「ACID CLEANING」に関連した英語例文の一覧と使い方(9ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide a Hizikia fusiforme processing equipment and a method for cleaning its steaming chamber, enabling processed Hizikia fusiforme to be produced at low cost through preventing growing bacteria such as butyric acid bacteria contained in Hizikia fusiforme in transferring it from its steaming step to its drying step, and also easy in the maintenance and cleaning of the equipment.例文帳に追加

ヒジキの蒸煮工程から乾燥工程に移行する時にヒジキに含まれている酪酸菌等の細菌に増殖を防止し、生低コストで加工ヒジキの生産を可能にし、更にメンテナンスや清掃が容易なヒジキの加工装置及びその蒸煮室の清掃方法の提供。 - 特許庁

This granular or tablet-like artificial tooth detergent comprises an acidic rapidly dissolving part containing an acid and a persulfate and an alkaline slowly dissolving part containing a carbonate and a perborate and is mixed with an artificial tooth cleaning water so that the liquid property of the cleaning water can be changed from a low pH to a high pH.例文帳に追加

酸及び過硫酸塩を含有する酸性速溶部と炭酸塩及び過ホウ酸塩を含有するアルカリ性徐溶部を有する粒状もしくは錠剤状の義歯洗浄剤であって、義歯洗浄水に配合されて該水の液性を低ｐＨから高ｐＨに変化させることのできる義歯洗浄剤。 - 特許庁

In the surface treatment process for inhibiting elution of lead from the water system equipment made of the lead-containing copper alloy, after an alkali cleaning step ST1, an acid cleaning step ST3 is performed to neutralize alkaline components left on the surface of the water system equipment before a chromate-treatment step ST5.例文帳に追加

鉛含有銅合金性の水道用器具からの鉛の溶出を防止するための表面処理方法として、アルカリ洗浄工程ＳＴ１の後、酸洗浄工程ＳＴ３を行って水道用器具の表面に残っているアルカリ成分を中和させてからクロメート処理工程ＳＴ５を行う。 - 特許庁

A surface on which an organic film containing silicon formed on a semiconductor wafer substrate is removed is processed by a method at least including a first step of carrying out a cleaning process with ammonia aqueous solution, and a second step of carrying out a cleaning process with diluted hydrofluoric acid aqueous solution.例文帳に追加

半導体ウェハー基板上に形成されたシリコン含有有機膜を除去した表面を、アンモニア水溶液により洗浄処理を行う第１のステップと、希釈フッ酸水溶液により洗浄処理を行う第２のステップを少なくとも有する方法で処理する。 - 特許庁

To provide a cleaning method effective for reducing contents of unreacted phenols, unreacted alcohols and a metal salt remaining in a phosphonitrilic acid ester by a cleaning process after production of a phosphonitrilic acid ester by reacting phosphonitrile dichloride with an alkali metal arylate and/or an alkali metal alcoholate.例文帳に追加

ホスホニトリルジクロライドをアルカリ金属アリーラート、及び／またはアルカリ金属アルコラートと反応させてホスホニトリル酸エステルを製造した後の洗浄工程により、ホスホニトリル酸エステル中に残存する未反応フェノール類、未反応アルコール類及び金属塩の含有量を低減するのに有効な洗浄方法の提供。 - 特許庁

The method for cleaning a biodiesel fuel by an alkali-catalyzing technique comprises the following process: misty water microparticles generated by a humidifier are gently allowed to fall spontaneously into a cleaning tank, and a fatty acid methyl ester or fatty acid ethyl ester is refined by removing alkali ions, glycerol and free fatty acids through suppressing saponification reaction.例文帳に追加

アルカリ触媒法によるバイオディーゼル燃料洗浄方法において、洗浄タンク内に加湿器で発生させた霧状水微粒子を静かに自然落下させ、鹸化反応を抑えアルカリイオン,グリセリンや遊離脂肪酸を除去して脂肪酸メチルエステルまたは脂肪酸エチルエステルを精製する。 - 特許庁

