「ACID CLEANING」に関連した英語例文の一覧と使い方(5ページ目) - Weblio英語例文検索

The cleaning liquid is produced by gradually eluting the detergent which contains an organic acid and is molded into a solid shape.例文帳に追加

有機酸を含むとともに固形状に成型された洗浄剤を徐々に溶出させることで洗浄液を生成する。 - 特許庁

The composition for semiconductor cleaning is composed of a mixed solution of organic acid, ammonia and a fluorine compound.例文帳に追加

有機酸とアンモニアとフッ素化合物の混合水溶液からなることを特徴とする半導体洗浄用組成物を用いる。 - 特許庁

A cleaning solution containing a fluoride, an organic acid containing a carboxyl group, an alkaline pH regulator, and water is used.例文帳に追加

フッ化物、カルボキシル基を含む有機酸、アルカリ性ｐＨ調節剤及び水を含む洗浄液を用いる。 - 特許庁

The method includes adding citric acid solution into the liquid medium of a semiconductor substrate cleaning system.例文帳に追加

本発明の方法は、半導体基板洗浄システムの液体媒質にクエン酸溶液を添加することを含む。 - 特許庁

CLEANING COSMETIC COMPOSITION CONTAINING ANIONIC SURFACTANT DERIVED FROM AMINO ACID AND SILICONE AND USE OF THE COMPOSITION例文帳に追加

アミノ酸から誘導されたアニオン性界面活性剤とシリコーンを含有する洗浄用化粧品組成物とその使用 - 特許庁

The composition for cleaning contains limonene, glycerin, citric acid, and sodium chloride, does not contain a synthetic surfactant, and has a pH of 4.0-5.5.例文帳に追加

リモネン、グリセリン、クエン酸及び食塩を含有し、合成界面活性剤を含有しない、ｐＨが４．０〜５．５である洗浄用組成物。 - 特許庁

This cleaning liquid for a semiconductor wafer contains hydrogen peroxide and a chelate compound having at least five or more of a phosphonic-acid group in the molecule.例文帳に追加

過酸化水素および分子内に５以上のホスホン酸基を有するキレート化合物を含有する半導体基板の洗浄液。 - 特許庁

The process of cleaning the base substrate 10 comprises at least one process of utilizing an alkaline solvent and an acid solvent.例文帳に追加

ベース基板１０を洗浄する工程は、アルカリ性溶剤を利用する工程及び酸性溶剤を利用する工程の少なくとも一方を含む。 - 特許庁

The residue cleaning composition includes: (a) water; (b) a fluoride; and (c) a pH buffer system including an organic acid and a base.例文帳に追加

残渣クリーニング組成物は以下を含む:(a)水;(b)フッ化物;(c)有機酸および塩基を含むｐＨバッファー系。 - 特許庁

In addition, deposition of hydrocarbon to the substrate surface can be prevented by using acid and alkali for cleaning substrate in place of an organic solvent.例文帳に追加

また、基板洗浄に有機溶媒を用いず、酸やアルカリを用いることで、ハイドロカーボンの基板表面への付着を防止する。 - 特許庁

The silicon carbide, having such a high-cleanliness surface, is obtained by cleaning it with an aqueous solution containing sulfuric acid and hydrogen peroxide.例文帳に追加

このような高い清浄度の表面を有する炭化珪素は硫酸と過酸化水素水を含む水溶液を用いて洗浄することによって得られる。 - 特許庁

The cleaning tank 11 comprises a circulating pump P for circulating an acid aqueous solution therein, and a heater 13.例文帳に追加

洗浄槽１１には、その内部で酸性水溶液を循環する循環用ポンプＰ、ヒーター１３が配備されている。 - 特許庁

The cleaning liquid for lithography comprises a single alkoxycarboxylic acid alkylester or a mixture solvent of the ester with alkoxybenzene.例文帳に追加

アルコキシカルボン酸アルキルエステル単独又はこれとアルコキシベンゼンとの混合溶剤からなるリソグラフィー用洗浄液とする。 - 特許庁

Or, preferably the method includes a process of cleaning the porous ceramic filter with a water-soluble organic solvent and/or an inorganic acid.例文帳に追加

又、好ましくは多孔質セラミックフィルターを水溶性有機溶剤及び／又は無機酸で洗浄する工程を含む。 - 特許庁

The cleaning solution for substrates is a mixture of amino alcohol, phosphonic acid and hydrogen peroxide.例文帳に追加

アミノアルコールとホスホン酸と過酸化水素水との混合溶液からなるＳｉを含有する基板の洗浄溶液。 - 特許庁

To provide a method for cleaning an apparatus for producing a (meth) acrylic acid ester, with which deposit derived from a titanium catalyst slightly adheres to the apparatus.例文帳に追加

