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In filmの部分一致の例文一覧と使い方

該当件数 : 49993



例文

The yttrium oxide film 66 is used as a base in crystallizing the ferroelectric film (STN film) 57.例文帳に追加

酸化イットリウム膜66は強誘電体膜(STN膜)57を結晶化する際に下地となる。 - 特許庁

To provide a deposition-film-forming apparatus which reproducibly forms a deposition film superior in a film quality.例文帳に追加

膜質の優れた堆積膜を再現性よく形成可能な堆積膜形成装置を提供する。 - 特許庁

To increase film quality of a metallic thin film by suppressing a halogen element from remaining in the metallic thin film.例文帳に追加

金属薄膜中へのハロゲン元素の残留を抑制し、金属薄膜の膜質を向上させる。 - 特許庁

To increase a film-making speed in a solution film-making method for a cellulose triacetate film, etc.例文帳に追加

セルローストリアセテートフィルム等の溶液製膜方法において、製膜速度の高速化を図る。 - 特許庁

例文

A resist cover film (the protecting film) is formed in the processing block for the resist cover film.例文帳に追加

レジストカバー膜用処理ブロックにおいて、レジストカバー膜(保護膜)が形成される。 - 特許庁


例文

RESIN FILM FOR INSULATING MATERIAL LAYER IN FILM TAPE CARRIER AND FILM TAPE CARRIER例文帳に追加

フィルムテープキャリアにおける絶縁材層用の樹脂フィルムおよびフィルムテープキャリア - 特許庁

An interlayer insulating film 50 including an organic resin film 51 is provided in contact with an oxide semiconductor film 20.例文帳に追加

酸化物半導体膜20に接して、有機樹脂膜51を含む層間絶縁膜50を設ける。 - 特許庁

In this case, the cathode K composed of the aluminum film with about 1.8 μm film thickness remains inside the film.例文帳に追加

この時内部には膜厚約1.8μmのアルミニウム膜からなる陰極Kが残存する。 - 特許庁

To provide a vacuum film deposition system capable of depositing a film having highly precise film thickness distribution and excellent in reproducibility.例文帳に追加

高精度な膜厚分布でかつ再現性のよい膜を成膜できる真空成膜装置を提供する。 - 特許庁

例文

In the resist cover film processing block 12, a resist cover film is formed on the resist film.例文帳に追加

レジストカバー膜用処理ブロック12において、レジスト膜上にレジストカバー膜が形成される。 - 特許庁

例文

Impurities in the film 4 are diffused into the film 5 by heat treatment so as to form a wiring film 6.例文帳に追加

熱処理により膜4中の不純物を膜5中に拡散して、配線膜6を形成する。 - 特許庁

The film parameter set by the operator in each measurement is a film thickness or a refractive index of the film.例文帳に追加

各測定毎にオペレータにより設定される膜パラメータは、膜厚や膜の屈折率である。 - 特許庁

To further equalize distribution of a film thickness in a film forming reaction apparatus for forming an epitaxial film on a wafer.例文帳に追加

ウェハにエピタキシャル膜を成膜する成膜反応装置おいて膜厚分布を一層均一化する。 - 特許庁

To prevent a barrier metal film of wiring formed in a recess of an insulating film from being peeled off from the insulating film.例文帳に追加

絶縁膜の凹部内に形成された配線のバリアメタル膜の絶縁膜からの剥がれを防ぐ。 - 特許庁

FILM FORMING OBJECTIVE PARTS OF COMPRESSOR AND FILM FORMING METHOD IN FILM FORMING OBJECTIVE PARTS例文帳に追加

圧縮機の皮膜形成対象部品及び皮膜形成対象部品における皮膜形成方法 - 特許庁

To improve film quality of an insulating film formed in a plasma film forming method.例文帳に追加

プラズマを用いた成膜方法で形成される絶縁膜の膜質を向上させる。 - 特許庁

To prevent the unexpected ply separation of a release film layer from a main film layer in a multilayered film.例文帳に追加

多層フィルムにおいて、主フィルム層からの剥離フィルム層の不測の層間剥離を防止すること - 特許庁

To keep film quality of a plated film in fat wiring good while keeping flatness of the plated film.例文帳に追加

めっき膜の平坦性を保ちつつ、太幅配線におけるめっき膜の膜質を良好に保つ。 - 特許庁

In this case, the film thickness of the Pt film constituting the adhesive conductive film 10 is set ≤0.5 nm.例文帳に追加

ここで、接着導電膜10を構成するPt膜の膜厚は、0.5nm以下に設定する。 - 特許庁

The coating film is controlled to have ≤1 GΩm resistivity of the whole coating film in the film thickness.例文帳に追加

また、この塗膜は、塗膜全体の膜厚方向の抵抗率が1GΩm以下とされている。 - 特許庁

An insulating film 6 is formed on the insulating film 4 in such a manner that the insulating film 6 covers the polysilicon resistive layer 5.例文帳に追加

絶縁膜4上には、ポリシリコン抵抗層5を被覆して絶縁膜6が形成されている。 - 特許庁

To uniformize a film thickness of a thin film in a given thin film formation region further more surely and simply.例文帳に追加

より確実にかつより簡易に所定の薄膜形成領域における薄膜の膜厚を均一化する。 - 特許庁

To control a film quality according to the growth of the film in a plasma CVD film-forming method.例文帳に追加

プラズマCVD成膜法において膜質を膜の成長に応じて制御する。 - 特許庁

To provide a transparent film excellent in appearance quality and an adhesive film having the transparent film.例文帳に追加

外観品位に優れた透明フィルムおよび該透明フィルムを備えた粘着フィルムを提供する。 - 特許庁

To provide a film deposition method by which a stable metallic oxide film, in particular, a titanium oxide film can be deposited.例文帳に追加