This method for producing the (meth)acrylic acid ester having the cyclic skeleton includes a process for reacting an alcohol having the cyclic skeleton composed of four or more carbon atoms with (meth)acrylic acid or an reactive derivative thereof and a process for cleaning the reaction product obtained by the above process with a cleaning fluid containing amines.例文帳に追加

炭素数４以上の環式骨格を有するアルコールと（メタ）アクリル酸またはその反応性誘導体を反応させる工程、および該工程で得られる反応生成物をアミン類を含む洗浄液で洗浄する工程を含むことを特徴とする環式骨格を有する（メタ）アクリル酸エステルの製造方法。 - 特許庁

A pickling facility 1 includes: a pickling tank 10 storing acid chemicals and made of an acid-proof resin; a steel strip washing nozzle 30b arranged inside the pickling tank 10 and discharging a cleaning solution; and piping 32 penetrating through the pickling tank 10 to supply the cleaning solution to the steel strip washing nozzle 30b from external of the pickling tank 10.例文帳に追加

酸洗設備１は、酸性薬液を貯留する耐酸性樹脂製の酸洗槽１０と、酸洗槽１０の内部に配設されて洗浄液を放出する鋼帯洗浄ノズル３０ｂと、酸洗槽１０を貫通して酸洗槽１０の外部から鋼帯洗浄ノズル３０ｂに洗浄液を供給する配管３２とを備えている。 - 特許庁

A processing apparatus for surface cleaning having a jet nozzle 40 for supplying deionized water pressurized by a jet pump 46 for the cleaning process, is provided with, aside from the nozzle 40, a nozzle 41 for supplying aqueous solution of carbonic acid, which supplies aqueous solution of carbonic acid in a form of mist to a wafer.例文帳に追加

ジェットポンプ４７によって高圧に加圧された純水をウェハＷに供給して洗浄処理するジェットノズル４０を備えた表面洗浄処理装置７において，ウェハＷにミスト状の炭酸水溶液を供給する炭酸水溶液供給ノズル４１をジェットノズル４０と別に設けた。 - 特許庁

A physicochemical cleaning method provided in the invention removes sludge by injecting at least one kind selected from a group consisting of gaseous nitrogen, liquid nitrogen and dry ice into a cleaning solvent including at least one kind selected from a group consisting of water, ETA (monoethanolamine), NH_3, DTPA (Diethylene triamine pentaacetic acid), EDTA (ethylenediaminetetraacetic acid) and N_2H_2.例文帳に追加

本発明は、水、ＥＴＡ（ｍｏｎｏｅｔｈａｎｏｌａｍｉｎｅ）、ＮＨ_３、ＤＴＰＡ（Ｄｉｅｔｈｙｌｅｎｅ ｔｒｉａｍｉｎｅ ｐｅｎｔａａｃｅｔｉｃ ａｃｉｄ）、ＥＤＴＡ（ｅｔｈｙｌｅｎｅｄｉａｍｉｎｅｔｅｔｒａａｃｅｔｉｃ ａｃｉｄ）及びＮ_２Ｈ_２からなる群より選択される少なくとも一種を含む洗浄液に気体窒素、液体窒素、及びドライアイスからなる群より選択される少なくとも一種を注入してスラッジを除去する物理化学的洗浄方法を提供する。 - 特許庁

To obtain an aqueous solution containing peracetic acid which is a peracetic acid-containing stock solution usable by dilution once without requiring repeated dilutions of plural times, is capable of removing (cleaning) inorganic substances and organic substances in a dialyzer (including piping) and degerming the dialyzer by treating the dialyzer with the aqueous solution to provide a method for cleaning the dialyzer.例文帳に追加

複数回繰り返して希釈を行うことなく、１回の希釈によって使用可能な過酢酸含有原液であって、透析装置（配管を含む）を処理して、透析装置内の無機物および有機物除去（洗浄）と除菌を行うことが可能な過酢酸含有水溶液および透析装置の洗浄方法を提供すること。 - 特許庁

The cleaning liquid used for cleaning the substrate on the surface of which the low dielectric constant film (a low-K film) composed of SiOC is exposed comprises 0.01-0.5 mass% of a carboxylic acid type anionic surfactant, 0.01-0.5 mass% of oxalic acid as a complexing agent and ≤0.1 mass% of an amine as an alkaline component.例文帳に追加

