「Co-Ta」に関連した英語例文の一覧と使い方 - Weblio英語例文検索

The CO concentration D_1 of correction time Ta and the CO concentration D_2 of Tb just after its correction are stored.例文帳に追加

補正時点ＴａのＣＯ濃度Ｄ_１と、直後ＴｂのＣＯ濃度Ｄ_２とを記憶する。 - 特許庁

The cemented carbide base material is composed of 5.0-<8.0 wt% of Co, 3.0-8.0 wt% of cubic carbide comprising Ti, Ta and Nb satisfying 0.05-0.3 of ratio Ti/(Ti+Ta+Nb), and WC as residual parts having 1.5-3.5 μm of grain diameter in the sintering condition.例文帳に追加

超硬合金基材は、5.0〜<8.0wt％のCo、Ti/(Ti+Ta+Nb)比率が0.05〜0.3のTi、Ta及びNbの3.0〜8.0wt％の立方晶炭化物、焼結状態で1.5〜3.5μｍ粒径の残部WCの組成を有する。 - 特許庁

Co-Ta ALLOY SPUTTERING TARGET AND ITS PRODUCTION例文帳に追加

Ｃｏ−Ｔａ系合金スパッタリングターゲット及びその製造方法 - 特許庁

The magnetic film 14 comprises a Co-Zr-Ta based magnetic substance.例文帳に追加

磁性膜１４は、Ｃｏ−Ｚｒ−Ｔａ系の磁性体から構成されている。 - 特許庁

To provide a Co-Zr-Ta based magnetic film having high magnetic permeability.例文帳に追加

Ｃｏ−Ｚｒ−Ｔａ系で、高い透磁率を有する磁性膜を提供する。 - 特許庁

To manufacture a magnetic film which is made of Co-Zr-Ta and has high permeability.例文帳に追加

Ｃｏ−Ｚｒ−Ｔａ系で、高い透磁率を有する磁性膜を製造する。 - 特許庁

As the solid solution elements other than N, He, Li, B, C, O, Ne, Mg, P, S, Ar, V, Mn, Fe, Co, Ni, Cu, Zn, Zr, Nb, Mo, Sn, Hf, Ta and W can be cited.例文帳に追加

Ｎ以外の固溶元素としては、Ｈｅ，Ｌｉ，Ｂ，Ｃ，Ｏ，Ｎｅ，Ｍｇ，Ｐ，Ｓ，Ａｒ，Ｖ，Ｍｎ，Ｆｅ，Ｃｏ，Ｎｉ，Ｃｕ，Ｚｎ，Ｚｒ，Ｎｂ，Ｍｏ，Ｓｎ，Ｈｆ，Ｔａ，及びＷがある。 - 特許庁

As the solid solution elements other than N, He, Li, B, C, O, Ne, Mg, P, S, Ar, Ti, V, Mn, Fe, Co, Ni, Cu, Zn, Zr, Nb, Mo, Sn, Hf, Ta and W are given.例文帳に追加

Ｎ以外の固溶元素としては、Ｈｅ，Ｌｉ，Ｂ，Ｃ，Ｏ，Ｎｅ，Ｍｇ，Ｐ，Ｓ，Ａｒ，Ｔｉ，Ｖ，Ｍｎ，Ｆｅ，Ｃｏ，Ｎｉ，Ｃｕ，Ｚｎ，Ｚｒ，Ｎｂ，Ｍｏ，Ｓｎ，Ｈｆ，Ｔａ，及びＷがある。 - 特許庁

An element other than the Te, for example, either Al, Zr, Ta, Hf, Si, Ge, Ni, Co, Cu or Au may be added.例文帳に追加

Ｔｅ以外の他の元素、例えばＡｌや、Ｚｒ，Ｔａ，Ｈｆ，Ｓｉ，Ｇｅ，Ｎｉ，Ｃｏ，ＣｕおよびＡｕのいずれかを添加してもよい。 - 特許庁

First, a Co-Zr-Ta magnetic film 14 is formed on a substrate 10 by sputtering.例文帳に追加

