「ACID CLEANING」に関連した英語例文の一覧と使い方(7ページ目) - Weblio英語例文検索

Because the number of particles of a second-phase compound to be nuclei of corrosion in immersion in a cleaning solution such as dilute nitric acid can be decreased, the amount to be etched by the cleaning solution can be reduced and service life can be prolonged.例文帳に追加

希硝酸等の洗浄液に浸漬した際に、腐食の核となる第２相化合物の粒子が少ないので、洗浄液でエッチングされる量が少なくなり、寿命が長くなる。 - 特許庁

First cleaning liquid feeding nozzles 7, 8 which can feed liquid containing hydrofluoric acid or the like to a wafer W are each disposed in the vicinity of the center of cleaning brushes 66, 86 disposed above and under the wafer W.例文帳に追加

ウエハＷの上方および下方に配置された洗浄用ブラシ６６，８６の中央付近には、ウエハＷにフッ酸などを含む液を供給することのできる第１洗浄液供給ノズル７，８がそれぞれ配置されている。 - 特許庁

To provide a production method by which a glass substrate for magnetic recording medium protected from contamination can be easily and efficiently produced without carrying out ultrasonic cleaning by a multistage system or requiring acid cleaning.例文帳に追加

超音波洗浄を多段に行う必要がなく且つ酸洗浄を行う必要なしで、汚染の抑制された磁気記録媒体用ガラス基板を容易に且つ効率的に製造できる製造方法を提供すること。 - 特許庁

For cleaning vapor, above treatments water and acetic acid vapor are used, and only with combination of the treatment in a vapor phase, the removal, i.e., the cleaning of organic impurities adhered on the surface having a fine structure is attained.例文帳に追加

洗浄に用いる気体を水蒸気および酢酸とし、これらの処理を組み合わせた気相中のみの処理により微細構造を持つ表面に付着している有機不純物や銅酸化物の除去、すなわち清浄化を図る。 - 特許庁

Furthermore, leakage of acid vapor from the insertion opening 1b is blocked by forming an air flow in the upper space of the cleaning tank 1 from an air inlet 1d at the upper part of the cleaning tank 1 to the exhaust opening 1e.例文帳に追加

また、洗浄槽１上部の空気取入口１ｄから排気口１ｅへと、洗浄槽１の上部空間に空気流を形成し、挿入口部１ｂから酸蒸気の漏出を阻止する。 - 特許庁

By adding the cleaning process by intermittent discharging of a hydrofluoric acid, in addition to the SC1 cleaning process, particles can be removed more efficiently.例文帳に追加

ＳＣ１の洗浄処理に加えて、フッ酸の間欠吐出による洗浄処理を加えることによって、パーティクルをより効率的に除去することができる。 - 特許庁

The method for making the highly pure silica raw material includes a step for pulverizing the silica rock raw material along the grain boundaries, and a cleaning step cleaning the pulverized substance with acidic solution containing hydrofluoric acid.例文帳に追加

本発明の高純度シリカ原料の製造方法は、結晶粒界に沿ってケイ石原料を粉砕する工程と、フッ酸を含有する酸溶液にて前記粉砕物を洗浄する洗浄工程と、を有することを特徴とする。 - 特許庁

In the cleaning, cleaning treatment with a sodium hydroxide aqueous solution, neutralization treatment with a hydrochloric acid aqueous solution, and sterilization treatment with ethanol are applied in turn.例文帳に追加

洗浄は、苛性ソーダ水溶液による洗浄処理と、塩酸水溶液による中和処理と、エタノールによる殺菌処理を順次施すことにより行う。 - 特許庁

To ensure a sheet-fed cleaning, reduce the cost, and ensure cleaning harmless environmentally by employing as a peeling solution an aqueous oxalic acid solution at a low temperature with low concentration.例文帳に追加

低温、低濃度の蓚酸水溶液を剥離液として用いることにより、枚葉式洗浄を可能にして、コストを低減すると共に、環境的にも無害な洗浄を可能にする。 - 特許庁

To provide a more sanitary and safe method for cleaning a filling apparatus while solving the problem that silicic acid components precipitate in the conventional cleaning method.例文帳に追加

