「Mask number」に関連した英語例文の一覧と使い方 - Weblio英語例文検索

Simple mask permission information and a mask digit number are established in the telephone number stored in the address book database 3-1.例文帳に追加

アドレス帳データベース３−１に記憶されている電話番号には、簡易マスク許可情報、マスク桁数が設定されている。 - 特許庁

MASK BIT NUMBER OPERATING DEVICE, VECTOR PROCESSOR AND INFORMATION PROCESSOR例文帳に追加

マスクビット数演算装置、ベクトル処理装置、情報処理装置 - 特許庁

To reduce the number of mother masks without increasing the size of the mother mask.例文帳に追加

マザーマスク自体を大きくすることなく削減できる。 - 特許庁

In step S1304, mask data for controlling the number of operations is created.例文帳に追加

ステップS1304において操作回数を制御するためのマスクデータを作成する。 - 特許庁

The even number pixel and the odd number pixel successively store the digital signals at a specified even number row position and odd number row in a picture processing mask 8 by turns.例文帳に追加

デジタル信号を画像処理マスク８の所定の偶数列位置および奇数列位置に偶数画素および奇数画素が交互に順に格納する。 - 特許庁

A sub mask A1 is provided with openings corresponding to pixels on odd number lines in odd number columns, as well as even number lines in even number columns.例文帳に追加

サブマスクＡ１は、奇数行奇数列、偶数行偶数列の画素に対応した開口を有する。 - 特許庁

A sub mask B4 is provided with openings corresponding to pixels on odd number lines in even number columns, as well as even number lines in odd number columns.例文帳に追加

サブマスクＢ４は、奇数行偶数列、偶数行奇数列の画素に対応した開口を有する。 - 特許庁

In this instance, a mask ID is assigned to each mask, and a page, a coordinate position in the page, display attributes of the mask, and the number of taps are stored associated with the mask ID.例文帳に追加

この例では、各マスクにマスクＩＤが割り当てられ、これに関連付けて、ページ、ページ中の座標位置、マスクの表示属性、タップ回数が記憶される。 - 特許庁

A mask coordinate calculation processing part 11 calculates a start position of the mask pattern to maximize the number of bit ON pixels in a pattern in which the mask operation of a source pattern and the mask pattern is performed, and a mask plotting processing part 12 performs the mask operation of the mask pattern deviated to the start position calculated by the mask coordinate calculation processing part 11 and of the source pattern.例文帳に追加

マスク座標計算処理部１１はソースパターンとマスクパターンをマスク演算したパターンにおけるビットＯＮ画素数が最大になるようなマスクパターンの開始位置を計算し、マスク描画処理部１２はマスク座標計算処理部１１により計算された開始位置にずらしたマスクパターンとソースパターンとをマスク演算する。 - 特許庁

On the basis of the number Ss of subnetworks, a subnet mask extracting means 7 prepares a subnet mask Sm.例文帳に追加

サブネットマスク抽出手段が、サブネットワークの数Ｓｓに基づき、サブネットマスクＳｍを作成する。 - 特許庁

A large number of through-holes are provided to a mask main body comprising an electrodeposition metal 17 so as to pierce the mask main body.例文帳に追加

電着金属１７からなるマスク本体に、多数の通孔２が内外貫通状に透設されている。 - 特許庁

The size of local address space can be set variable in accordance with the number of mask bits to be specified by a mask signal.例文帳に追加

マスク信号で指定されるマスクビット数に応じてローカルアドレス空間の大きさを可変に設定する事が可能になる。 - 特許庁

To form a light-emitting layer by a mask vapor deposition method without increasing the number of deposition cycles and lowering the strength of the mask.例文帳に追加

本発明は、蒸着回数を増やすことなく、マスクの強度も低下させずに、マスク蒸着法によって発光層を形成することを目的とする。 - 特許庁

To provide an exposure mask for forming a three-dimensional figure by exposure, the mask having a simple structure and giving a sufficient number of gray scales.例文帳に追加

３次元形状を露光によって形成するための露光用マスクとして簡単な構成でしかも十分な階調数を得るようにすること。 - 特許庁

To deal with substrates and masks in various kinds with a small number of components by also utilizing a part of push-up pins for mounting a mask on the mask holder.例文帳に追加