まず、基板１０上にＣｏ−Ｚｒ−Ｔａ系の磁性膜１４をスパッタリングにより形成する。 - 特許庁

The induction absorptive material is formed of at least one oxide of metals selected from the group consisting of Ti, Cr, Mn, Fe, Co, Ni, Cu, Zn, Nb, Mo, Ru, In, Sn, Sb, Ta, W, Re, Os, Ir, and Bi and a transparent substrate.例文帳に追加

Ti, Cr, Mn, Fe, Co, Ni, Cu, Zn, Nb, Mo, Ru, In, Sn, Sb,Ta, W, Re, Os, Ir,およびBiからなる群から選ばれた少なくとも１種の金属の酸化物と透明基板とから形成される誘導吸収材料。 - 特許庁

A cemented carbide consists of WC, 2 to 10 mass % Co and 4 to 12 mass % metal selected from groups IVa, Va and VIa in the periodic table, preferably cubic carbide of Ti, Ta and Nb.例文帳に追加

超硬合金は、WC、２〜10質量％のCo、及び４〜12質量％の、周期律表のIVa,Va又はVIa 族金属、好ましくはTi,Ta 及びNbの立方晶炭化物からなる。 - 特許庁

The light limiting material consists of a transparent substrate and oxides of at least one kind of metal selected from among Ti, V, Cr, Mn, Fe, Co, Ni, Cu, Zn, Nb, Mo, Ru, In, Sn, Sb, Ta, W, Re, Os, Ir and Bi (but except VO2).例文帳に追加

透明基板とTi，V，Cr，Mn，Fe，Co，Ni，Cu，Zn，Nb，Mo，Ru，In，Sn，Sb，Ta，W，Re，Os，IrおよびBiからなる群から選ばれた少なくとも１種の金属の酸化物(但し、VO_2 を除く)とから形成される光制限材料。 - 特許庁

The total weight of Ni and Co is 15 to 25 mass%, a Ti content is 30 to 50 mass%, a W content is 15 to 30 mass%, and the total content of Ta, Nb, Mo, Hf, V and Cr is 5 to 15 mass%.例文帳に追加

そして、NiとCoの合計量が15〜25質量％で、Tiの含有量が30〜50質量％で、Wの含有量が15〜30質量％で、Ta、Nb、Mo、Hf、VおよびCrの合計含有量が5〜15質量％である。 - 特許庁

The inorganic oxide is preferably an oxide of one element selected from Si, Ti, W, V, Y, Ag, Mg, Al, Fe, Ni, Ce, Co, Mo, Au, Pt, Ta, Lu, Zr, Cu, Zn, Pd, Cd, Cr, Pb and Mn or oxides of a combination of two or more elements.例文帳に追加

ここで、無機酸化物は、Si,Ti,W, V, Y, Ag, Mg, Al, Fe, Ni, Ce, Co, Mo, Au, Pt, Ta, Lu, Zr, Cu, Zn, Pd, Cd, Cr, Pb, Mnから選ばれるいずれか１種の酸化物、またはいずれか２種以上の組み合わせの酸化物であることが好ましい。 - 特許庁

In the base material, Cr is included so that a weight ratio of WC, Co of 5 to 8 wt.% and Cr/Co may be 0.05 to 0.15, and Ti and Ta of a ppm level or a mixture of the Ti and Ta exists.例文帳に追加

基材は、ＷＣ、５〜８重量％のＣｏおよびＣｒ／Ｃｏの重量比が０．０５〜０．１５になるようなＣｒを含み、ｐｐｍレベルのＴｉ、Ｔａまたはこれらの混合物が存在する。 - 特許庁

The alloy is an alloy containing Ni, Ta, Ru, Co or Zr and having ≥10at% fraction of Hf or Zr.例文帳に追加

合金はＮi、Ｔa、Ｒu、Ｃo、またはＺrとの合金であり、ＨfまたはＺrの分率が１０ａｔ％以上である。 - 特許庁

The alloy includes at least one element among Mg, Ca, Sr and Ba, rare-earth elements such as Y, La and Dy, and Ti, Zr, Cr, Fe, Co, Ni, Al, V, Mn, Mo, Ta, W, Re, Pt, Pd and Ir, and the balance Rh.例文帳に追加