安定した金属酸化膜、特に酸化チタン膜の形成が可能な成膜方法を提供する。 - 特許庁

In the film 31, the cast film 18 is uniform, and a high quality film can be obtained.例文帳に追加

フイルム31は、流延膜18aが均一であるので、高品質なものが得られる。 - 特許庁

The roll film P is rotated in the film opening direction to draw out the film end P1.例文帳に追加

フィルムが開く方向にロールフィルムPを回転させてフィルム端部P1を引き出す。 - 特許庁

The piezoelectric film 18 is heat-treated at a temperature higher than or equal to one applied to film in film forming.例文帳に追加

また、圧電膜18は成膜時に膜に加えた温度以上で熱処理を行う。 - 特許庁

To provide a thin film depositing apparatus and a thin film depositing method capable of suppressing generation of irregularity in film thickness.例文帳に追加

膜厚ムラの発生を抑制できる薄膜形成装置及び薄膜形成方法を提供する。 - 特許庁

In this transparent conductive film, a transparent conductive thin film 5 is formed on the high polymer film 4.例文帳に追加

高分子フィルム4上に透明導電薄膜5が形成されてなる透明導電フィルム。 - 特許庁

The film deposition chamber 100 is arranged in the vacuum vessel 10 to execute film deposition on a substrate 200 to be film-deposited.例文帳に追加

成膜室100は真空容器10内に配置され、被処理基板200に成膜処理を行う。 - 特許庁

To provide a substrate for film-formation capable of being formed with a film shaped into a desired pattern in film-formation with light.例文帳に追加

光による成膜において、膜を所望の形状にすることができる成膜用基板を提供する。 - 特許庁

The cramping wrinkles of the soft film are corrected by applying a stretching force to the soft film 27 in the feed direction of the soft film.例文帳に追加

ツレシワは、軟膜27の搬送方向に延伸力を加えることで矯正する。 - 特許庁

Secondly, forming of the thin film is started (S2), and the physical thickness of the thin film in the middle of the film formation is detected (S3).例文帳に追加

次に、薄膜の成膜を開始し(S2)、成膜途中で薄膜の物理膜厚を検知する(S3)。 - 特許庁

The moving quantity of a film 11 in film-feeding is detected by a film moving quantity detecting means 13.例文帳に追加

フィルム給送中のフィルム11の移動量をフィルム移動量検知手段13で検出する。 - 特許庁

To provide a double layer powder coating film which is excellent in coating film peelability and coating film performance.例文帳に追加

塗膜の分離性に優れ、且つ塗膜性能に優れた複層粉体塗膜を提供する。 - 特許庁

To suppress the generation of film thickness distribution in an application film, and at the same time to shorten time for forming the application film.例文帳に追加

塗布膜の膜厚分布の発生を抑制しつつ、塗布膜が形成される時間の短縮化を図る。 - 特許庁

To provide a coating film forming apparatus in which a coating film having excellent film-thickness uniformity is formed.例文帳に追加

膜厚均一性に優れた塗布膜を形成する塗布膜形成装置を提供する。 - 特許庁

A TaN film 11 and a Cu film 12 are deposited sequentially on an insulating film 10 in which a trench is formed.例文帳に追加

トレンチを形成した絶縁膜10上にTaN膜11、Cu膜12を順次堆積する。 - 特許庁

The crystal grain diameter in the film 9 is formed into a long grain diameter due to the effect of the film quality of the film 7.例文帳に追加

反応防止膜7の膜質の影響により、金属膜9の結晶粒は大粒径化される。 - 特許庁

To speed up film-forming by assuring good composition of a thin film and constantness in film thickness.例文帳に追加

薄膜の良好な組成と膜厚均一性を確保し、成膜速度を増大させる。 - 特許庁

To control a film quality in the interface between a thin film to be formed and a ground and improve the film quality.例文帳に追加

形成する薄膜の下地との界面の膜質向上、膜質制御を可能にする。 - 特許庁

To provide a copper film deposition technology in which the principle of film deposition is different from that of a conventional copper film deposition technology.例文帳に追加

従来の銅成膜技術と、成膜原理が異なる銅成膜技術を提供する。 - 特許庁

A photo film built in a lens-fitted photo film unit is made of a color reversal film.例文帳に追加

レンズ付きフイルムユニットに内蔵される写真フイルムをカラーリバーサルフイルムから構成する。 - 特許庁

When the photographic film after developed is set in a print processor, the film scanner preliminarily scans the film.例文帳に追加

現像済みの写真フイルムをプリントプロセサにセットすると、フイルムスキャナがプレスキャンする。 - 特許庁

In addition, the amorphous insulator film is used as a gate insulation film of the thin film transistor.例文帳に追加

また、そのアモルファス絶縁体膜を薄膜トランジスタのゲート絶縁膜に用いる。 - 特許庁

METHOD FOR REMOVING DEPOSIT FILM ON SURFACE OF SUBSTRATE HOLDER IN FILM FORMING DEVICE, AND THE FILM FORMING DEVICE例文帳に追加

成膜装置における基板保持具の表面の堆積膜の除去方法及び成膜装置 - 特許庁

To form a film on the whole surface of a substrate in a uniform film thickness and film quality.例文帳に追加

基板の全面にわたって膜厚および膜質を均一にして成膜できるようにする。 - 特許庁

By forming the Cu film in this way, adhesion between the barrier metal film and the Cu film is improved.例文帳に追加

このようにCu膜を形成することにより、バリアメタル膜とCu膜との密着性が向上する。 - 特許庁

例文

To improve an adhesion property with an insulating film in a metal film formed on the insulating film.例文帳に追加

絶縁膜上に形成された金属膜における上記絶縁膜との密着性を改善する。 - 特許庁

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