突き上げピンの一部をマクスのマスクホルダへの装着にも利用して、少ない構成部品で多種のサイズの基板及びマスクに対応する。 - 特許庁

A mask data generation means 12 adds mask area or passing area attributes to data of each area, and generates mask data for all combination patterns of the attributes in a condition where the maximum value of the number of mask areas is a designated number.例文帳に追加

マスクデータ生成手段１２は、各領域のデータに対してマスク領域または通過領域の属性を付加し、マスク領域の数の最大値が指定された数となる条件下で前記属性の組み合わせパターンの全てに対してマスクデータを生成する。 - 特許庁

The mask layout data includes polygons, and each polygon has a large number of edges.例文帳に追加

マスク・レイアウト・データは多角形を含み、各多角形は多数のエッジを有する。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing a semiconductor device capable of reducing the number of mask process.例文帳に追加

マスク工程数を低減可能な半導体装置の製造方法を提供する。 - 特許庁

The filtering apparatus includes: a mask generation unit 360 which generates a mask to be used for filtering section data based on a section number in a digital broadcasting receiver and the mask generation unit 360 determines whether to generate the mask based on an accumulated number of bit number 0 or 1 at each bit position of a section number already stored in the receiver.例文帳に追加

デジタル放送受信器でセクション番号に基づいて、セクションデータをフィルタリングするのに使用するためのマスクを生成するマスク生成部３６０を備え、マスク生成部３６０は、受信器に既に保存されたセクション番号の各ビット位置でのビット値０またはビット値１の累積値に基づいて、マスクの生成如何を決定するフィルタリング装置である。 - 特許庁

To obtain a method for manufacturing a semiconductor device in which the number of times for matching a mask can be decreased.例文帳に追加

マスク合わせの回数を低減できる半導体装置の製造方法を得ることを目的とする。 - 特許庁

To generate mask drawing data in which the number of master masks to be generated can be minimized.例文帳に追加

作成すべき親マスクの枚数を最小にすることができるマスク描画データを作成する。 - 特許庁

To provide a method for forming a mask, with which the number of detectable pseudo defects is reduced.例文帳に追加

検出される擬似欠陥の数を低減できるマスク作成方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a patterning method which can reduce the manufacturing cost by reducing the number of sheets of a photo mask.例文帳に追加

フォトマスクの枚数を低減して製造コストの低減が可能なパターニング方法を提供する。 - 特許庁

To provide an array substrate for a liquid crystal display device with improved productivity by reducing the number of mask processes.例文帳に追加

マスク工数を低減して生産性を向上した液晶表示装置用アレイ基板を提供する。 - 特許庁

Thus, it can prevent element characteristics from being lowered by decreasing the number of mask applications.例文帳に追加

これにより、マスク適用数を減少させて素子特性の低下を防止しうる。 - 特許庁

A mask selection vector quantizing unit 14 determines the mask number of a mask having the largest calculated differencde as a quantized value of an extraction target area of the basic feature information.例文帳に追加

マスク選択ベクトル量子化部１４は、算出した差分の最大のマスクのマスク番号を基本特徴情報の抽出対象領域の量子化値とする。 - 特許庁

A process of selecting one pixel of the pixel value 0 from the mask pattern, and changing the pixel value of the selected pixel to 1 which shows non-masking to update the mask pattern is alternately repeated by a plurality of the number of times, whereby the mask pattern is completed.例文帳に追加

マスクパターンから画素値０の画素を１画素選択し、選択画素の画素値をマスクしないことを示す１に変更してマスクパターンを更新する処理を交互に複数回繰り返すことで、マスクパターンを完成させる。 - 特許庁

In some examples, connection levels of 2^X-1 are etched by an etching mask of sequential number X, where X=1 in one mask, X=2 in another mask, and the X is given up to X=N.例文帳に追加

幾つかの例によれば、２のＸ−１乗（２^Ｘ−１）個の接続レベルは、連続番号Ｘのエッチングマスクでエッチングされ、１つのマスクがＸ＝１であり、他の１つのマスクがＸ＝２であり、Ｘ＝Ｎまで付与される。 - 特許庁