従来の洗浄方法にあった珪酸化合物の析出の問題を解決し、より衛生的で安全な充填装置の洗浄方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a technology for attaining high productivity by reduction of cleaning time while dust stuck to a glass substrate is reliably removed in cleaning treatment with an acid solution and cleaning treatment performed after texture treatment.例文帳に追加

本発明は、酸性溶液での洗浄処理やテクスチャ処理の後に行なわれる洗浄処理において、ガラス基板に付着した塵埃を確実に除去しながらも、その洗浄時間の短縮により生産性の向上を図ることができる技術を提供することを目的としている。 - 特許庁

This cleaning agent for the circulative cooling water system in a steel making process is a cleaning agent which dissolves the manganese fouling and manganese deposit in the filter and/or cooling tower installed in the circulative cooling water system in the steel making process, wherein the cleaning agent includes phosphonic acid and/or its salts.例文帳に追加

鉄鋼製造工程における循環冷却水系に設置された濾過器及び／又は冷却塔のマンガン汚れ又はマンガン析出物を溶解する洗浄剤であって、ホスホン酸及び／又はその塩を含んでなる鉄鋼製造工程における循環冷却水系用洗浄剤。 - 特許庁

To provide an aerosol agent for cleaning a drainage outlet and for cleaning a laundry sink, which contains a fatty acid soap as a main cleaning component, is prepared into a form suitable to clean the drainage outlet and the laundry sink of a washing machine, and gives low environmental load.例文帳に追加

脂肪酸セッケンを主たる洗浄料成分とし、上記の排水口や洗濯機の洗濯槽を洗浄するのに好適な形態に調製され、しかも、環境に対する負荷が小さい排水口洗浄用および洗濯槽洗浄用のエアゾール剤を提供すること。 - 特許庁

A gas jetting unit 5 has a recovery pipe 51 communicated with the inside of the second cleaning vessel 4 and is used for jetting air or the chlorine gas, which is recovered from the inside of the second cleaning vessel 4 through the recovery pipe 51, toward the inside of the strongly-acid electrolytic water in the second cleaning vessel 4.例文帳に追加

ガス噴出装置５が第２洗浄用容器４の内部に連通する回収管５１を有し、第２洗浄用容器４内の強酸性電解水中で、空気または回収管５１により第２洗浄用容器４の内部から回収した塩素ガスを噴出させる。 - 特許庁

The method for cleaning the surfaces of substrates for magnetic recording medium of the present invention is characterized by impregnating the fabric processed for cleaning with water and/or an aqueous solution of an organic acid based detergent, causing the fabric to come into contact with the surfaces of substrates for magnetic recording medium for cleaning the surfaces.例文帳に追加

また、本発明の磁気記録媒体用基板表面の洗浄方法は、かかる洗浄加工布に、水及び／又は有機酸系洗浄剤の水溶液を浸透させ、磁気記録媒体用基板表面に該洗浄加工布を接触させて洗浄することを特徴とするものである。 - 特許庁

To simply and accurately measure the concentration of low-concentration hydrofluoric acid or the like in a cleaning chemical liquid used for a semiconductor cleaning line, and to use an inexpensive electrode for preventing the cleaning line from being contaminated.例文帳に追加

本発明は、薬液濃度測定装置を提供するものであり、特に、半導体洗浄ラインで使用する洗浄薬液中の低濃度のフッ酸等の濃度を、簡単に正確に測定することが可能であり、かつ、洗浄ラインを汚染しない安価な電極が使用可能である薬液濃度測定装置を提供する。 - 特許庁

The semiconductor substrate cleaning liquid contains quaternary ammonium salt, such as the perchloric acid and/or periodic acid, tetra-alkyl ammonium hydroxy, trialkyl-hydroxy alkyl ammonium hydroxy, etc., and water.例文帳に追加

過塩素酸及び／又は過ヨウ素酸、テトラアルキルアンモニウムヒドロキシド、トリアルキル−ヒドロキシアルキルアンモニウムヒドロキシドなどの第四級アンモニウム塩及び水を含んでなる半導体基板洗浄液を用いる。 - 特許庁

The cleaning liquid contains (A) at least one kind selected from propylene glycol alkyl ether, and (B) at least one kind selected from benzenesulfonic acid or alkylbenezene sulfonic acid.例文帳に追加