ＳｉＯＣからなる低誘電率膜（Ｌｏｗ−Ｋ膜）が表面に露出した基板を洗浄する洗浄液に、０．０１乃至０．５質量％のカルボン酸型アニオン界面活性剤、錯化剤として０．０１乃至０．５質量％のシュウ酸、アルカリ成分として０．１質量％以下のアミンを含有させ、残部を水及び不可避的不純物とする。 - 特許庁

This detergent composition containing a triglycerol fatty acid ester is provided by having a 10 or 12C fatty acid constituting the triglycerol fatty acid ester, and it is possible to obtain the detergent composition excellent in cleaning power and having the high foaming power by making the content of the triglycerol fatty acid diester at or less than a specific value as compared with the content of the triglycerol fatty acid monoester in the triglycerol fatty acid ester composition.例文帳に追加

トリグリセリン脂肪酸エステルを含有する洗浄剤組成物において、該トリグリセリン脂肪酸エステルを構成する脂肪酸の炭素数が１０又は１２であり、トリグリセリン脂肪酸エステルの組成中のトリグリセリン脂肪酸モノエステル含有量に対し、トリグリセリン脂肪酸ジエステル含有量を特定値以下にする事により、洗浄力に優れ起泡力の高い洗浄剤組成物を得ることができる。 - 特許庁

The semiconductor substrate is cleaned in a basic hydrogen peroxide cleaning-liquid containing diethylenetriaminepenta (methylenephosphonic acid) or its salt, or containing an oxide of diethylenetriaminepenta (methylenephosphonic acid) or its salt at 0.1-5,000 ppm.例文帳に追加

半導体基板をジエチレントリアミンペンタ（メチレンホスホン酸）、もしくはその塩、またはジエチレントリアミンペンタ（メチレンホスホン酸）の酸化体、もしくはその塩を０．１〜５０００ｐｐｍ含有する塩基性過酸化水素洗浄液で洗浄する。 - 特許庁

The cleaning agent which is used after a chemical-mechanical polishing process in the semiconductor device having the copper wiring on the surface comprises an organic acid (A) and poly amino carboxylic acid (B) having a sulfone group or a phosphon group as a substituent.例文帳に追加

半導体デバイス製造工程において、表面に銅配線を有する半導体デバイスの化学的機械的研磨工程の後に用いられる洗浄剤であって、（Ａ）有機酸と、（Ｂ）スルホン基またはフォスホン基を置換基として有するポリアミノカルボン酸とを含有する洗浄剤である。 - 特許庁

To provide a sulphamic acid-oxycarboxylic acid based detergent which is excellent in ability of suppressing the hydrogen embrittlement of metal and the elution of metal while providing high detergency when a titanium product stuck with a calcium compound or the like as the object for cleaning is cleaned.例文帳に追加

洗浄対象物であるカルシウム化合物等が付着したチタン製品を洗浄する際に，高い洗浄力を提供しつつ，金属の水素脆性及び金属溶出を抑止する能力に優れたスルファミン酸−オキシカルボン酸系洗浄剤を提供すること - 特許庁

The cleaning composition contains (A) N-acyl acidic amino acid or salt thereof, (B) an amphoteric surfactant, (C) 3-8 mass% monoglycerol fatty acid monoester and (D) ≤0.08 mass% or no alkaline earth metal salt.例文帳に追加

（Ａ）Ｎ−アシル酸性アミノ酸またはその塩、（Ｂ）両性界面活性剤、及び、（Ｃ）モノグリセリン脂肪酸モノエステルを３質量％以上８質量％以下を含み、（Ｄ）アルカリ土類金属塩を０．０８質量％以下含有する又はアルカリ土類金属塩を含有しない洗浄組成物。 - 特許庁

A water system cleaning agent contains a polyamino acid and/or a modified polyamino acid, a pH adjusting alkali agent and an oxygen scavenger as a scale inhibitor and further contains an additive comprising either one of a corrosion inhibitor, a carry-over inhibitor, a sludge dispersant and a chelating agent if necessary.例文帳に追加