Ｒｈに、Ｍｇ，Ｃａ，Ｓｒ，Ｂａ，Ｙ，Ｌａ，Ｄｙ等の希土類元素，Ｔｉ，Ｚｒ，Ｃｒ，Ｆｅ，Ｃｏ，Ｎｉ，Ａｌ，Ｖ，Ｍｎ，Ｍｏ，Ｔａ，Ｗ，Ｒｅ，Ｐｔ，Ｐｄ，Ｉｒの少なくとも一種を含有し、残部をＲｈとする合金。 - 特許庁

An oxide of such an element as Ta, Hf, Si, Ni or Co, or an rare earth element (e.g., Gd or Ce) is employed in the high resistance layer 3A.例文帳に追加

高抵抗層３Ａとしては、Ｔａ，Ｈｆ，Ｓｉ，Ｎｉ，Ｃｏの各元素や、希土類元素（例えばＧｄやＣｅ）等の酸化物を用いる。 - 特許庁

The layer containing Ti may contain any one among Ba, Sr, Ca, Mg, Ni, Co, Cu, Ta, Nb, and Zn.例文帳に追加

Ｔｉを含む層は、Ｂａ、Ｓｒ、Ｃａ、Ｍｇ、Ｎｉ、Ｃｏ、Ｃｕ、Ｔａ、Ｎｂ、Ｚｎのいずれかを含有していてもよい。 - 特許庁

The alignment adjusting layer is formed so as to contain at least one alloy selected from a Co-W based alloy, a Co-Mo based alloy, a Co-Ta based alloy, a Co-Nb based alloy, a Ni-Ta based alloy, a Ni-Nb based alloy, an Fe-W based alloy, an Fe-Mo based alloy and an Fe-Nb based alloy.例文帳に追加

また、配向調整層を、Ｃｏ−Ｗ系合金、Ｃｏ−Ｍｏ系合金、Ｃｏ−Ｔａ系合金、Ｃｏ−Ｎｂ系合金、Ｎｉ−Ｔａ系合金、Ｎｉ−Ｎｂ系合金、Ｆｅ−Ｗ系合金、Ｆｅ−Ｍｏ系合金、Ｆｅ−Ｎｂ系合金の中から選択される少なくとも１つの合金を含むように形成する。 - 特許庁

To easily produce a thin sheet of an Fe-Co alloy containing 20 to 60% Co or an Fe-Co-M alloy containing 20 to 60% Co and ≤5% M (V, Ta, Nb, Mo, W or Ti) by a powder metallurgy method using prealloy powder.例文帳に追加

Ｃｏ：２０〜６０％を含有するＦｅ−Ｃｏ合金や、Ｃｏ：２０〜６０％およびＭ（Ｖ，Ｔａ，Ｎｂ，Ｍｏ，ＷまたはＴｉ）：５％以下を含有するＦｅ−Ｃｏ−Ｍ合金の薄板を、プレアロイ粉末を使用する粉末冶金法により容易に製造できるようにする。 - 特許庁

The surface of a porous body obtained by sintering metal powder or ceramic powder is deposited with a metallic film of V, Nb or Ta or an alloy film obtained by adding Ni, Co or Mo to V, Nb or Ta in an amount of 5 to 20 wt.%.例文帳に追加

金属粉もしくはセラミック粉を焼結して得た多孔体の表面に、Ｖ、Ｎｂ、またはＴａの金属膜か、あるいは、Ｖ、Ｎｂ、またはＴａに対し、Ｎｉ、Ｃｏ、またはＭｏを、５〜２０ｗｔ％添加した合金膜を形成する。 - 特許庁

The dielectric porcelain (1) is a sintered compact of a complex oxide of at least one element selected from Zr, Ti and Mn, at least one element selected from Mg, Zn and Co and at least one element selected from Nb and Ta, and has an average crystal grain diameter of 10 to 70 μm.例文帳に追加

Zr,Ti及びMnから選ばれる少なくとも一つの元素と、Mg,Zn及びCoから選ばれる少なくとも一種の元素と、Nb及びTaから選ばれる少なくとも一種の元素との複合酸化物の焼結体からなり、平均結晶粒径が10-70μmの範囲にある誘電体磁器(1)とする。 - 特許庁

