「In film」に関連した英語例文の一覧と使い方(7ページ目) - Weblio英語例文検索

To suppress the occurrence of scratch flaws of a film in a solution film forming method.例文帳に追加

溶液製膜方法におけるフイルムの擦り傷の発生を抑える。 - 特許庁

FILM-FORMING APPARATUS, AND METHOD FOR PROTECTING OPTICAL WINDOW IN FILM-FORMING APPARATUS例文帳に追加

成膜装置及び成膜装置における光学窓の保護方法 - 特許庁

MATERIAL FOR USE IN FORMING RESIST PROTECTIVE FILM FOR IMMERSION LITHOGRAPHY, AND THE PROTECTIVE FILM例文帳に追加

液浸リソグラフィー用レジスト保護膜形成用材料及び該保護膜 - 特許庁

PLASMA FILM-FORMING APPARATUS OR IN-LINE PLASMA FILM- FORMING APPARATUS例文帳に追加

プラズマ成膜装置及びインライン式プラズマ成膜装置 - 特許庁

A lens film 12 is formed on a light shielding film 11 as shown in a diagram 3A.例文帳に追加

図３Ａに示すように、遮光膜１１上にレンズ膜１２を成膜する。 - 特許庁

To form a flat and thin barrier film, or Ru film in a damascene structure.例文帳に追加

平坦かつ薄いバリア膜またはRu膜をダマシン構造で形成する。 - 特許庁

METHOD AND DEVICE FOR SHRINKING FILM IN FILM PACKAGING APPARATUS例文帳に追加

フイルム包装装置におけるフイルム収縮方法および装置 - 特許庁

The first magnetic film and the second magnetic film are put in exchange coupling.例文帳に追加

第一の磁性膜と第二の磁性膜は交換結合している。 - 特許庁

The porous film forming composition prepared by containing the zeolite sol in a conventional porous film forming coating liquid is used.例文帳に追加

このゼオライトゾルを含む多孔質膜形成用組成物を用いる。 - 特許庁

In this occasion, the selection gate insulating film is thinner than the tunnel insulating film.例文帳に追加

この時、選択ゲート絶縁膜は前記トンネル絶縁膜より薄い。 - 特許庁

To form an oxide film whose film thickness can be controlled in a conveyance container.例文帳に追加

搬送容器内で膜厚制御可能に酸化膜を形成する。 - 特許庁

To measure a Seebeck coefficient in a film thickness direction of a conductive thin film material.例文帳に追加

導電性薄膜材料の膜厚方向のゼーベック係数を測定する。 - 特許庁

In addition, the thin-film resistor element 12 is formed of the conductive film 11.例文帳に追加

そして、導電膜１１によって薄膜抵抗素子１２が形成されている。 - 特許庁

To suppress stripping of a low dielectric constant film in polishing a conductive film.例文帳に追加

導電膜を研磨する際の低誘電率膜の剥離を抑制する。 - 特許庁

HARD FILM EXCELLENT IN WEAR RESISTANCE AND HARD FILM COATED MEMBER例文帳に追加

耐摩耗性に優れた硬質皮膜および硬質皮膜被覆部材 - 特許庁

METHOD AND APPARATUS FOR INSPECTING FILM SPOOLING STATE IN FILM MANUFACTURING APPARATUS例文帳に追加

フイルム製造装置におけるフイルム巻込状態検査方法および装置 - 特許庁

In process G, an action electrode film 7 is adhered to the sealing film 6 by pressing.例文帳に追加

工程Ｇでは、作用極フィルム７を封止フィルム６に圧着する。 - 特許庁

MEASURING METHOD FOR FILM THICKNESS AND FILM THICKNESS MEASURING METHOD IN OPTICAL DISK例文帳に追加

膜厚測定方法及び光ディスクにおける膜厚測定方法 - 特許庁

HARD FILM EXCELLENT IN WEAR RESISTANCE AND HARD FILM- COATED MEMBER例文帳に追加

耐摩耗性に優れた硬質皮膜および硬質皮膜被覆部材 - 特許庁

FILM SUPPLYING MEANS IN SEALING MATERIAL FILM PACK FILLING APPARATUS例文帳に追加

シーリング材フィルムパック充填装置におけるフィルム供給装置 - 特許庁

FILM EXCELLENT IN GAS BARRIER PROPERTIES AND LAMINATED FILM USING THE SAME例文帳に追加

ガスバリア性に優れたフィルム及びそれを用いた積層フィルム - 特許庁

FILM DEPOSITION TREATMENT DRUM IN FILM DEPOSITION APPARATUS FOR ATOMIC LAYER DEPOSITION例文帳に追加

原子層堆積法成膜装置における成膜処理ドラム - 特許庁

In process A, a counter electrode film 1 and a mold film 2 are adhered by pressing.例文帳に追加