（Ａ）プロピレングリコールアルキルエーテルの中から選ばれる少なくとも１種と、（Ｂ）ベンゼンスルホン酸またはアルキルベンゼンスルホン酸の中から選ばれる少なくとも１種とを含有する洗浄液とすることによって課題を達成できる。 - 特許庁

The passivation cleaning for Mg out of the light metals includes treatment with a weakly acidic solution containing a carboxylic acid and a pyrophosphate, and subsequent treatment with a solution containing phosphoric acid and ammonium hydrogenfluoride.例文帳に追加

軽金属がＭｇ系の場合の不動態化洗浄はカルボン酸とピロリン酸塩を含む弱酸性溶液で処理したのちリン酸とフッ化水素アンモニウムを含む溶液で処理する。 - 特許庁

The skin cleaning agent having high-temperature stability is characterized as comprising a higher fatty acid salt, a copolymer of acrylic acid, acrylamide and a dialkyldiallylammonium salt and a high-polymerization polyethylene glycol.例文帳に追加

高級脂肪酸塩、アクリル酸とアクリルアミドとジアルキルジアリルアンモニウム塩との共重合体及び高重合ポリエチレングリコールを含むことを特徴とする高温安定性の高い皮膚洗浄料。 - 特許庁

The cleaning composition consists of a non-chelating organic acid, salt or ester thereof, and a chelating organic acid, salt or ester thereof that may be used to clean residue and sum from a substrate.例文帳に追加

基体から残留物およびスカムを洗浄するために用いることができる非キレート性有機酸、その塩またはエステル、およびキレート性有機酸、その塩またはエステルからなる洗浄組成物。 - 特許庁

The skin cleaning composition comprises: (A) 10-60 mass% of a higher fatty acid salt; (B) cationized fenugreek gum; (C) polyglycerol mono-fatty acid ester; and (D) sugar alcohol.例文帳に追加

（Ａ）高級脂肪酸塩を１０〜６０質量％と、（Ｂ）カチオン化フェヌグリークガムと、（Ｃ）ポリグリセリンモノ脂肪酸エステルと、（Ｄ）糖アルコールとを含有することを特徴とする皮膚洗浄剤組成物。 - 特許庁

And in addition, it is preferable that the cleaning solution for CMP further includes hydroxy carboxylic acid as a washing auxiliary agent A, and further includes methanesulfonic acid as a washing auxiliary agent B.例文帳に追加

また、ＣＭＰ用洗浄液は、さらに洗浄補助剤Ａとしてヒドロキシカルボン酸を含み、さらに洗浄補助剤Ｂとして、メタンスルホン酸を含むことが好ましい。 - 特許庁

The effective components of the oil cleaning agent are a certain kind of dibasic acid alkyl esters such as diisopyl adipate and diisopropyl sebacate and a certain kind of propyleneglycol fatty acid esters such as propyleneglycol dicaprylate.例文帳に追加

アジピン酸ジイソプロピル、セバシン酸ジイソプロピルなどのある種の二塩基酸アルキルエステル、ジカプリル酸プロピレングリコールなどのある種のプロピレングリコール脂肪酸エステルを有効成分とする油性洗浄除去剤。 - 特許庁

The cleaning agent for organic-inorganic stain is composed of an aqueous solution containing hydrogen peroxide, acetic acid, peracetic acid, a nonionic surfactant and a cationic and/or amphoteric surfactant.例文帳に追加

過酸化水素、酢酸、過酢酸、ノニオン界面活性剤、およびカチオンおよび／または両性界面活性剤を含有する水溶液からなることを特徴する有機無機複合汚れ洗浄剤。 - 特許庁

To provide a persulfuric acid supply system which can stably supply a solution containing persulfate ions in a high concentration to a cleaning system or the like using persulfuric acid.例文帳に追加

過硫酸を用いた洗浄システムなどに対し、高濃度の過硫酸イオンを含む溶液を安定して供給可能な過硫酸供給システムを提供する。 - 特許庁

This composition is obtained by adding an adduct of a polyoxyethylene to a glycol coconut oil fatty acid ester and an acrylic acid/alkyl methacrylate copolymer and/or its salt to a cleaning composition such as a cleansing cosmetic or the like.例文帳に追加