スケール防止剤としてポリアミノ酸及び／又は変性ポリアミノ酸、ｐＨ調整用のアルカリ剤、および脱酸素剤を含有する水系清缶剤であり、さらに必要に応じ、腐食防止剤、キャリーオーバー防止剤、スラッジ分散剤およびキレート剤のいずれかの添加剤を含むものである。 - 特許庁

This method for cleaning the polyester polycondensation reaction apparatus is provided by pouring a flake state polyester of low molecular weight obtained by using terephthalic acid as a main dicarboxylic acid component and ethylene glycol as a main glycol component, and ≥5 wt.% ethylene glycol into the reaction apparatus and agitating at 240-300°C.例文帳に追加

主たるジカルボン酸成分がテレフタル酸であり、主たるグリコール成分がエチレングリコールであるフレーク状ポリエステル低重合体と、該ポリエステル低重合体に対し、５重量%以上のエチレングリコールとを反応装置内へ投入し、240〜300℃の温度で撹拌する。 - 特許庁

The chemical agent for cleaning and for auxiliary, showing a high deodorizing performance for laundering a garment, contains an effective component which has a deodorizing performance and is an ester of an α-hydroxy acid and/or a β-hydroxy acid and an aliphatic alcohol.例文帳に追加

衣料品を洗濯するための、高い抗脱臭性を示す洗浄用・助剤用薬剤は、α−ヒドロキシ酸及び／又はβ−ヒドロキシ酸と脂肪族アルコールとの、抗脱臭性を有するエステルを含む有効成分を含有することを特徴とする。 - 特許庁

Powder particles formed from an ester bond compound as the staring substance which is obtained by bonding an amino group-containing linear fatty acid compound to a saturated fatty acid which may have a substituent is used between a cleaning blade 22 and an image carrier 1 as the lubricant.例文帳に追加

クリーニングブレード２２と像坦持体１の間に潤滑剤としてのアミノ基を有する直鎖脂肪酸化合物と置換基を有してもよい飽和脂肪酸と結合したカルボン酸化合物のエステル結合化合物を出発物質として形成される粉体粒子を用いる。 - 特許庁

When a panel 5 after a liquid crystal is injected is to be cleaned, a cleaning liquid prepared by adding a fatty acid alkanolamide and a N- alkylalkylene diamine fatty acid salt each by ≤ 5 wt.% to normal paraffin such as normal nonane and normal decane as the main component is used.例文帳に追加

液晶を注入した後のパネル５を洗浄する際には、主成分であるノルマルノナンやノルマルデカンなどのノルマルパラフィンに対して、脂肪酸アルカノールアミドとＮアルキルアルキレンジアミン脂肪酸塩がそれぞれ５重量％以下の濃度で添加されている洗浄液を用いる。 - 特許庁

The amounts of compounding of the at least one kind selected from the group consisting of the erythorbic acid, ascorbic acid and their salts, the metal hydroxide, and the phosphate are specified to specific amounts and thereby the more improved results of the cleaning and stabilizing effects can be obtained.例文帳に追加

エルソルビン酸、アスコルビン酸およびそれらの塩からなる群から選ばれる少なくとも一種や金属水酸化物、リン酸塩の配合量を特定の量とすることにより、より洗浄、安定化効果が向上した結果が得られる。 - 特許庁

In the wipe-cleaning sheet obtained by impregnating the nonwoven fabric sheet with the detergent, the detergent contains the acid water containing hypochlorous acid of 100 wt.% when the ratio of the whole detergent is set to be 100 wt.%.例文帳に追加

不織布シートに洗浄剤を含浸させた清拭シートにおいて、上記洗浄剤は、洗浄剤全体の割合を１００重量％としたときに、次亜塩素酸を含む酸性水を１００重量％の割合で含有することを特徴とする。 - 特許庁

The soldering flux is a non-cleaning flux containing rosin-based resin as the base resin, wherein the percentage content of an abietic acid type resinous acid having conjugate double bonds contained in the rosin-based resin is 2-5 wt.%.例文帳に追加