The number of mask backup unit pieces 20L, 20R which support the lower surface of the mask 50 at the time of printing, among the plurality of mask backup unit pieces 20L, 20R, can be added or subtracted in accordance with the Y-axis length of the substrate B.例文帳に追加

複数のマスクバックアップ片２０Ｌ、２０Ｒのうち、印刷時にマスク５０の下面を支持するマスクバックアップ片２０Ｌ、２０Ｒの数は、基板ＢのＹ軸方向の長さに応じて、加除可能である。 - 特許庁

The main mask is composed of a mask main surface 40 with an effective part on which a number of electron beams passing holes are formed, and a skirt 17 extended from the outer periphery of the mask main surface 40.例文帳に追加

主マスクは、多数の電子ビーム通過孔が形成された有効部を有したマスク主面４０、およびこのマスク主面の周縁から延出したスカート部１７を備えている。 - 特許庁

The auxiliary mask has an effective portion as a region having a number of opening holes corresponding to the holes on the shadow mask body, similarly to the shadow mask body, and non-effective portions located at both ends of a short axis (the Y-axis).例文帳に追加

また、補助マスクは、シャドウマスク本体と同様に、シャドウマスク本体の開孔に対応して多数の開孔が設けられた領域である有効部と、短軸（Ｙ軸）両端に位置する非有効部とを有している。 - 特許庁

A shadow mask 7 is equipped with a main mask 14 opposing to the whole area of a fluorescent screen and having a porous portion, in which a number of electron beam passing holes have been formed, and an auxiliary mask 20 superimposed on and fixed to the main mask in a near region to a minor axis and having a number of electron beam passing holes corresponding to the electron beam passing holes in the main mask.例文帳に追加

シャドウマスク７は、蛍光体スクリーン全域に対向しているとともに多数の電子ビーム通過孔が形成された有孔部を有した主マスク１４と、短軸近傍領域で主マスクに重ねて固定され、主マスクの電子ビーム通過孔に対応した複数の電子ビーム通過孔を有する補助マスク２０と、を備えている。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a mask, for reducing the mask price without significantly increasing a load of electron beam drawing on the mask, and ensuring dimensional uniformity of a device pattern under the same conditions of manufacturing a full-chip mask, in a method for manufacturing a mask in which the number of chips in an effective exposure area of the mask is reduced and a vacant area is formed.例文帳に追加

マスクの有効露光領域内のチップ数を削減し、空き領域が形成される場合のマスクの製造方法において、マスクの電子線描画負荷を著しく上げずにマスク価格の低減を図り、フルチップの時と同一の製造条件で、デバイスパターンの寸法均一性が保証されたマスクの製造方法を提供する。 - 特許庁

Solder balls 6 larger in number than holes 4a are fed to a mask 4, the mask 4 and a work 2 are tilted keeping a distance between them constant, excess solder balls 6 are removed from the mask 4, and then the mask 4 is kept away from the work 2.例文帳に追加

穴４ａの数よりも多いはんだボール６をマスク４に供給し、マスク４とワーク２との距離を保った状態で両者を傾けて、穴４ａの数より多い余剰のはんだボール６をマスク４上から除去した後、マスク４をワーク２から遠ざける。 - 特許庁

The exposure apparatus PE1 includes a mask stocker 71 for accommodating a plurality of masks M by arranging in parallel a plurality of exposure units 100A, 100B, and a unit of mask loader 70 for supplying the predetermined number of masks M to mask stages 10A, 10B from the mask stocker 71.例文帳に追加

露光装置ＰＥ１は、複数の露光ユニット１００Ａ，１００Ｂを並列配置し、複数枚のマスクＭを収容するマスクストッカ７１と、マスクストッカ７１から所定のマスクＭをマスクステージ１０Ａ，１０Ｂに供給する１台のマスクローダ７０と、を備える。 - 特許庁

In this case, the collation is conducted for one digit each or pluralities of number of digits by using a mask pattern generated by a mask pattern generating means 12 and a sub net mask possessed by each routing entry read by a sub-net mask read section 13 independently of the hierarchy of a communication network.例文帳に追加

その際、上記の照合はマスクパタン生成手段１２で生成されたマスクパタンとサブネットマスク読取り部１３が読取った各ルーティングエントリが持つサブネットマスクとを用いて通信ネットワークの階層とは無関係に１桁、もしくは複数桁毎に行う。 - 特許庁

