「In film」に関連した英語例文の一覧と使い方(8ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide a deposited film formation device where a deposited film having excellent uniformity in film thickness and film properties can be stably formed for a long time.例文帳に追加

膜厚や膜特性の均一性に優れた堆積膜を、長時間に渡って安定して形成することができる堆積膜形成装置を提供する。 - 特許庁

A metal film 30 is formed as a third film in a region wherein a photo resist 20 is not formed on a metal film 10 and the metal film 10 is exposed.例文帳に追加

金属膜１０の上にフォトレジスト２０がなく金属膜１０が露出している領域に、第３の膜としての金属膜３０を生成する。 - 特許庁

The barrier metal film is only formed of a nitride film, and a metal film or a metal part is restrained from being formed in the barrier metal film.例文帳に追加

バリアメタル膜を窒化膜のみにより形成し、バリアメタル膜中における金属膜あるいは金属部分に形成を抑制する。 - 特許庁

In a good example, the first conductive film is selectively grown as a silicon film, and the second conductive film is selectively grown as a tungsten film.例文帳に追加

第１の導電体膜をシリコン、第２の導電体膜をタングステンとして選択成長させるのが好例である。 - 特許庁

Modulation is applied to the film thickness in the parallel direction of the film on the surface silicon nitride film, and a part of the thick film is used as a sensor, and a probe is provided thereon.例文帳に追加

表面の窒化シリコン膜には、膜に平行方向に膜厚に変調を加え、膜厚が厚い部分をセンサとし、その上にプローブを設ける。 - 特許庁

An Ni film 13 is formed in contact with a semiconductor film 12 that is made of an amorphous silicon film, a microcrystalline silicon film, or the like.例文帳に追加

非晶質シリコン膜、微結晶シリコン膜等でなる半導体膜１２に接してＮｉ膜１３を形成する。 - 特許庁

In addition, a TiN film 20 is formed on the TiO_xN_y film 19, and the TiN film 20 is etched by using the TiO_xN_y film 19 as a mask.例文帳に追加

ＴｉＯ_xＮ_y膜１９の上に、ＴｉＮ膜２０を形成し、ＴｉＯ_xＮ_y膜１９をマスクとしてＴｉＮ膜２０のエッチングを行う。 - 特許庁

Part of the capacitor film is arranged along the side face of the second recessed film and the second electrode film is put in contact with the conductive film.例文帳に追加

キャパシタ膜の一部は、第２の凹部の側面に沿い、第２の電極膜が導電膜に接触する。 - 特許庁

More in concrete, the metal film is formed of copper, and the compound film is an oxide film, carbonate film or hydroxide of copper.例文帳に追加

より具体的には前記金属膜は銅であり、前記化合物膜が銅の酸化膜、炭酸化膜或いは水酸化膜である。 - 特許庁

To provide a film feeding device of a film development processing apparatus in which a film container can easily be set when film is processed.例文帳に追加

フィルムの現像処理に当たり、フィルム収容体を容易にセットすることができるフィルム現像処理装置のフィルム供給装置を提供する。 - 特許庁

To provide a film deposition method and a sputtering system capable of improving the film quality and uniformity in film thickness of a film deposited on a substrate.例文帳に追加

基板上に形成される膜の膜質及び膜厚の均一性を向上できるようにした成膜方法及びスパッタリング装置を提供する。 - 特許庁

In the inspection block 13, film thickness of a reflection preventing film, the resist film and the resist cover film is measured.例文帳に追加

検査ブロック１３において、反射防止膜、レジスト膜およびレジストカバー膜の膜厚が測定される。 - 特許庁

A recess 7 is formed in an insulating film (SiOC film) 6, and a barrier metal film 8 and a copper film 9 which become wiring are embedded inside the recess 7.例文帳に追加

絶縁膜（ＳｉＯＣ膜）６に凹部７を形成し、凹部７内に配線となるバリアメタル膜８および銅膜９を埋め込む。 - 特許庁

To provide a film deposition system where a film of high quality having no unevenness in film thickness can be deposited at a high film deposition rate by plasma CVD.例文帳に追加

プラズマＣＶＤによって、高い成膜レートで、かつ、膜厚ムラの無い、高品質な膜を成膜できる成膜装置を提供する。 - 特許庁

To suppress dissipation of a titanium nitride film in use of a laminated layer film of the titanium nitride film and a silicon film as a gate electrode.例文帳に追加

ゲート電極として窒化チタン膜とシリコン膜の積層膜を用いたときに、窒化チタン膜が消失することを抑制する。 - 特許庁

To load a film without separately attaching a film guide member and an adaptor or the like to a film frame in a film loading part.例文帳に追加

