「In film」に関連した英語例文の一覧と使い方(3ページ目)

A SiCN film 3a, a SiCO film 3b, and a SiOC film 4a are provided, in this order, on the Cu film 2b, and the SiCO film 4a is an insulating film having a dielectric constant lower than those of the SiCN film 3a and the SiCO film 3b.例文帳に追加

Ｃｕ膜２ｂの上にはＳｉＣＮ膜３ａ、ＳｉＣＯ膜３ｂおよびＳｉＯＣ膜４ａが順に設けられており、ＳｉＯＣ膜４ａはＳｉＣＮ膜３ａおよびＳｉＣＯ膜３ｂよりも低誘電率な絶縁膜である。 - 特許庁

A crystalline silicon film used as the active layer, a first silicon oxide film, a second silicon oxide film, a third silicon oxide film overlying them, further a silicon nitride film overlying the third silicon oxide film, and the silicon nitride film are covered by a resin film in the semiconductor device.例文帳に追加

活性層となる結晶性珪素膜を、第１の酸化珪素膜、第２の酸化珪素膜、それらを覆う第３の酸化珪素膜と、さらに第３の酸化珪素膜を覆う窒化珪素膜、前記窒化珪素膜を樹脂膜で覆う。 - 特許庁

In the film splicing method, a film F2 from a film rolled web 101 is spliced to a film F1 from a film rolled web 1, and a film is fed by changing the film rolled web 101 from the film rolled web 1.例文帳に追加

フィルム原反１からのフィルムＦ１に対してフィルム原反１０１からのフィルムＦ２を継ぎ足し、フィルム原反を１から１０１に切り替えてフィルムを供給する。 - 特許庁

The film marked the start of Tokuma's large-scale film productions, in the vein of the production approach taken in the past by Masaichi NAGATA. 例文帳に追加

永田大作路線に続く、徳間大作路線の始まり。 - Wikipedia日英京都関連文書対訳コーパス

To deposit a titanium oxide thin film uniform in film thickness and high in adhesive strength.例文帳に追加

膜厚が均一で付着強度の高い酸化チタン薄膜を形成する。 - 特許庁

Remaining quantity of solvent in the resist film is measured in the measurement of film quality.例文帳に追加

膜質としては、レジスト膜中の残存溶媒量が測定される。 - 特許庁

FILM-FORMING METHOD USING PLASMA IN LIQUID, AND FILM-FORMING APPARATUS USING PLASMA IN LIQUID例文帳に追加

液中プラズマを用いた成膜方法および液中プラズマ成膜装置 - 特許庁

The film in contact with the I layer in the multi-layer structure is a film of low refraction index.例文帳に追加

多層構造においてＩ層に接する膜は、低屈折率膜である。 - 特許庁

MASKING MEMBER FOR USE IN FORMING FILM AND METHOD FOR MANUFACTURING MASKING MEMBER FOR USE IN FORMING FILM例文帳に追加

成膜用マスク部材、および成膜用マスク部材の製造方法 - 特許庁

In an insulating film forming process, an insulating film is formed in the trench 15.例文帳に追加

絶縁膜形成工程では、トレンチ１５内に絶縁膜を形成する。 - 特許庁

To provide a film deposition device in which fine powder may be generated in a film deposition process, the film deposition device suppressing adhesion of the powder in a film deposition chamber.例文帳に追加

成膜工程において微細な粉末が発生し得る成膜装置において、成膜室内の粉末の付着を抑制する成膜装置を提供する。 - 特許庁

In an interface between an insulating film and the variable-phase film, a hollow is formed in the insulating film and a part of the variable-phase film is embedded in this hollow.例文帳に追加

絶縁膜と相変化膜との界面において、絶縁膜に窪みを形成し、この窪みに相変化膜の一部を埋め込む。 - 特許庁

Only the resin film of the lowest layer is film-formed to make the film thicknesses in vicinities of both ends in the width direction of the substrate B thicker than the film thickness in the middle.例文帳に追加