装置内にチタン含有触媒由来の析出物の付着が少ない（メタ）アクリル酸エステル製造装置の洗浄方法を提供する。 - 特許庁

To provide a catalyst for cleaning exhaust gas containing a carrier which is at least one kind of sulfuric acid resistant and fire resistant oxide and a catalytic metal.例文帳に追加

少なくとも１種の硫−耐性耐火性酸化物である担体及び触媒金属を含む排気ガス浄化用触媒が提供される。 - 特許庁

The cleaning is performed for 10 to 24 hours using citric acid as the detergent that has initial pH ranging from 5.0 to 6.0.例文帳に追加

洗浄剤として初期ｐＨが５．０〜６．０のクエン酸水を用いて１０時間〜２４時間程度の洗浄処理を行う。 - 特許庁

To provide a pickling method for effectively recycling sulfuric acid waste water used for etching and cleaning electronic parts, for a liquid for pickling stainless steel.例文帳に追加

電子部品のエッチングや洗浄に用いられた硫酸廃液をステンレス鋼の酸洗液として有効に再利用する酸洗方法を提案する。 - 特許庁

The cleaning cosmetic contains a 10-24C branched fatty acid ester of hardened castor oil and/or castor oil.例文帳に追加

硬化ひまし油及び／又はひまし油の炭素数１０〜２４の分岐脂肪酸エステルを洗浄用の化粧料に含有させる。 - 特許庁

In the 1st step, strong acid liquid etching is carried out, after cleaning the surface of a conductive substrate consisting of an aluminum material.例文帳に追加

第１工程で、アルミニウム系材料から成る導電性基体表面を洗浄した後、強酸性液によりエッチング処理を行う。 - 特許庁

The cleaning solution for transparent members contains a water-soluble fluorine compound, an acid and a thickener and/or a drying preventing agent in water.例文帳に追加

水溶性フッ素化合物と、酸と、増粘剤および／または乾燥防止剤とを水中に含有することを特徴とする透明部材の洗浄液。 - 特許庁

In the vapor phase cleaning section, hydrofluoric acid steam is supplied onto the substrate W while the substrate W is rotated at a low speed, being kept at a prescribed temperature.例文帳に追加

気相洗浄処理部は、基板Ｗを所定の温度に維持しつつ低速回転させながら、基板Ｗにフッ酸蒸気を供給する。 - 特許庁

In one embodiment, the cleaning step involves immersing the component in a heated solution comprising acetic acid while agitating the solution using ultrasonic energy.例文帳に追加

一実施形態では、清浄処理段階は、酢酸を含む加熱溶液に部品を浸漬し、超音波エネルギーを用いて溶液を攪拌する。 - 特許庁

Further, the composition for semiconductor cleaning is characteristically composed of a mixed solution of organic acid and a fluorine compound.例文帳に追加

また、無機酸とフッ素化合物の混合水溶液からなることを特徴とする半導体洗浄用組成物を用いる。 - 特許庁

To reduce the odor of a peracetic acid leaking from an endoscope cleaning sterilization instrument by permitting a resolving enzyme to be easily used.例文帳に追加

分解酵素を簡単に使用できるようにして、内視鏡洗浄消毒装置から漏れる過酢酸の臭気を少なくする。 - 特許庁

To provide an oil cleaning device which can remove organic acid comprised in separated water as much as possible, and can prevent the corrosion of piping.例文帳に追加

分離した水に含まれる有機酸を可能な限り除去し、配管の腐食を防止することができる油洗浄装置を提供する。 - 特許庁

An organic film treatment is given on the components of the vacuum equipment mainly composed of copper (Cu) after the acid cleaning treatment as a pre-treatment prior to the assembling.例文帳に追加

真空機器の銅（Ｃｕ）を主成分とする部品に対して組立前の事前処理として酸洗工程後に有機性皮膜処理を施す。 - 特許庁

To provide a method for reduction cleaning of a polylactic acid-based fiber dyed material, which does not cause embrittlement and deterioration of the fiber.例文帳に追加

繊維の脆化や劣化を起こすことない、ポリ乳酸系繊維染色物の還元洗浄方法を提供する。 - 特許庁

By this configuration, a high cleaning effect can be maintained by managing the persulfuric acid concentration of the solution, and power for electrolysis can be efficiently used.例文帳に追加

溶液の過硫酸濃度の管理によって高い洗浄効果を維持するとともに、電解用の電力を効率的に使用することを可能にする。 - 特許庁

A naturally oxidized film on an exposed surface in a source region and a drain region is removed using a cleaning liquid A containing hydrofluoric acid.例文帳に追加