フィルム装填部において、フィルムフレームにフィルムガイド部材やアダプタ等を別途取り付けることなく、フィルムを装填可能とする。 - 特許庁

An insulating film is formed on a substrate, and a resistance film containing the TaN film is formed in a pattern on the insulating film.例文帳に追加

基板上に絶縁膜を形成し、前記絶縁膜上に、ＴａＮ膜を含む抵抗膜をパターン形成する。 - 特許庁

To provide a vapor deposition method capable of forming a film uniform in its film thickness and film quality for an object having a large area to be provided with a film.例文帳に追加

大面積の成膜対象物に対して膜厚及び膜質が均一の膜を形成することができる蒸着技術を提供する。 - 特許庁

To provide a film forming method for an insulating film capable of forming an insulating film which is excellent in insulation characteristic at a high film-formation rate.例文帳に追加

絶縁特性に優れた絶縁膜を高い成膜レートで成膜することができる絶縁膜の成膜方法を提供する。 - 特許庁

Also there are provided the antistatic thin film, an ultraviolet ray blocking thin film, and a transparent electrode thin film, each of which includes the zinc oxide thin film produced in the described method.例文帳に追加

上記方法で製造した酸化亜鉛薄膜からなる帯電防止薄膜、紫外線カット薄膜および透明電極薄膜。 - 特許庁

To provide a method and a device for forming a deposition film where the uniformity in the film thickness and film properties of a deposition film can be improved.例文帳に追加

堆積膜の膜厚や膜特性の均一性を向上させることができる堆積膜形成方法および堆積膜形成装置を提供する。 - 特許庁

To provide a thin film forming device reduced in the variation of the film forming rate and capable of forming a thin film of stable film thickness.例文帳に追加

成膜速度の変動を低減して、安定した膜厚の薄膜を形成可能な薄膜形成装置を提供する。 - 特許庁

To provide a film-forming apparatus which does not deposit a film inside a plasma-generating chamber and forms the film in a short period of time, and to provide a film-forming method therefor.例文帳に追加

プラズマ発生室側に膜の付着がなく、かつ短時間で成膜が可能な成膜装置および成膜方法を提供する。 - 特許庁

To provide a film deposition method or the like of a copper film in which any organic impurity layer is less deposited, any abnormal growth of the copper film is less, and the adhesiveness to a base film is excellent.例文帳に追加

有機不純物層の形成や銅膜の異常成長が少なく、下地膜との密着性のよい銅膜の成膜方法等を提供する。 - 特許庁

To provide a thin film processing apparatus capable of adjusting the intensity of a laser beam in matching with the film thickness of a part of a film from which the film part is removed.例文帳に追加

膜の除去する部分の膜厚に合わせてレーザビームの強度を調整することができる薄膜加工装置を提供すること。 - 特許庁

Further, after a thin film circuit is formed on the insulating film, the insulating film in the via hole is removed to expose the thin film circuit.例文帳に追加

さらに前記絶縁膜上に薄膜回路を形成した後、前記ビアホールにおいて前記絶縁膜を除去して薄膜回路を露出させる。 - 特許庁

Next, a second insulation film 22 and a second conductor film 32 are formed in sequence, a protective film 51 is formed thereon, and the protective film 51 is etched back.例文帳に追加

続いて、第２絶縁膜２２と第２導体膜３２とを順に形成し、その上から保護膜５１を形成し、保護膜５１をエッチバックする。 - 特許庁

In the method of etching the Au film, an insulating film 2 is formed on a semiconductor substrate 1 and the Au film 3 is formed on the film 2 by means of a sputtering method or plating method.例文帳に追加

半導体基板１上に絶縁膜２を形成し、絶縁膜２上にスパッタリング又はメッキ法によりＡｕ膜３を形成する。 - 特許庁

First, a substrate film 30, a first film, a releasable film and a second film are formed in this order on a recording gap layer 9.例文帳に追加

まず、記録ギャップ層９の上に、下地膜３０、第１の膜、剥離膜、第２の膜が順に形成される。 - 特許庁

The inter-gate insulating film 7 is made up in a laminated structure of a lower-layer insulating film 7a, a high-dielectric insulating film 7b and an upper-layer insulating film 7c.例文帳に追加

ゲート間絶縁膜７が、下層絶縁膜７ａ／高誘電体絶縁膜７ｂ／上層絶縁膜７ｃの積層構造によって構成されている。 - 特許庁

To provide the film thickness measuring instrument which can remove the influence of variance in the film thickness of a ground film and improve film thickness measurement precision.例文帳に追加