最下層の樹脂膜のみが、基材Ｂの幅方向の両端付近の膜厚が中央より厚くなるよう成膜される。 - 特許庁

To provide the film roll of an optical film in which a thermal shrinkage rate in a film surface is uniform, and distortion in the film surface is small.例文帳に追加

フィルム面内で熱収縮率が均一であるとともにフィルム面内での歪みが小さい光学フィルムのフィルムロールを提供する。 - 特許庁

To provide a sputtering film deposition system in which, as for film deposition on a film depositing substrate, the film thickness is correctly controlled in continuous film deposition without stopping the film deposition one or more times in the process of the film deposition, and actual film deposition working is performed so as to obtain an objective film thickness.例文帳に追加

本発明の目的は、成膜途上で成膜基板への成膜を一度或いは復数ともに停止させることなく生産性を落とさずに連続成膜の内に正確に膜厚を管理して、目標とする膜厚に実成膜加工を施すスパッタリング成膜装置を提供することにある。 - 特許庁

To maintain film thickness at a predetermined thickness together with measuring the film thickness with high accuracy in equipment that travels a base film with a magnet film in a vacuum layer to form a DLC film on this base film by a film-formation source.例文帳に追加

真空槽１内で磁性膜付ベースフィルム７を走行させ、これに成膜源８によってＤＬＣ膜を成膜するものにおいて、高精度の膜厚測定が行えるとともに、膜厚を一定厚に保つことができるようにする。 - 特許庁

After the gate oxide film of a thin film region is selectively removed, a second gate oxide film forming step is performed to form a second gate oxide film 15A in the thin film region, and a gate oxide film 15B is formed in a thick film region.例文帳に追加

薄膜部領域のゲート酸化膜を選択的に除去した後、第２のゲート酸化膜形成工程を行って、薄膜部領域に第２のゲート酸化膜１５Ａを形成し、厚膜部領域にゲート酸化膜１５Ｂを形成する。 - 特許庁

In a film composition changing step to deposit a final thin film, the intermediate thin film is reacted with active species of reactive gas in the reaction process zone 60 to increase the film thickness of the final thin film more than the film thickness of the intermediate thin film.例文帳に追加

最終薄膜を形成させる膜組成変換工程では、反応プロセスゾーン６０で、中間薄膜と反応性ガスの活性種とを反応させて、最終薄膜の膜厚を中間薄膜の膜厚よりも増加させる。 - 特許庁

By forming the dummy patterns 6 in the peripheries of the thin-film resistor 5, film thickness 31 of the interlayer insulating film on the thin-film resistor 5 is made to be identical with film thickness 25 of the interlayer insulating film in an opening-forming region for film-thickness monitoring.例文帳に追加

薄膜抵抗体５の周辺にダミーパターン６を形成することにより、薄膜抵抗体５上の層間絶縁膜膜厚３１と膜厚モニタ用開口部形成領域の層間絶縁膜膜厚２５は同じになる。 - 特許庁

Then, the film thickness of the polysilicon film 42 is a film thickness for enabling impurities to pass in ion implantation.例文帳に追加

そして、ポリシリコン膜４２の膜厚は、イオン注入の際に、不純物が通過できる膜厚である。 - 特許庁

On the organic siloxane insulating film, a 2nd insulating film and an inorganic thin film soluble in a solution are formed.例文帳に追加

有機シロキサン系絶縁膜に上に、第２の絶縁膜と溶解液に可溶な無機薄膜を形成する。 - 特許庁

To provide a film-forming apparatus, capable of uniformizing a film thickness distribution and film quality distribution in width direction.例文帳に追加

幅方向における膜厚分布・膜質分布を均一にすることができる成膜装置を提供する。 - 特許庁

The resist film (the photosensitive film) is formed on a substrate in the processing block for the resist film.例文帳に追加

レジスト膜用処理ブロックにおいて、基板上にレジスト膜（感光性膜）が形成される。 - 特許庁

例文

FILM ANTENNA AND METHOD FOR PRODUCING THE SAME, AND FILM FOR ANTENNA BOARD FOR USE IN THE FILM ANTENNA例文帳に追加

フィルムアンテナおよびその製造方法、ならびに、それに用いるアンテナ基板用フィルム - 特許庁

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