| 意味 | 例文 |
DMOSを含む例文一覧と使い方
該当件数 : 112件
DMOS TRANSISTOR例文帳に追加
DMOSトランジスタ - 特許庁
HORIZONTAL SHORT CHANNEL DMOS例文帳に追加
横型短チャネルDMOS - 特許庁
METHOD OF MANUFACTURING DMOS TRANSISTOR例文帳に追加
DMOSトランジスタの製造方法 - 特許庁
METHOD OF MANUFACTURING DMOS TRANSISTOR例文帳に追加
DMOS型トランジスタの製造方法 - 特許庁
OUTPUT CIRCUIT CONTAINING DMOS TRANSISTORS例文帳に追加
DMOSトランジスタを含む出力回路 - 特許庁
DMOS DEVICE AND METHOD FOR MANUFACTURING SAME例文帳に追加
DMOS素子及びその製造方法 - 特許庁
DMOS TRANSISTOR AND MANUFACTURING METHOD THEREFOR例文帳に追加
DMOSトランジスタ及びその製造方法 - 特許庁
DMOS TRANSISTOR SOURCE STRUCTURE AND METHOD FOR MANUFACTURING THE SAME例文帳に追加
DMOSトランジスタ・ソース構造とその製法 - 特許庁
DMOS TRANSISTOR AND METHOD OF MANUFACTURING IT例文帳に追加
DMOS型トランジスタ及びその製造方法 - 特許庁
VERTICAL DMOS ELEMENT AND MANUFACTURING METHOD THEREFOR例文帳に追加
垂直型DMOS素子及びその製造方法 - 特許庁
METHOD OF MANUFACTURING DMOS TRANSISTOR ON SEMICONDUCTOR SUBSTRATE例文帳に追加
半導体基体にDMOSトランジスタを作製する方法 - 特許庁
DMOS SEMICONDUCTOR DEVICE AND METHOD OF MANUFACTURING THE SAME例文帳に追加
DMOS型半導体装置及びその製造方法 - 特許庁
MANUFACTURE OF HIGH-DENSITY TRENCHED DMOS USING SIDEWALL SPACER例文帳に追加
側壁スペーサを用いる高密度トレンチ形DMOSの製造 - 特許庁
HIGH VOLTAGE VERTICAL TYPE DMOS TRANSISTOR, AND METHOD FOR PRODUCING THE SAME例文帳に追加
高電圧縦型DMOSトランジスタ及びその製造方法 - 特許庁
To improve the drive power of a P-channel DMOS transistor.例文帳に追加
Pチャネル型DMOSトランジスタの駆動能力を向上させる。 - 特許庁
To prevent damage to the gate oxide film of a lateral DMOS transistor.例文帳に追加
横形DMOSトランジスタのゲート酸化膜の損傷を防止する。 - 特許庁
The on-off threshold voltage of the innermost DMOS transistor in three or more of the DMOS transistors distributed and formed on the semiconductor substrate is larger than that of the outermost DMOS transistor.例文帳に追加
半導体基板上に分布して形成された3つ以上のDMOSトランジスタのうちの最内位置のDMOSトランジスタのオンオフ閾値電圧は最外位置のDMOSトランジスタのオンオフ閾値電圧よりも大きくなっている。 - 特許庁
As to a DMOS transistor, a high-breakthrough voltage can be produced against a low ON-state resistance, and especially the required space can be reduced in a driver structure.例文帳に追加
DMOSトランジスタに関して、低オン抵抗に対しても高ブレークスルー電圧を生成でき、特にドライバ構造では、必要とされる空間を縮小できる。 - 特許庁
LATERAL DMOS TRANSISTOR COMPRISING RETROGRADE REGION AND MANUFACTURING METHOD THEREOF例文帳に追加
レトログレード領域を備える横型DMOSトランジスタ及びその製造方法 - 特許庁
To improve accuracy in current detection by reducing an error in ON resistance ratio between main DMOS and sense DMOS without increasing the size of a semiconductor device.例文帳に追加
半導体装置のサイズを大きくすることなく、メインおよびセンスDMOS間におけるオン抵抗比の誤差を小さくし、電流検出精度を高めること。 - 特許庁
Thus, switching speed of the DMOS transistor can be improved.例文帳に追加
これにより、DMOSトランジスタのスイッチング速度を向上させることができる。 - 特許庁
HORIZONTAL SHORT CHANNEL DMOS AND ITS MANUFACTURING METHOD AND SEMICONDUCTOR DEVICE例文帳に追加
横型短チャネルDMOS及びその製造方法並びに半導体装置 - 特許庁
To provide a semiconductor device including a DMOS transistor with small ON resistance.例文帳に追加
オン抵抗の小さいDMOSトランジスタを含む半導体装置を提供する。 - 特許庁
In addition, the gate terminal of the DMOS transistor is grounded via a resistor.例文帳に追加
また、抵抗を介してDMOSトランジスタのゲート端子をグランドに接続する。 - 特許庁
To provide a semiconductor device which is provided with a DMOS applicable to an analog circuit.例文帳に追加