工程Ａでは、対極フィルム１と鋳型フィルム２を圧着する。 - 特許庁

FILM INSERT MOLDING METHOD AND FILM CUTTING DEVICE USED IN THE METHOD例文帳に追加

フィルムインサート成形法とこれに用いるフィルムカット装置 - 特許庁

To provide a method of producing a film for a film capacitor, in which the film can be prepared by melt extrusion molding in a thin film having a thickness of 10 μm or less, and in which cost can be reduced by simplifying a production process, and to provide the film for film capacitors.例文帳に追加

フィルムを厚さ１０μｍ以下の薄膜に溶融押出成形でき、製造工程の簡素化によりコストを削減できるフィルムキャパシタ用フィルムの製造方法及びフィルムキャパシタ用フィルムを提供する。 - 特許庁

To provide a film deposition method, in a nanocrystal silicon thin film, which suppresses the formation of an incubation layer at the initial stage of film deposition, and can obtain a film with satisfactory crystallinity from the initial stage of the film deposition, to provide a nanocrystal silicon thin film obtainable by the film deposition method, and to provide a film deposition system which deposits the thin film.例文帳に追加

ナノ結晶シリコン薄膜において、成膜初期におけるインキュベーション層の生成を抑制し、成膜初期から結晶性の良い膜を得ることができる成膜方法と、該成膜方法により得られるナノ結晶シリコン薄膜、並びに該薄膜を成膜する成膜装置を提供すること。 - 特許庁

The method includes the steps of: applying an application liquid onto a support, and drying and curing the wet film to form the coating film 12; winding the support while sandwiching a laminate film 82 between the surfaces of the coating film layer to form a film roll 42; setting the film roll 42 in the vacuum film-forming apparatus 22; and peeling off the laminate film 82 before forming an inorganic film.例文帳に追加

コーティング膜１２を塗布・乾燥し硬膜した後に、コーティング膜層表面にラミネートフィルム８２を挟みながら巻き取りフィルムロール４２とし、このフィルムロール４２を真空成膜装置２２にセットして、無機膜の製膜前にラミネートフィルム８２を剥離する。 - 特許庁

In a laminated film structure comprising an upper layer film composed of the insulation film and a lower layer film composed of a silicon film containing holes, buffer hydrofluoric acid or hydrofluoric acid is used for a chemical solution to be dissolved, and the upper layer film and the lower layer film are simultaneously dissolved, thereby evaluating the film quality of the upper layer film.例文帳に追加

絶縁膜からなる上層膜と正孔を含むシリコン膜からなる下層膜とからなる積層膜構造において、溶解させる薬液に緩衝フッ酸やフッ酸を用いて、上層膜と下層膜とを同時に溶解させることにより上層膜の膜質を評価する。 - 特許庁

In this electromagnetic wave shielding film, a shielding function film 5 constituted of a multilayer lamination film of a metal oxide film 2, a metal film 3 and a metal oxide film 2 is formed on the whole part of a single surface of a transparent film 1, and the surface of the film 5 is covered with a protective film 9.例文帳に追加

透明フィルム１の片面全体に、金属酸化物膜２と金属膜３と金属酸化物膜２との多層積層膜からなるシールド機能膜５が形成され、さらに上記シールド機能膜５の表面が保護フィルム９で被覆されてなる電磁波シールドフィルムである。 - 特許庁

This film-forming material for forming the nickel silicide film or a nickel film includes Ni(PF_3)_4 as a Ni source in the film.例文帳に追加

ニッケルシリサイト膜またはニッケル膜を形成する為の膜形成材料であって、 前記膜のＮｉ源がＮｉ（ＰＦ_3）_4である。 - 特許庁

LAMINATED FILM, SURFACE-TREATED POLYIMIDE FILM USED IN LAMINATED FILM, AND METHOD OF TREATING SURFACE OF POLYIMIDE FILM例文帳に追加