ポリオキシエチレン付加グリセリンヤシ油脂肪酸エステルとアクリル酸・メタクリル酸アルキル共重合体及び／又はその塩とをクレンジング化粧料などの洗浄用の組成物に含有させる。 - 特許庁

An amino acid metal which is a reactant of a soluble metal salt compound with α-amino acid in the presence of ferric ions is used as the water cleaning agent, thereby providing the suitable water environment for aquatic animals.例文帳に追加

α−アミノ酸を第二鉄イオンの存在下、水溶性金属塩化合物との反応物のアミノ酸金属を水浄化剤として使用し、水生動物にとって好適な水環境を提供できる。 - 特許庁

This cleaning liquid has hydrogen-peroxide concentration at 0.2-0.5 wt.% and contains citric acid at 10.0-45.0 wt.% and/or tartaric acid at 15.0-50.0 wt.%.例文帳に追加

この洗浄液は過酸化水素濃度が０．２〜０．５ｗｔ％で、１０．０〜４５．０ｗｔ％のクエン酸および／または１５．０〜５０．０ｗｔ％の酒石酸が含まれている。 - 特許庁

The apparatus can supply acid or alkaline electrolytic water by electrolyzing raw water and carry out the sterilization and the disinfection of bacteria or the like as well as and the cleaning of a stain due to protein or the like by the acid electrolytic water.例文帳に追加

本発明は、原水を電解することによって酸性又はアルカリ性の電解水を供給することができ、酸性の電解水によって細菌等の殺菌消毒や、たんぱく質等による汚れの洗浄等を行うことができる。 - 特許庁

To provide a purification method for efficiently obtaining a high-purity polyhydroxyalkanoic acid by cleaning and extracting a biomass of a polyhydroxyalkanoic acid-containing microorganism by using an organic solvent miscible with water.例文帳に追加

水と混合可能な有機溶媒を用いて、ポリヒドロキシアルカン酸含有微生物菌体の洗浄および抽出を行い、純度の高いポリヒドロキシアルカン酸を効率よく得る精製方法を提供するものである。 - 特許庁

The sulfuric acid solution is repeatedly utilized and the persulfuric acid solution improving a resist peeling effect is regenerated in the electrolytic reaction apparatus, and a resist solute matter is decomposed and supplied to the cleaning apparatus again.例文帳に追加

硫酸溶液を繰り返し利用し、レジストの剥離効果を高める過硫酸溶液を電解反応装置で再生して、レジスト溶解物を分解し、又洗浄装置に供給する。 - 特許庁

To provide a method of producing an iron hydroxide adsorbent favorably usable for treating waste water containing a hexavalent chromic acid ion, and a method of cleaning waste water containing the chromic acid ion using the adsorbent.例文帳に追加

６価のクロム酸イオンを含有する排水処理に好適に使用できる水酸化鉄系吸着剤の製造方法及びそれを用いた前記クロム酸イオン含有水の浄化方法の提供。 - 特許庁

After acid cleaning with a solution containing sulfuric acid and before and/or during washing (rinsing), the photomask surface of the photomask having the light blocking film pattern formed on the light-transmissive substrate on the photomask surface is electrostatically charged to the negative potential.例文帳に追加

透光性基板上に遮光性膜パターンを形成したフォトマスクを硫酸を含む溶液で酸洗浄後、水洗（リンス）を行う前及び／又は水洗（リンス）中に、フォトマスク表面を負の電荷に帯電させる。 - 特許庁

This cleaning composition contains water, an organic base, and a plurality of chelating agents including an amino polycarboxylic acid and a hydroxylcarboxylic acid, wherein the composition has a pH in a range of 9.5 to 11.5.例文帳に追加

洗浄組成物において、その組成物のｐＨが９．５〜１１．５の範囲にあり、水、有機塩基、ならびにアミノポリカルボン酸およびヒドロキシルカルボン酸を含む複数のキレート剤を含むように構成する。 - 特許庁

Even when the sealing part is corroded by an acid cleaning liquid or the like, the intrusion of impurities into the liquid crystal 20 is prevented by the linear spacer wall 27 consisting of acrylic resin having better corrosion resistance against acid than the epoxy resin.例文帳に追加

エポキシ樹脂より酸に対する耐浸食性の良いアクリル樹脂の線状スペーサ壁２７によって、酸性洗浄液等によりシール部の浸食を受けてたときでも液晶２０への不純物の侵入を阻止する。 - 特許庁