The powdery composition may further contain at least one of compounds of Mg, Ca, Sr, Ba, Pb, rare earth metals, Ti, Zr, Hf, Sn, V, Nb, Ta, Bi, Sb, W, Mo, Cr, Mn, Cu, Ni, Co, Fe, Zn, Al and Si.例文帳に追加

前記チタン酸バリウム系焼結体製造用粉末組成物と、Mg、Ca、Sr、Ba、Pb、希土類金属、Ti、Zr、Hf、Sn、V、Nb、Ta、Bi、Sb、W、Mo、Cr、Mn、Cu、Ni、Co、Fe、Zn、AlおよびSiの化合物から選ばれる少なくとも１種の化合物とを含むチタン酸バリウム系焼結体製造用粉末組成物。 - 特許庁

The substrate includes in addition to WC, 5.5-8.5% by mass of Co and Cr, in the Cr/Co weight ratio of 0.08-0.12, and also small amounts of Ti and Ta.例文帳に追加

この基材はＷＣに加えて、５．５〜８．５質量％のＣｏおよびＣｒを、Ｃｒ／Ｃｏ質量比が０．０８〜０．１２になるように含み、また少量のＴｉおよびＴａも含む。 - 特許庁

A ratio of Me/Co=(Ti atomic% + Nb atomic% +Ta atomic% )/Co atomic% is ≤0.014-(CWCr)×0.008 and is higher than 0.0005.例文帳に追加

Ｍｅ／Ｃｏ＝（Ｔｉ原子％＋Ｎｂ原子％＋Ｔａ原子％）／Ｃｏ原子％の比は、０．０１４−（ＣＷ Ｃｒ）×０．００８以下であり、０．０００５より高い。 - 特許庁

The target is formed as a CoTa based alloy target being a powder sintered body in which Ta amount is 30-65 at.% and the remainder has Co as the main component, and it is preferable that no metallic Co phase exists substantially.例文帳に追加

本発明のターゲットは、Ｔａ量が３０〜６５ａｔ％、残部Ｃｏを主体とする粉末焼結体であるＣｏＴａ系合金ターゲットであり、実質的に金属Ｃｏ相を存在させないことが好ましい。 - 特許庁

This manufacturing method includes the steps of: preparing a mixture powder of an R-Co alloy powder which is an alloy powder of Co and R that is a rare-earth metal and a Ta powder so that the composition of the target comprises 5-10 atom% R, 5-10 atom% Ta and the balance Co with unavoidable impurities by a ratio; and hot-pressing the mixture powder in a vacuum or an inert-gas atmosphere.例文帳に追加

希土類金属をＲとしてＲ：５〜１０原子％、Ｔａ：５〜１０原子％を含有し、残部：Ｃｏおよび不可避不純物からなるターゲット組成となる割合で、ＣｏとＲとの合金粉末であるＲ−Ｃｏ合金粉と、Ｔａ粉と、の混合粉末を作製する工程と、該混合粉末を真空または不活性ガス雰囲気中でホットプレスする工程と、を有している。 - 特許庁

In the Co alloy target material for a magnetic recording medium, in a Co alloy target material contains 25 to 90 atomic percent of one or more kinds of elements selected from Nb, Ta, Mo, W and Ti, and the balance substantially Co, an αCo phase or an εCo phase remains in the structure.例文帳に追加

（Ｎｂ、Ｔａ、Ｍｏ、Ｗ、Ｔｉ）から選択される１種以上の元素を２５〜９０原子％含有し、残部実質的にＣｏとからなるＣｏ合金ターゲット材において、ターゲット材の組織中にαＣｏ相あるいはεＣｏ相が残存している磁気記録媒体用Ｃｏ合金ターゲット材である。 - 特許庁

The hydrogen-permeable alloy membrane contains at least one element selected from V, Nb, and Ta and at least one element selected from Co, Ni, and Cu and the total element concentration comprising V, Nb, and Ta is lower in the hydrogen penetration side than in the hydrogen permeation side.例文帳に追加