ソース領域およびドレイン領域の露出した表面上の自然酸化膜を、フッ酸を含有する洗浄液Ａで洗浄除去する。 - 特許庁

The use of an alkanolamine and an alcohol as the water-soluble organic solvent suppresses the precipitation of a carbonic acid salt and keeps the cleaning power over a long period.例文帳に追加

水溶性有機溶媒としてアルカノールアミンとアルコールを用いると炭酸塩の析出が抑制され、洗浄性が長期間維持される。 - 特許庁

Hydrofluoric acid obtained from the gaseous hydrogen fluoride can be reutilized as the one for cleaning, e.g. in a semiconductor fabrication process as the source of producing a waste liquid.例文帳に追加

フッ化水素ガスから得られるフッ化水素酸を前記、排液発生源の半導体製造工程等の洗浄用としての再利用を可能とする。 - 特許庁

To improve an electrolysis apparatus for treating the surface of a steel plate with a coagulative electrolyte, in an electrolytic acid-cleaning apparatus for the steel plate.例文帳に追加

鋼板の電解酸洗設備において、凝固性電解液を用いて鋼板の表面処理を行う電解設備の改良に関する。 - 特許庁

A spontaneous oxide film, formed on the surface of the electrode 17A, is removed by a cleaning process using a mixed solution of hydrofluoric acid and water.例文帳に追加

下部電極１７Ａの表面に形成される自然酸化膜を、フッ酸と水の混合液を用いた洗浄処理により除去する。 - 特許庁

This cleaning liquid includes 80-700 g/L of phosphoric acid and 0.5-100 g/L of a nonionic detergent, and has a pH of 0.5-3.0.例文帳に追加

リン酸８０ｇ／Ｌ〜７００ｇ／Ｌと非イオン性界面活性剤０．５ｇ／Ｌ〜１００ｇ／Ｌとを含むことと、ｐH０．５〜３．０であることと、を備える。 - 特許庁

To provide a wastewater treatment apparatus and a wastewater treatment method sufficiently cleaning wastewater containing oxalic acid and aluminum.例文帳に追加

蓚酸及びアルミニウムを含有する排水を十分に浄化できる排水処理装置及び排水処理方法を提供する。 - 特許庁

To provide a solid cleaning composition which is derived from amino acid and has good appearance and improved sense of use.例文帳に追加

本発明の解決すべき課題はアミノ酸系固形洗浄組成物において、その良好な外観を損なうことなく、使用感の改善を図ることにある。 - 特許庁

Since an energy source is only sun light, a titanium dioxides-humic acid associate is advantageously used as an inexpensive cleaning agent harmonious with environment.例文帳に追加

またエネルギー源は太陽光のみであるため、環境調和型で低コストな浄化剤として有利に用いられる。 - 特許庁

A sub-electrolyzer 11 for generating acidic water for acid cleaning of the main electrolyzer 2 is installed.例文帳に追加

この主電解装置２を酸洗浄するための酸性水を生成させるために副電解装置１１が設置されている。 - 特許庁

It is no longer required to remove the naturally oxidized film on the surface by cleaning the amorphous silicon oxide film with hydrofluoric acid.例文帳に追加

アモルファス酸化シリコン層をフッ酸洗浄して表面の自然酸化膜を除去する必要がない。 - 特許庁

NEW COMPOUND, METHOD FOR STABILIZING SCHWERTMANNITE, METHOD FOR CLEANING POLLUTED WATER OR POLLUTED SOIL, AND METHOD FOR ADSORBING PHOSPHORIC ACID例文帳に追加

新規化合物、シュベルトマナイトの安定化方法、汚染水若しくは汚染土の浄化方法、リン酸の吸着方法 - 特許庁

After that, cleaning with acid is executed, a second functional group-containing compound film is formed and a resin insulating film is laminated.例文帳に追加

その後、酸洗浄、第２の官能基保有化合物膜を形成し、そして樹脂絶縁膜の積層を行う。 - 特許庁

The sulfuric acid solution is iteratively used to renew the persulfate solution on-site through the electrolytic reaction device so that it may be reused for cleaning.例文帳に追加

硫酸溶液を繰り返し利用して過硫酸溶液を電解反応装置によってオンサイトで再生して洗浄に使用できる。 - 特許庁

Then, a pre-cleaning liquid D1 (low-density hydrofluoric acid water solution) is discharged out on both the higher and lower surfaces of the wafer W (shown in Fig. (c)) for a certain time.例文帳に追加

次に、ウエハＷの下面および上面に向けて、一定時間予備洗浄液Ｄ１（低濃度のフッ酸水溶液）が吐出される（図２（ｃ））。 - 特許庁