本発明のはんだ付け用フラックスは、ベース樹脂としてロジン系樹脂を含有する無洗浄フラックスであって、前記ロジン系樹脂中に含まれる共役二重結合を有するアビエチン酸型樹脂酸の含有率が２〜５重量％である。 - 特許庁

The cleaning agent for magnetic disk substrate includes following materials as essential components: oxy-carboxylic acid (A); a chelating agent (B) other than oxy-carboxylic acid, of which the logarithmic value of a chelate stability constant to trivalent iron ion at pH 6.0 is 7.0 or more; and alkanolamine (C).例文帳に追加

オキシカルボン酸（Ａ）とｐＨ６．０における三価の鉄イオンに対するキレート安定度定数の対数値が７．０以上であって該オキシカルボン酸以外のキレート剤（Ｂ）およびアルカノールアミン（Ｃ）を必須成分として含有することを特徴とする磁気ディスク基板用洗浄剤である。 - 特許庁

The soldering flux is a non-cleaning flux which contains rosinous resin as the base resin, wherein the percentage content of an abietic acid type resinous acid having conjugate double bonds which are contained in the rosinous resin is ≤ 30 wt.%.例文帳に追加

本発明のはんだ付け用フラックスは、ベース樹脂としてロジン系樹脂を含有する無洗浄フラックスであって、前記ロジン系樹脂中に含まれる共役二重結合を有するアビエチン酸型樹脂酸の含有率が３０重量％以下である。 - 特許庁

Since the cleaning solution is an acidic solution containing organic acid and has a pH value of 4 or less, the fine particles 13 are charged negatively similar to the surface of the substrate 11, and at the same time, the metallic impurity ions in the solution become negative complex ions due to the complexing effect of the organic acid.例文帳に追加

洗浄液が有機酸を含むｐＨ４以下の酸性溶液であるため微粒子は基板表面と同じマイナスに荷電されるとともに有機酸の錯化効果により液中の金属不純物イオンはマイナスの錯イオンとなる。 - 特許庁

After poly-metal structured gate electrodes 7 have been formed on a semiconductor substrate 1, when the semiconductor substrate 1 is cleaned, an aqueous solution, containing hydrochloric acid of 0.1 to 15% by weight, hydrofluoric acid of 0.01 to 0.3% by weight and hydrogen peroxide of 0.1 to 15% by weight, is used as a cleaning liquid.例文帳に追加

半導体基板１上にポリメタル構造のゲート電極７を形成した後、半導体基板１を洗浄する際に、洗浄液として、０．１〜１５重量％の塩酸と、０．０１〜０．３重量％のフッ酸と、０．１〜１５重量％の過酸化水素とを含む水溶液を用いる。 - 特許庁

An etching step S1 is implemented wherein a wafer after the lapping step is etched with an alkaline solution, and then an acid cleaning step S2 is implemented wherein the wafer is washed with an acid solution for the removal of heavy metal impurities that the wafer collects in the etching step S1.例文帳に追加

ラッピング工程を経たウェーハをアルカリ溶液でエッチングするエッチング工程Ｓ１の後、エッチング工程によってウェーハに付着した重金属不純物を除去するべくウェーハを酸溶液で洗浄する酸洗浄工程Ｓ２を実施するようにした。 - 特許庁

The cleaning liquid for lithography contains (A) at least one kind selected from lower alkylesters of acetic acid or propionic acid, and (B) at least one kind selected from 5-7C cyclic or no-cyclic ketones, with the mass ratio of (A)/(B) in the range of 4/6 to 7/3.例文帳に追加

（Ａ）酢酸又はプロピオン酸の低級アルキルエステルの中から選ばれた少なくとも１種と（Ｂ）炭素数５〜７の環状若しくは非環状ケトンの中から選ばれた少なくとも１種とを（Ａ）／（Ｂ）の質量比４／６ないし７／３の範囲で含有したリソグラフィー用洗浄液とする。 - 特許庁

This chemical is a solid cleaning agent for the water closet which consists of 100 pts.wt. of a solid acid having a granular degree passable through a 12 mesh sieve but not through a 250 mesh sieve and 5-2000 pts.wt. of an acid anhydride passable through a 12 mesh sieve but no through a 250 mesh sieve.例文帳に追加