Ｖ、Ｎｂ、Ｔａから選ばれた少なくとも１種と、Ｃｏ、Ｎｉ、Ｃｕから選ばれた少なくとも１種とからなる水素透過合金膜であって、Ｖ、Ｎｂ、Ｔａの合計元素濃度が水素透過側よりも水素侵入側で低くなっている。 - 特許庁

Further, a single-layer soft magnetic backing layer made of a Ni-Fe film, Co-Zr-Nb film or Fe-Ta-C film, or an alternately laminated soft magnetic backing layer composed of Fe-Ta-C films and C films is formed between the nonmagnetic medium and the base layer.例文帳に追加

さらに、非磁性媒体と下地層の間にＮｉ−Ｆｅ膜、Ｃｏ−Ｚｒ−Ｎｂ膜、またはＦｅ−Ｔａ−Ｃ膜の単層軟磁性裏打ち層またはＦｅ−Ｔａ−Ｃ膜とＣ膜とからなる交互積層の軟磁性裏打ち層等を設ける。 - 特許庁

An NiTa adhesion layer 2, a soft magnetic layer 3, a Ta intermediate layer 4, an Ru intermediate layer 5, and a Co alloy granular magnetic recording layer 6 are formed on a nonmagnetic substrate 1 and thereafter, the surface of the Co alloy granular magnetic layer 6 is treated by hydrogen (H_2) plasma.例文帳に追加

非磁性基板１の上にＮｉTa密着層２、軟磁性層３、Ｔａ中間層４、Ｒｕ中間層５、Ｃｏ合金グラニュラー磁気記録層６を形成した後、Ｃｏ合金グラニュラー磁気記録層６の表面を水素（Ｈ_２）プラズマ処理する。 - 特許庁

Base layers in at least one or more layers are adhered between a non-magnetic substrate and a Co based magnetic layer in this magnetic recording medium, and at least one layer of the base layers is formed of CoTa based alloy in which Ta content is 30-65 at.% and the remainder has Co as the main component.例文帳に追加

本発明は、非磁性基板とＣｏ系磁性層との間に少なくとも１層以上の下地層が被着されている磁気記録媒体において、前記下地層のうち少なくとも１層はＴａ量が３０〜６５ａｔ％、残部Ｃｏを主体とするＣｏＴａ系合金からなる磁気記録媒体である。 - 特許庁

The rectification-variable element X has a laminate structure including an electrode 1, an electrode 2 containing Ta, and an oxide layer 3 interposed between the electrodes 1 and 2 and consisting of a Co-based perovskite oxide.例文帳に追加

本発明の整流性変化型素子Ｘは、電極１と、Ｔａを含んでなる電極２と、電極１，２間に介在し且つＣｏ系ペロブスカイト酸化物よりなる酸化物層３と、を含む積層構造を有する。 - 特許庁

The oxide film may be an oxide selected from a Ta-oxide, a Co-oxide and a Ti-oxide, and is ultrathin so that it may be considered to be a discontinuous film.例文帳に追加

酸化膜は、Ｔａ酸化物、Ｃｏ酸化物およびＴｉ酸化物から選択された酸化物であってもよく、不連続膜と考えられる極薄である。 - 特許庁

The metals here include Cu, Ta, Co, Ti, W, Mo, Ni or V, etc., and the high-melting point metal silicide includes Wsi, MoSi, NiSi or VSi, etc.例文帳に追加

前記金属は、Ｃｕ、Ｔａ、Ｃｏ、Ｔｉ、Ｗ、Ｍｏ、Ｎｉ又はＶ等であり、前記高融点金属シリサイドは、ＷＳｉ、ＭｏＳｉ、ＮｉＳｉ又はＶＳｉ等である。 - 特許庁

Further, the hydrogen emission agent 20 contains one or more of hydrogen compounds of a metal selected from a group containing Zr, Ti, Ta, V, Mg, Th, Mn, Fe, Co, and Ni.例文帳に追加

