P- typeの部分一致の例文一覧と使い方
該当件数 : 9428件
The semiconductor layer 17 has a surface layer containing p-type impurities.例文帳に追加
半導体層17は、p型不純物を含有している表層を有する。 - 特許庁
A p-type silicon carbide well region is provided on the n^- silicon carbide layer.例文帳に追加
p型シリコンカーバイドウェル領域が、nシリコンカーバイド層上に設けられる。 - 特許庁
In forming a p^+-type contact region 9, skew ion implantation is executed.例文帳に追加
p^+型コンタクト領域9を形成する際に、斜めイオン注入を行う。 - 特許庁
A silicon oxide film 4 is formed on the surface of a p-type gallium nitride layer 2.例文帳に追加
p型の窒化ガリウム層2の表面に酸化シリコン膜4を形成する。 - 特許庁
CALCIUM CHANNEL, VOLTAGE-DEPENDENT, P/Q TYPE, ALPHA 1a SUBUNIT GENE-MUTANT RAT例文帳に追加
電位依存型P/Qタイプカルシウムチャネルサブユニットアルファ1a遺伝子変異ラット - 特許庁
To provide a semiconductor optical element capable of preventing diffusion of a p-type dopant.例文帳に追加
p型ドーパントの拡散を防止可能な半導体光素子を提供する。 - 特許庁
A semiconductor device 1 has a photodiode 103 on a P type substrate 3.例文帳に追加
半導体装置1は、P型基板3上にフォトダイオード103を備える。 - 特許庁
OHMIC ELECTRODE STRUCTURE OF p-TYPE COMPOUND SEMICONDUCTOR AND ITS FORMATION METHOD例文帳に追加
p型化合物半導体のオーミック電極構造およびその形成方法 - 特許庁
The diffusion prevention layer is used for preventing the diffusion of the p-type dopant.例文帳に追加
拡散防止層は、p型ドーパントの拡散を防止するための層である。 - 特許庁
MANUFACTURE OF SEMICONDUCTOR DEVICE AND MANUFACTURE OF p-TYPE SEMICONDUCTOR ELEMENT例文帳に追加
半導体装置の製造方法及びp形半導体素子の製造方法 - 特許庁
METHOD OF MANUFACTURING P-TYPE NITRIDE SEMICONDUCTOR AND SEMICONDUCTOR APPARATUS例文帳に追加
p型窒化物半導体の製造方法および半導体素子の製造方法 - 特許庁
HIGH WITHSTAND VOLTAGE P-TYPE MOSFET AND POWER CONVERSION APPARATUS USING IT例文帳に追加
高耐圧p型MOSFET及びそれを用いた電力変換装置 - 特許庁
When an input terminal 100 is open, a P type MOS transistor 101 is turned on, an N type MOS transistor 104 is turned off, and an input of the complementary transistor circuit 105 is pulled up.例文帳に追加
入力端子100がオープン状態であるときP型MOSトランジスタ101はON、N型MOSトランジスタ104はOFFになり、相補型トランジスタ回路105の入力をプルアップする。 - 特許庁
Since the p-type impurity element is added through the opening for the cathode, the periphery of the opening is also doped with a slight amount of the p-type impurity element.例文帳に追加
カソード用開口部からp型不純物元素の添加を行うため、この開口部周辺も僅かながらp型不純物元素が添加される。 - 特許庁
This reduces leakage current due to a PNP bipolar transistor of the P-type drain regions of the PMOSs 20_1, 20_2, N-well, and P-type substrate.例文帳に追加
これにより、PMOS20_1,20_2のP型ドレイン領域、N型ウエル、及びP型基板によるPNP型の寄生バイポーラトランジスタによるリーク電流が減少する。 - 特許庁
To provide a method for manufacturing a semiconductor device, having a p-type semiconductor layer in which the activation rate of a p-type impurity element is high, and the specific resistance is low.例文帳に追加
p型不純物元素の活性化率が高く、抵抗率の低いp型半導体層を有した半導体装置の製造方法を提供する。 - 特許庁
A P-channel type MOS transistor Q6 for protection against a backward voltage is connected to the back gates of the P-channel type MOS transistors Q2 and Q4.例文帳に追加
そして、Pチャネル型MOSトランジスタQ2,Q4のバックゲートに接続された逆電圧保護用のPチャネル型MOSトランジスタQ6を設ける。 - 特許庁
To provide a power-on power supply voltage detection circuit that reduces the temperature dependence of a threshold of p-type MOS transistors and variations in the thresholds of the p-type MOS transistors.例文帳に追加
