫酸リサイクル型洗浄システム - 特許庁
The mean for obtaining such passivated coating is comprised of acid cleaning the stainless steel with a solution of sulfuric acid or nitric acid, wherein the pH is controlled to be 2.5 to 3.5 and subjecting the treated stainless steel to cleaning treatment.例文帳に追加
その手段としてはステンレス鋼をpH=2.5〜3.5に調整した硫酸あるいは硝酸により酸洗・洗浄処理する。 - 特許庁
SULFURIC-ACID-RECYCLING TYPE CLEANING SYSTEM AND OPERATING METHOD THEREFOR例文帳に追加
硫酸リサイクル型洗浄システムおよびその運転方法 - 特許庁
METHOD FOR REDUCTION CLEANING OF POLYLACTIC ACID-BASED FIBER DYED MATERIAL例文帳に追加
ポリ乳酸系繊維染色物の還元洗浄方法 - 特許庁
In such a case, the cleaning liquid is mixed with a nitric acid and a hydrochloric acid as an inhibitor.例文帳に追加
この場合、洗浄液は、硝酸とインヒビターとして塩酸を添加したものである。 - 特許庁
Since the persulfuric acid solution is added to the sulfuric acid solvent as the cleaning solution, a high level of cleaning can be attained and the throughput of a cleaning process can be improved.例文帳に追加
洗浄液である硫酸に過硫酸溶液を添加することで高度な洗浄が可能になり、洗浄プロセスのスループットを向上できる。 - 特許庁
SKIN CLEANING AGENT COMPOSITION CONTAINING ALKYL ETHER CITRIC ACID ESTER例文帳に追加
アルキルエーテルクエン酸エステルを含有する皮膚洗浄剤組成物 - 特許庁
ELECTROLYTIC GAS PROCESSING APPARATUS AND SULFURIC ACID RECYCLE TYPE CLEANING SYSTEM例文帳に追加
電解ガス処理装置および硫酸リサイクル型洗浄システム - 特許庁
The cathode electrolytic cleaning is performed in an acid solution.例文帳に追加
また、その陰極電解洗浄は酸性溶液中で行う。 - 特許庁
A cleaning fluid containing citric acid and ethylenediaminetetraacetic acid or their salts is defined as a first cleaning fluid, and a cleaning fluid containing an oxalic acid or its salt is defined as a second cleaning fluid, a semiconductor substrate is cleaned with a first and a second cleaning fluid separately, and a cleaning operation is carried out once or more for a semiconductor substrate with each cleaning fluid.例文帳に追加
クエン酸、エチレンジアミン四酢酸又はその塩を含む洗浄液を第1洗浄液とし、シュウ酸又はその塩を含む洗浄液を第2洗浄液とし、第1洗浄液及び第2洗浄液により半導体基板をそれぞれ別々に洗浄し、かつそれぞれの洗浄回数が1回以上である。 - 特許庁
METHOD OF REDUCTION OF ARSENIC ACID TO ARSENIOUS ACID AND METHOD OF CLEANING ARSENIC CONTAMINATED SOIL USING THE SAME例文帳に追加
ヒ酸を還元して亜ヒ酸にする方法およびそれを用いたヒ素汚染土壌の浄化方法 - 特許庁
The acid cleaning is performed with effective amount of a compound containing at least one kind of alkanesulfonic acid.例文帳に追加
少なくとも1種のアルカンスルホン酸を含む配合物を用いて洗浄を行うものである。 - 特許庁
A method for manufacturing a semiconductor integrated circuit device comprises the steps of sequentially treating it for reducing and acid cleaning by alkali cleaning, hydrogen annealing or the like in the case of cleaning after CMP.例文帳に追加
CMP後洗浄に際して、アルカリ洗浄、水素アニール等による還元処理および酸洗浄を順に施す。 - 特許庁
DETERGENT CONTAINING ALKOXYLATED FATTY ACID ALKYL ESTER AND CLEANING AGENT例文帳に追加
アルコキシル化された脂肪酸アルキルエステルを含む洗剤及び清浄剤 - 特許庁
SEMI-AQUEOUS STRIPPING AND CLEANING COMPOSITION CONTAINING AMINOBENZENESULFONIC ACID例文帳に追加
アミノベンゼンスルホン酸を含む半水溶性の剥離および洗浄組成物 - 特許庁
USE OF SULFURIC ACID CLEANING WHEN REMOVING TITANIUM FLUORIDE NODULES例文帳に追加
フッ化チタンノジュールを除去する際における硫酸洗浄の使用 - 特許庁
METHOD AND SYSTEM PERSULFURIC ACID RECYCLING TYPE CLEANING例文帳に追加
硫酸リサイクル型洗浄方法および硫酸リサイクル型洗浄システム - 特許庁
To avoid a trouble for removing a water cleaning part when cleaning with citric acid, sulfamic acid, etc. is performed in an electric hot water heater.例文帳に追加
電気湯沸器に於いて、クエン酸やスルファミン酸等を用いた洗浄時に浄水部を取り外す手間を無くすことを目的とする。 - 特許庁
The barrier wall is in the state of silicon nitride at the time of cleaning process, and has a high resistance property (fluorinated acid resistance) for the fluorinated acid used for the cleaning.例文帳に追加
隔壁は、洗浄処理時には窒化シリコンの状態であり、洗浄に用いられるフッ酸に対する耐性(耐フッ酸性)が高い。 - 特許庁
| 意味 | 例文 |
| Copyright © Japan Patent office. All Rights Reserved. |
|
ログイン |
Weblio会員(無料)になると
|
|
ログイン |
Weblio会員(無料)になると
|