また、水素放出剤２０は、Ｚｒ、Ｔｉ、Ｔａ、Ｖ、Ｍｇ、Ｔｈ、Ｍｎ、Ｆｅ、Ｃｏ及びＮｉを含むグループのうちから選択された金属の水素化合物を一つ以上含むようにした。 - 特許庁

The insertion layer includes at least one magnetic element selected from among Fe, Co and Ni and includes at least one non-magnetic element selected from among Ta, Ti, W, Zr, Hf, Nb, Mo, V, Mg, and Cr.例文帳に追加

挿入層は、Ｆｅ，ＣｏおよびＮｉから選択される少なくとも一種の磁性元素と、Ｔａ，Ｔｉ，Ｗ，Ｚｒ，Ｈｆ，Ｎｂ，Ｍｏ，Ｖ，ＭｇおよびＣｒから選択される少なくとも一種の非磁性元素とを含む。 - 特許庁

In the oxygen reduction electrocatalyst, a transition metal constituting the transition metal oxide, is at least one preferably selected from among a group consisting of Ti, Ta, Nb, Ru, Mn, V, W, Mo, and Co.例文帳に追加

この酸素還元電極触媒においては、前記遷移金属酸化物を構成する遷移金属が、Ｔｉ，Ｔａ，Ｎｂ，Ｒｕ，Ｍｎ，Ｖ，Ｗ，Ｍｏ，Ｃｏからなる群から選択される少なくとも１種であることが好ましい。 - 特許庁

In one implementation, single layer carbon nanotubes are formed on a substrate comprising a material reacted with carbon dissolvable elements (such as Ni, Fe and Co) or carbide forming elements (such as Si, Mo, Ti, Ta and Cr).例文帳に追加

一実施例では、単層カーボンナノチューブが、炭素溶解性元素（例えば、Ｎｉ、Ｆｅ、Ｃｏ）あるいはカーバイド形成元素（例えば、Ｓｉ、Ｍｏ、Ｔｉ、Ｔａ、Ｃｒ）のような炭素と反応する材料を含む基板上に形成される。 - 特許庁

The matrix-forming metal alloy is an alloy selected from the group consisting of W, Co, Cr, Fe, Ni, Mo, Al, Si, Cu, Y, Ag, P, Zr, Hf, B, Ta, V, Nb, and alloys thereof.例文帳に追加

マトリックス形成合金はW、Ｃｏ、Ｃｒ、Ｆｅ、Ｎｉ、Ｍｏ、Ａｌ、Ｓｉ、Ｃｕ、Ｙ、Ａｇ、Ｐ、Ｚｒ、Ｈｆ、Ｂ、Ｔａ、Ｖ、Ｎｂから成るグループから選ばれる合金およびその合金類である。 - 特許庁

The insertion layer contains at least one magnetic element selected from Fe, Co and Ni, and at least one nonmagnetic element selected from Ta, Ti, W, Zr, Hf, Nb, Mo, V, Mg and Cr.例文帳に追加

挿入層は、Ｆｅ，ＣｏおよびＮｉから選択される少なくとも一種の磁性元素と、Ｔａ，Ｔｉ，Ｗ，Ｚｒ，Ｈｆ，Ｎｂ，Ｍｏ，Ｖ，ＭｇおよびＣｒから選択される少なくとも一種の非磁性元素とを含む。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a sputtering target for forming a film containing Co, Ta and a rare-earth metal, which can enhance the density of the target to such a level that the target is hardly cracked and can be machined.例文帳に追加

割れ難く機械加工ができる程度まで密度を向上させることができるＣｏ、Ｔａおよび希土類金属を含有する膜を形成するためのスパッタリングターゲットの製造方法を提供すること。 - 特許庁

In the Co-Fe-based alloy, the element M1 in the formula is one or more elements selected from (Zr, Hf, Y), and the element M2 is one or more elements selected from (Ta, Nb).例文帳に追加

この軟磁性膜用Ｃｏ−Ｆｅ系合金は、組成式のＭ１元素が（Ｚｒ、Ｈｆ、Ｙ）から選ばれる１種もしくは２種以上の元素、組成式のＭ２元素が（Ｔａ、Ｎｂ）から選ばれる１種もしくは２種の元素であることを特徴とする。 - 特許庁