積層フィルム、及び積層フィルムに用いる表面処理されたポリイミドフィルム、ポリイミドフィルムの表面処理方法 - 特許庁

The dielectric multilayer film has a film structure of Fabry Perot type and a spacer in the dielectric multilayer film is made of a film substance of a low refractive index.例文帳に追加

誘電体多層膜はファブリ−ペロ型の膜構成を有し、誘電体多層膜中のスペ−サーは低屈折率の膜物質からなる。 - 特許庁

To provide a semiconductor device improved in the adhesion of an insulating film and a polyimide film or adhesion of the polyimide film and a metal film.例文帳に追加

絶縁膜とポリイミド膜の接着性や、ポリイミド膜と金属膜の接着性を向上させた半導体装置を提供する。 - 特許庁

A vanadium oxide film is formed on an interlayer insulation film 4, and a silicon oxide film and a silicon nitride film are formed on its top in this order.例文帳に追加

層間絶縁膜４上に、酸化バナジウム膜を形成し、その上に、シリコン酸化膜及びシリコン窒化膜をこの順に形成する。 - 特許庁

In the multilayer film 10, a dielectric film 2, an Au (gold) film 3, and an oxide film 4 are sequentially laminated from the translucent substrate 1 side.例文帳に追加

多層膜１０は透光性基板１側から誘電体膜２、Ａｕ（金）膜３、酸化膜４の順に積層されている。 - 特許庁

In addition, a laminating layer film of the insulating film 13 and the ferroelectric film 14 which form the channel is configured by a film consisting of the same element.例文帳に追加

そして、チャネルを形成する絶縁膜１３及び強誘電体膜１４の積層膜は、同一の元素からなる膜で構成されている。 - 特許庁

In this structure, the diffusion prevention film 8 is formed by the same film as a node insulation film (the dielectric film of a capacitor CAP).例文帳に追加

この構造では、拡散防止膜８をノード絶縁膜（キャパシタＣＡＰの誘電体膜）と同じ膜から形成できる。 - 特許庁

To provide a vacuum film deposition apparatus which can deposit a thin film and a multilayer film of high uniformity of the optical film thickness in a substrate surface.例文帳に追加

基板面内での光学膜厚の均一性の高い薄膜や多層膜の成膜を可能とする真空成膜装置を提供すること。 - 特許庁

To provide a vacuum film deposition system capable of depositing a thin film and a multilayer film of high film thickness uniformity in a substrate surface.例文帳に追加

基板面内での膜厚均一性の高い薄膜や多層膜の成膜を可能とする真空成膜装置を提供すること。 - 特許庁

Copper wiring lines are made of a Cu film 209 in an interlayer insulating film consisting of an L-Ox film 203 and an SiO_2 film 204.例文帳に追加

Ｌ−Ｏｘ膜２０３およびＳｉＯ_２膜２０４が積層した層間絶縁膜中にＣｕ膜２０９からなる銅配線を形成する。 - 特許庁

A nitride film 5 having a film thickness in the extent that the groove is not filled with the film 5 is formed on the film 4 formed with the groove.例文帳に追加

溝が形成された酸化膜４上に、溝が埋まらない程度の膜厚を有する窒化膜５を形成する。 - 特許庁

The second dielectric multilayer film 220 has a structure of a stack of an Al_2O_3 film 221, a reflective film 222, and an AlN film 223 in this order.例文帳に追加

第２の誘電体多層膜２２０は、Ａｌ_２Ｏ_３膜２２１、反射膜２２２およびＡｌＮ膜２２３がこの順で積層された構造を有する。 - 特許庁

In the integrated thin film photoelectric converter, a thin film photoelectric conversion unit 5 and a metal electrode film 6 are further arranged on the transparent conductive film 4.例文帳に追加

この集積型薄膜光電変換装置では、透明導電膜４上に、さらに薄膜光電変換ユニット５、金属電極膜６が配置される。 - 特許庁

In the step for film-depositing the oxide film of Ge, a Ge oxide target is sputtered while an Ar gas is introduced to film-deposit the oxide film 3.例文帳に追加

Ｇｅの酸化物膜の成膜工程では、Ａｒガスを導入しながらＧｅ酸化物ターゲットをスパッタリングして、酸化物膜３を成膜する。 - 特許庁

The film thickness of the insulation film 17 on the thin film resistor 5 is the same as that of each thin film resistor 5 in the wafer.例文帳に追加

薄膜抵抗体５上の絶縁膜１７の膜厚はウエハ内の各薄膜抵抗体５で同じである。 - 特許庁