１２メッシュの篩を通過するが２５０メッシュの篩を通過しない粒度の固体酸１００重量部と、１２メッシュの篩は通過するが２５０メッシュの篩を通過しない粒度の酸無水物５〜２０００重量部とからなる固体状薬剤であるトイレ用洗浄薬剤。 - 特許庁

The method comprises (a) using a 1-4C alkyl group-containing carboxylic acid anhydride as an acylating agent, after the reaction, (b) distilling away a produced carboxylic acid, if necessary, (c) cooling a reaction solution, (d) separating a crystallized product and cleaning the product and (e) returning a filtrate to the process (a).例文帳に追加

この方法は、（ａ）アシル化剤としてＣ_1〜Ｃ_4−アルキル基を有する無水カルボン酸を使用し、この反応の後に、（ｂ）場合により生じるカルボン酸の一部を留去し、（ｃ）反応溶液を冷却し、（ｄ）晶出した生成物を分離させ、洗浄し、かつ（ｅ）濾液を工程（ａ）に戻すことをを特徴とする。 - 特許庁

The cleaning agent contains a polycarboxylic acid and a diethylenetriamine penta acetic acid and is used after a chemical mechanical polishing process of a semiconductor device, having a barrier film for copper diffusion prevention and copper wirings on an insulating film containing an SiOC as a component with a dielectric constant of 3.0 or below.例文帳に追加

ポリカルボン酸およびジエチレントリアミン五酢酸を含有し、ＳｉＯＣを構成成分として含有する誘電率が３．０以下の絶縁膜上に銅拡散防止用バリア膜及び銅配線を備える半導体デバイスの化学的機械的研磨工程の後に用いられる洗浄剤。 - 特許庁

This is to provide an improved version of a silicon wafer etching method in which an acid etchant and an alkaline etchant are individually stored in a plurality of tanks, and a silicon wafer having a process modified layer formed through a lapping process and a subsequent cleaning process is sequentially immersed in the acid etchant and the alkaline etchant.例文帳に追加

複数のエッチング槽に酸エッチング液とアルカリエッチング液をそれぞれ貯え、ラッピング工程に続いて洗浄工程を経た加工変質層を有するシリコンウェーハを酸エッチング液とアルカリエッチング液とに順次浸漬するシリコンウェーハのエッチング方法の改良である。 - 特許庁

In the air cleaning agent concerning this invention, p-aminobenzenesulfonic acid and a borate such as sodium borate are stuck to a porous body such as active carbon and the sticking rate of the borate is 0.2-5 pts.mass in relation to one pt.mass of the p-aminobenzenesulfonic acid.例文帳に追加

本発明に係る空気浄化剤は、活性炭などの多孔質体にｐ−アミノベンゼンスルフォン酸とホウ酸ナトリウムなどのホウ酸塩とを添着させてなり、前記ホウ酸塩の添着割合が前記ｐ−アミノベンゼンスルフォン酸１質量部に対して０．２〜５質量部であることを特徴とする。 - 特許庁

While a wafer W is rotated with a rotation axis R as a center, hydrofluoric acid acting as a cleaning liquid is supplied from an upper nozzle 64 and a lower nozzle 14 to both faces Wa and Wb of the wafer W to clean the wafer W by the hydrofluoric acid.例文帳に追加

ウエハＷが回転軸Ｒを中心に回転されつつ、上ノズル６４および下ノズル１４より洗浄液としてのふっ酸がウエハＷの両面Ｗａ，Ｗｂに供給され、ふっ酸によるウエハＷの洗浄が行われる。 - 特許庁

In a cleaning process, a cleaned mixture is formed by mixing the melt mixture and a solvent, in which polyester is either hardly soluble or insoluble and acid modified poly-α-olefin wax is easily soluble, while the acid modified α-olefin wax in the melt mixture is to be dissolved in a solvent.例文帳に追加

洗浄工程で、ポリエステルが難溶または不溶でかつ酸変性ポリαオレフィンワックスが易溶の溶剤と溶融混練物とを、溶融混練物中の酸変性ポリαオレフィンワックスを溶剤に溶解させる状態で混合して洗浄混合物を得る。 - 特許庁