アナログ回路に適用できるDMOSを備えた半導体装置を提供する。 - 特許庁
SEMICONDUCTOR DEVICE, METHOD FOR FORMING ISOLATED POCKET ON SEMICONDUCTOR SUBSTRATE, SEMICONDUCTOR STRUCTURE, PNP TRANSISTOR, LATERAL N-CHANNEL DMOS TRANSISTOR, AND LATERAL TRENCH DMOS TRANSISTOR例文帳に追加
半導体デバイス、半導体基板に分離されたポケットを形成する方法、半導体構成、PNPトランジスタ、横型NチャネルDMOSトランジスタ、横型トレンチDMOSトランジスタ - 特許庁
To reduce a chip area in a semiconductor device including a DMOS transistor, and to provide the DMOS transistor having low on-resistance and high current driving capability.例文帳に追加
DMOSトランジスタを含む半導体装置において、チップ面積を小さくすること、及びオン抵抗が低く、電流駆動能力の高いDMOSトランジスタを提供することを目的とする。 - 特許庁
To lower the saturation voltage of a DMOS transistor without lowering breakdown strengths among each element of a bipolar transistor in a semiconductor device on which the bipolar transistor and the DMOS transistor are loaded.例文帳に追加
バイポーラトランジスタとDMOSトランジスタとを搭載した半導体装置において、バイポーラトランジスタの各要素間の耐圧を低下させることなくDMOSトランジスタの飽和電圧を低下させる。 - 特許庁
To reduce an ON resistance of a DMOS transistor and to prevent deterioration in strength against an electrostatic discharge.例文帳に追加
DMOSトランジスタのオン抵抗を低減するとともに、静電破壊強度の劣化を防止する。 - 特許庁
To reduce the capacity between a gate and a drain in a semiconductor device having a DMOS transistor.例文帳に追加
DMOSトランジスタを有する半導体装置において、ゲート・ドレイン間容量を小さくする。 - 特許庁
To provide a semiconductor device capable of effectively bringing out capacity of a DMOS transistor which can allow a current to flow as to a semiconductor device loaded with both of a DMOS transistor and a CMOS.例文帳に追加
DMOSトランジスタとCMOSを混載した半導体装置において、DMOSトランジスタが電流を流すことができる能力を有効に引き出すことができる半導体装置を提供する。 - 特許庁
For example, when an output of a CMOS inverter circuit is applied to the gate of the DMOS transistor 9, a low pass filter 10 is inserted between the output of the inverter circuit and the gate of the DMOS transistor 9.例文帳に追加
例えば、CMOSインバータ回路の出力がDMOSトランジスタ9のゲートに加わる場合に、インバータ回路の出力とDMOSトランジスタ9のゲートとの間に、ローパスフィルタ10を挿入する。 - 特許庁
The MOS device can be any of IGBT and DMOS according to a semiconductor substrate to be prepared.例文帳に追加
MOS素子は、準備される半導体基板に応じて、IGBT、DMOSのいずれであってもよい。 - 特許庁
There are provided a depletion MOS transistor (DMOS) 4 connected between an inverting input terminal of the operational amplifier 2 and ground and whose resistance changes with a control signal S1; and a DMOS 7 connected between an output terminal and the inverting input terminal of the operational amplifier 2 and whose resistance varies with a control signal S2.例文帳に追加
オペアンプ2は、逆相入力端子とグランドとの間に接続され、制御信号S1に基づき抵抗値が変化するデプレッション型MOSトランジスタ(DMOS)4と、演算器出力端子と逆相入力端子との間に接続され、制御信号S2に基づき抵抗値が変化するDMOS7とを有している。 - 特許庁
A semiconductor chip includes different widths of columns constituting a super-junction structure in a DMOS transistor.例文帳に追加
DMOSトランジスタにおけるスーパージャンクション構造を構成するコラムの幅が異なるものを半導体チップに備える。 - 特許庁
Thus, the inverse level shift circuit can be realized at a low cost with excellent reliability without using a Pch-DMOS transistor.例文帳に追加
よって、Pch−DMOSトランジスタを使用せず、かつ、低コストで信頼性に優れた逆レベルシフト回路を実現できる。 - 特許庁