To provide a quantity determination method of all oxidizing components in electrolysis sulfuric acid capable of preventing leak of all oxidizing components in the electrolysis sulfuric acid used as cleaning liquid.例文帳に追加

洗浄液として使用される電解硫酸中の全酸化性成分の洩れを防ぐことのできる、電解硫酸中の全酸化性成分の定量方法を提供することにある。 - 特許庁

To provide a dicarboxylic acid and its salt resistant to the assimilation with microorganisms and having excellent hard water resistance and provide a water-soluble processing oil and a water-soluble cleaning agent containing the dicarboxylic acid and its salt.例文帳に追加

微生物に資化され難く、さらに耐硬水性に優れるジカルボン酸及びその塩、及び、これらのジカルボン酸及びその塩を含有した水溶性加工油剤、水溶性洗浄剤を提供する。 - 特許庁

To obtain a chemical agent for cleaning and for auxiliary obtainable from an effective substance composed of a short-chain α-hydroxy acid and/or β-hydroxy acid and an aliphatic alcohol isomer as a source material.例文帳に追加

短鎖のα−ヒドロキシ酸及び／又はβ−ヒドロキシ酸と脂肪族アルコールの異性体とから構成され得る有効物質を原料として製造することができる洗浄用・助剤用薬剤を提供する。 - 特許庁

The cosmetic for cleaning the skin comprises (A) an amino acid-based surfactant, (B) a nonionic surfactant, (C) a polyhydric alcohol and (D) hydroxyapatite of which the surface is coated with an N-acylated amino acid and/or a salt thereof.例文帳に追加

（Ａ）アミノ酸系界面活性剤、（Ｂ）非イオン界面活性剤、（Ｃ）多価アルコールおよび（Ｄ）表面をＮ−アシル化アミノ酸および／又はその塩で被覆したヒドロキシアパタイトを含有する皮膚洗浄用化粧料とする。 - 特許庁

To provide a method where, in order to reduce the cleaning of ultrafiltration equipment using strong acid such as nitric acid as much as possible, the deposition of metal insolubilized matter on the ultrafiltration equipment is prevented.例文帳に追加

本発明は、硝酸などの強酸を用いる限外濾過装置の洗浄を極力少なくするために、限外濾過装置への金属不溶化物の沈積そのものを防止する方法を提供することにある。 - 特許庁

To provide a technique utilizing a nitric acid waste solution, a hydrogen fluoride waste aqueous solution and a nitric-hydrofluoric acid waste solution used for etching and cleaning of electronic parts as a pickling solution for stainless steel.例文帳に追加

電子部品のエッチングや洗浄に用いられた硝酸廃液、フッ化水素水廃液、硝フッ酸廃液をステンレス鋼の酸洗液として利用する技術を提案する。 - 特許庁

Nitric acid is added in the ratio of 10 to 200 ml based on a waste solution 11 of hydrofluoric acid in which the concentration of fluorine ions is ≥3% to obtain a regenerated cleaning solution of which pH is controlled to 1.2 to 5.0.例文帳に追加

フッ素イオン濃度が３％以上のフッ酸廃液１ｌに対し硝酸を１０〜２００ｍｌの割合で添加することにより、ｐＨ値が１．２〜５．０に調整された再生洗浄液を得る。 - 特許庁

To provide a cleaning method by which silicate scale in various industrial water systems can chemically be removed with high efficiency, and the generation of poisonous gas having strong stimulability such as hydrochloric acid and hydrofluoric acid can be prevented.例文帳に追加

各種工業用水系における珪酸塩スケールを、化学的に効率よく除去し、かつ塩酸やフッ酸等の刺激性の強い有毒ガスが発生する恐れのない洗浄方法を提供する - 特許庁

The dry-coated tablet for CL cleaning is composed of an outer shell containing an iodine-based disinfectant, a carbonate and an organic acid, and an inner core containing a neutralizer, a carbonate and an organic acid.例文帳に追加

本発明のＣＬ洗浄用有核錠は、ヨウ素系殺菌剤、炭酸塩及び有機酸を含む外殻と、中和剤、炭酸塩及び有機酸を含む内核とから構成される有核錠であることを特徴とする。 - 特許庁