To provide a mask attachment structure of a disk equipment in which the number of parts can be reduced, structure can be made simple, and the number of assembling processes can be reduced.例文帳に追加

少部品化、単純構造、組立工数を削減することができるディスク機器のマスク装着構造を提供する。 - 特許庁

To control masking of a data signal without increasing the number of external terminals even when a large number of bits are included in a data mask signal.例文帳に追加

データマスク信号のビット数が多い場合にも、外部端子数を増やすことなくデータ信号のマスク制御を実施する - 特許庁

To reduce the scale of hardware of the warning mask circuit by decreasing the number of demultiplexer/multiplexer circuits for a warning multiplex signal and the number of secondary warning mask circuits having been provided in the unit of multiplicity.例文帳に追加

警報多重信号の分離・多重回路の削除、及び、多重単位毎に有していた二次警報マスク回路数を削減し、ハードウェア規模を削減する。 - 特許庁

To provide a phase shift mask that can be manufactured while suppressing increase in the cost or the number of processes, and to provide a method for manufacturing the phase shift mask and a method for manufacturing a semiconductor device that can suppress increase in the cost and the number of processes.例文帳に追加

費用や工程数の増加を抑えつつ製造することが可能な位相シフトマスク、費用や工程数の増加を抑えることが可能な位相シフトマスクの製造方法及び半導体装置の製造方法を提供する。 - 特許庁

The height of selected points on the surface of a mask is measured, and the number of measurement errors in this measurement is obtained, and when the number of measurement errors is less than a predetermined value, an approximated curved surface for the mask surface is generated.例文帳に追加

マスク表面の高さを測定し、この測定で生じた測定エラーの数を求め、測定エラーの数が所定値より少ない場合にはマスク表面の近似曲面を作成する。 - 特許庁

In a polygonal metal mask 5, the aperture arranging directions of aperture groups 1p, 2p, 3p and 4p for a solder printing pattern of which the number corresponds at least to the number of the sides of polygonal shape of the mask are made parallel to the sides of the polygonal shape.例文帳に追加

多角形をしたメタルマスク５において、少なくとも多角形の辺の数に対応した数のはんだ印刷パターン用の開口群１ｐ，２ｐ，３ｐ，４ｐの開口配列方向を、それぞれ多角形の辺に平行にした。 - 特許庁

A controller 6 sets each turned letter, as much as the number of mask digit number, when the telephone number of address book data base 3-1 is displayed, and the telephone number a part of which becomes facedown characters is displayed on a display 4.例文帳に追加

制御部６は、アドレス帳データベース３−１の電話番号を表示する際にマスク桁数だけ伏せ字にし、該一部を伏せ字にした電話番号を表示部４に表示する。 - 特許庁

To provide a mask dry cleaning apparatus and a mask dry cleaning method capable of enhancing the throughput and increasing the number for treatment in a dry cleaning method, and to provide an apparatus for manufacturing mask dry capable of cleaning the mask dry in a short time by providing the mask dry cleaning apparatus adjacent to a vapor deposition apparatus.例文帳に追加

本発明は、ドライ洗浄方法において、スループット向上し処理枚数を増やすことができるマスクドライ洗浄装置または洗浄方法を提供すること、あるいは上記マスクドライ洗浄装置を蒸着装置に隣接して設けることで短時間に洗浄できる稼働率の高い製造装置を提供することである。 - 特許庁

Quality evaluating means 34 expands the size of a reference mask set by reference mask setting means 32, counts a number in a range of the reference mask of indication points of waveform data forming an eye pattern, evaluates quality about a margin to the reference mask of a data signal on the basis of a count value and the magnification of the reference mask, and indicates the evaluation result in a display 40.例文帳に追加

品質評価手段３４は、基準マスク設定手段３２で設定された基準マスクの大きさを拡大させつつ、アイパターンを形成する波形データの表示ポイントのうち基準マスクの領域内に入る数を計数し、その計数値と基準マスクの拡大率とに基づいてデータ信号の基準マスクに対するマージンに関する品質評価を行い、その評価結果を表示器４０に表示させる。 - 特許庁