Accordingly, the DMOS transistor and other device elements can be mixedly mounted in one region surrounded by an insulated isolation layer 15.例文帳に追加
そのため、絶縁分離層15で囲まれた一つの領域内に、DMOSトランジスタと他のデバイス素子を混載できる。 - 特許庁
To provide a method of manufacturing a DMOS transistor having a small area while exhibiting a high blocking voltage.例文帳に追加
高い阻止電圧に対し、小さな面積でDMOSトランジスタを作製することのできる方法を提供すること。 - 特許庁
To provide a DMOS switch circuit with a low loss which can be surely turned off without applying any excessive voltage between the gates and sources.例文帳に追加
ゲート・ソース間に過大電圧が加わらず、且つ確実にオフできる低損失のDMOSスイッチ回路を提供する。 - 特許庁
The Zener diode 2 is formed on a diffusion region (a P-type diffusion region for forming the Zener diode 2), separated from the DMOS transistor 1, in a drain region of the DMOS transistor 1 in different density (or may be in the same density).例文帳に追加
ツェナダイオード2は、DMOSトランジスタ1のドレイン電極領域内のDMOSトランジスタ1とは異なる濃度(或いは同濃度であっても良い)で分離された拡散領域(ツェナダイオード2形成用のP型拡散領域)上に形成されて成る。 - 特許庁
A voltage change rate at the time of rise and fall of a voltage pulse impressed to a gate of the DMOS transistor 9 is eased.例文帳に追加
DMOSトランジスタ9のゲートに印加される電圧パルスにおける立ち上がり時、立ち下がり時の電圧変化率を緩和する。 - 特許庁
An edge portion of a source layer 5 of the DMOS transistor is disposed so as to recede from an inner corner portion 7A of a gate electrode 7.例文帳に追加
DMOSトランジスタのソース層5の端部は、ゲート電極7の内側のコーナー部7Aから後退して配置されている。 - 特許庁
A drain of the p-channel DMOS transistor is constituted of a p-type high density semiconductor substrate 2 and the epitaxial growth layer 4.例文帳に追加
PchDMOSトランジスタのドレインはP型高濃度半導体基板2及びエピタキシャル成長層4により構成される。 - 特許庁
The subsequent gate-forming process is implemented by the same process as a MOS transistor forming process other than DMOS.例文帳に追加
これにより、その後のゲート形成工程は、DMOS以外の他のMOSトランジスタ形成工程と同一工程で達成する。 - 特許庁
To solve the problem of the sidewall and floor region of a trench structure being doped, at the same time in a conventional DMOS transistor.例文帳に追加
従来のDMOSトランジスタでは、トレンチ型構造に関して、側壁のドーピングは床部領域のドーピングと同時に行われる。 - 特許庁
To solve the problem of the sidewall and floor region of a trench structure being doped, at the same time in conventional DMOS transistors.例文帳に追加
従来のDMOSトランジスタでは、トレンチ型構造に関して、側壁のドーピングは床部領域のドーピングと同時に行われる。 - 特許庁
This semiconductor device is constituted into a structure, wherein a gate electrode 106C for DMOS is formed on an N-type epitaxial layer 101 on a semiconductor substrate 100.例文帳に追加
半導体基板100上のn型のエピタキシャル層101にDMOS用ゲート電極106Cを形成する。 - 特許庁
A DMOS transistor in which a main current flows between the first main surface and second main surface of a silicon substrate is formed.例文帳に追加
シリコン基板の第1主面と第2主面との間で主電流が流れるDMOSトランジスタが形成されている。 - 特許庁
A DMOS transistor 13 operating on a voltage lower than the lowest DC input voltage of a DC-DC converter 3 is an active element and a bipolar transistor 17 is connected in parallel with the DMOS transistor 13 thus constituting an oscillator 1.例文帳に追加
DC−DCコンバータ3の動作可能最低入力直流電圧より低い電圧で動作するDMOSトランジスタ13を能動素子とし、このDMOSトランジスタ13に対して並列にバイポーラトランジスタ17を接続して発振器1を構成する。 - 特許庁
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