An acid cleaning step in which the substrate with the multilayer film of gold or the like/chromium or the like is cleaned with an aqueous solution having a nitric acid concentration of ≥35 wt.% and a cerium ammonium nitrate concentration lower than that in an etching liquid is provided between an etching step and the water washing step.例文帳に追加

エッチング工程と水洗工程の間に、金等／クロム等積層膜付き基板を、硝酸濃度３５重量％以上であって硝酸セリウムアンモニウム濃度がエッチング液より低い水溶液で洗浄する酸洗浄工程を設ける。 - 特許庁

To provide a deodorizing and sterilizing air purification device where water is decomposed by electrolysis to obtain strong acid water and strong alkaline water, and deodorization and sterilization are performed with the strong acid water, and the strong alkaline water is used for cleaning the air polluted by flotage with large particles and protein and fat materials.例文帳に追加

水を強酸性水と強アルカリ水に電気分解して、強酸性水で脱臭及び殺菌を行い、強アルカリ水で空気中の粒度の大きい浮遊物やタンパク質系及び脂質系の汚れた空気の洗浄を行うことを特徴とした脱臭殺菌空気清浄装置 - 特許庁

Principally organic substances adhering to the cleaned material can be removed easily by cleaning the cleaned material with the heated sulfuric acid solution, and contaminants removed from the cleaned material and shifted to the sulfuric acid solution can be decomposed certainly by adding oxygenated water.例文帳に追加

加熱硫酸溶液で被洗浄材を洗浄することで被洗浄材に付着した主には有機物を確実に剥離除去でき、被洗浄材から剥離して硫酸溶液に移行した汚染物は過酸化水素水の添加によって確実に分解できる。 - 特許庁

A wafer W is rotated by a wafer-rotating section 10, fluoric acid is supplied onto surfaces Wa and Wb of the wafer W as washing liquid from upper and lower nozzles 64 and 14, and the wafer W is cleaned by the fluoric acid (a cleaning process).例文帳に追加

ウエハ回転部１０によってウエハＷが回転させられ、上ノズル６４および下ノズル１４より洗浄液としてのふっ酸がウエハＷの両面Ｗａ，Ｗｂに供給されて、ふっ酸によるウエハＷの洗浄が行われる（洗浄工程）。 - 特許庁

The low-foaming industrial cleaning composition comprises water, at least one carboxylic acid, one or more aromatic, water soluble or dispersible, non-ionic surfactants, and optionally, a salt of a carboxylic acid, a hydrotrope material, a pH adjuster, a polyhydric alcohol and a preservative.例文帳に追加

水と、少なくとも１種のカルボン酸、１種以上の芳香族水溶性または水分散性非イオン界面活性剤、ならびに所望により、カルボン酸の塩、ヒドロトロープ材料、ｐＨ調整剤、多価アルコールおよび保存剤を含む低発泡性工業用洗浄組成物を得た。 - 特許庁

This corrosion inhibitor for acid cleaning of metal contains C_3-C_15 acylated derivatives (α) of polyalkylene polyamine (A) having a first amino group and/or second amino group, and the content of the acylated derivatives (α) is 0.1-50,000 mg against acid liquid of 1 L.例文帳に追加

第一アミノ基及び／又は第二アミノ基を有するポリアルキレンポリアミン（Ａ）のＣ_３−Ｃ_１５アシル化誘導体（α）を含み、該アシル化誘導体（α）の含有量が、酸液１Ｌに対して０．１〜５００００ｍｇである金属の酸洗浄用腐食抑制剤。 - 特許庁

The detergent composition for dry cleaning to be added to a solvent which is used as a cleaning solvent for dry cleaning and contains at least 5 vol.% of a terpene solvent comprises a phosphoric acid ester compound and an alkanolamine.例文帳に追加

テルペン系溶剤を５容量％以上含む溶剤を洗浄用溶剤として用いるドライクリーニングにおいて、該洗浄用溶剤に添加されるドライクリーニング用洗浄剤組成物であって、リン酸エステル化合物及びアルカノールアミンを含有するドライクリーニング用洗浄剤組成物を提供する。 - 特許庁