下地膜の膜厚のばらつきによる影響を除去し、膜厚測定精度を向上させることができる膜厚測定装置を提供すること。 - 特許庁

To prevent the foaming of a solvent in a cast film, the remainder of the cast film when the film is stripped, and biting/tearing when the cast film is held and conveyed.例文帳に追加

流延膜中の溶媒の発泡や、流延膜を剥ぎ取る際の剥げ残り、把持して搬送する際の噛みちぎりを防止する。 - 特許庁

To provide a film-forming method for flattening a film by suppressing lifting of ends of the film in drying, and to provide a film-forming apparatus.例文帳に追加

乾燥時における膜の端部の盛り上がりを抑制し、膜の平坦化を図ることができる成膜方法及び成膜装置を提供する。 - 特許庁

The first film and the second film are heated and a part which is brought into contact with the second film in the first film is silicided.例文帳に追加

第１の膜及び第２の膜を加熱して、第１の膜のうち少なくとも第２の膜に接する部分をシリサイド化する。 - 特許庁

To provide a film forming device capable of automatically a structure in which, as to film-forming a work having plural faces to be film-formed without needing any atmospheric release of a film forming chamber.例文帳に追加

複数の被成膜面を有したワークへの成膜を成膜室の大気解放を不要とし、しかも自動的に成膜する構造とする。 - 特許庁

To prevent capacitance increase between wirings, in the case where a laminated film made of a high dielectric film and a low dielectric film is used as an interlayer insulating film.例文帳に追加

層間絶縁膜として、高誘電率膜／低誘電率膜の積層膜を用いた場合における、配線間容量の上昇を防止すること。 - 特許庁

Next, after a second film 4 is piled on the sacrifice film 3, the sacrifice film 3 is removed to form the second film 4 in the recesses.例文帳に追加

次に、犠牲被膜３上に第２被膜４を積層した後、犠牲被膜３を除去すれば、凹部に第２被膜４が形成される。 - 特許庁

The surface insulating film 9 is formed of a laminated film in which a lower layer film 10 composed of SiN and an upper film 11 composed of SiO_2 are laminated.例文帳に追加

表面絶縁膜９は、ＳｉＮからなる下層膜１０とＳｉＯ_２からなる上層膜１１とが積層された積層膜で形成されている。 - 特許庁

To provide a film deposition system and a film deposition method, which suppress damage to a thin film caused by plasma generated in a film deposition space.例文帳に追加

成膜空間に生成するプラズマに起因した薄膜へのダメージを抑制する成膜装置及び成膜方法を提供することである。 - 特許庁

Consequently, the adhesive property between the base film and the Cu wiring film deposited on the base film in the succeeding film forming step is enhanced.例文帳に追加

これによって下地膜とその後の成膜で堆積する上層のＣｕ膜との密着性を高くする。 - 特許庁

To provide a deposition film forming apparatus capable of forming a deposition film having excellent uniformity in film thickness and film characteristics consistently for a long time.例文帳に追加

膜厚や膜特性の均一性に優れた堆積膜を、長時間に渡って安定して形成することができる堆積膜形成装置を提供する。 - 特許庁

To provide a film peeler for a film used in agriculture that can peel off the film from the ridge faces, while it suitably removes water drops and contaminants sticking to the film.例文帳に追加

農用膜体に付着した水滴や夾雑物等を好適に取り除きながら畝から剥がし取ることのできる剥取り装置を提供する。 - 特許庁

Since the TaN film interrupts the occlusion of the H contained in the insulating film into the Ta film, the embrittlement of the Ta film is suppressed.例文帳に追加

ＴａＮ膜が絶縁膜中のＨのＴａ膜への吸蔵を妨害することにより、Ｔａ膜の脆弱化が抑制される。 - 特許庁

In a thin film transistor, its foundational film, its gate insulation film, and its interlayer insulation film are formed out of silicon oxide films.例文帳に追加

薄膜トランジスタにおいて、下地膜、ゲート絶縁膜、層間絶縁膜を酸化珪素膜で形成する。 - 特許庁

The multilayered optical thin film has, for example, a three-layered structure of high refractive index film F1/low refractive index film F2/high refractive index film F3 layered in this order.例文帳に追加

多層光学薄膜は、例えば、高屈折率膜Ｆ１／低屈折率膜Ｆ２／高屈折率膜Ｆ３をこの順で積層した３層構造とする。 - 特許庁