p型MOSトランジスタのしきい値の温度依存性及び、p型MOSトランジスタのしきい値のばらつきを低減するパワーオン電源電位検知回路を提供する。 - 特許庁
A silicide block region is formed on wiring connecting the gates of the P-type MOSFETs 18 on the adjacent stages of the P-type MOSFETs to form a resistance component 32.例文帳に追加
隣接する段のP型MOSFET18のゲート間を接続する配線上にサリサイドブロック領域を形成し、抵抗成分32を形成する。 - 特許庁
Although p-type carrier concentration becomes low by low temperature thermal diffusion, the p-type carrier concentration is raised to 4×10^18cm^-3 or more by the heat treatment.例文帳に追加
低温の熱拡散でp型キャリヤ濃度は低くなるが、熱処理をするのでp型キャリヤ濃度が4×10^18cm^−3以上に上がる。 - 特許庁
A path connecting the p-type body layer 3a and the p-type active layer for body voltage application 6 is arranged in parallel to the crystal orientation <100> of the SOI layer.例文帳に追加
P型ボディ層3aとボディ電圧印加用P型活性層6とを結ぶ経路はSOI層の結晶方位<100>に平行に配置する。 - 特許庁
A second p-type MOSFET 18 is connected between the first p-type MOSFET and the power potential end, and a first control signal is supplied to the gate thereof.例文帳に追加
第2p型MOSFET18は、第1p型MOSFETと電源電位端との間に接続され、ゲートに第1制御信号が供給される。 - 特許庁
According to this structure, when the vertical P-type PNP transistor is put in ON operation, a parasitic current flows, mainly through a zone having the P-type diffusion layer 23 formed therein.例文帳に追加
この構造により、縦型PNPトランジスタがオン動作した際に、P型の拡散層23が形成された領域が、主に、寄生電流の経路となる。 - 特許庁
In the p-type MgZnO-based thin film 1, nitrogen as a p-type impurity, which serves as an acceptor, is contained in a concentration of not less than about 5.0×10^18 cm^-3.例文帳に追加
p型MgZnO薄膜1は、アクセプタとなるp型不純物の窒素が約5.0×10^18cm^−3以上の濃度で含まれている。 - 特許庁
The first source follower circuit 1 comprises a P type MOS transistor M1 for input, and a P type MOS transistor M2 operating as a constant current source.例文帳に追加
第1ソースフォロワ回路1は、入力用のP型のMOSトランジスタM1と、定電流源として動作するP型のMOSトランジスタM2とからなる。 - 特許庁
The p-type thermoelectric conversion members 230A and 230B have strip-like electrodes 231A and 231B, and p-type thermoelectric conversion films 233A and 233B respectively.例文帳に追加
p型熱電変換部材230A、230Bは、帯状の電極部231A、231Bとp型熱電変換膜233A、233Bを有している。 - 特許庁
To discriminate alarm by a smoke sensor connected to a P type receiver from alarm by a sensor of other than smoke connected to the P type receiver.例文帳に追加
P型受信機に接続される煙感知器からの発報と、P型受信機に接続される煙以外の感知器からの発報とを判別する。 - 特許庁
The diaphragm 10 has a high concentration P-type impurity layer formed on a P-type silicon substrate so that a boron concentration of the substrate does not exceed 1E19(atoms/cm3).例文帳に追加
振動板10がP型シリコン基板に形成された高濃度P型不純物層を含み、P型シリコン基板のボロン濃度が1E19(atoms/cm^3)を越えないものとした。 - 特許庁
Thus, a p-n junction in the protective diode 1 is constituted of the side face of the p+ type diffusion region 16 and the n+ type diffusion region 4a.例文帳に追加
このため、保護ダイオード1におけるpn接合は、上記p+型拡散領域16の側面と、上記n+型拡散領域4aとで構成される。 - 特許庁
Furthermore, a silicide layer 5 is formed between the p-type contact layer 4 and an electrode 3 so as to reach a peak position of a concentration profile of the p-type contact layer.例文帳に追加
また、p型コンタクト層4と電極3の間には、p型コンタクト層の濃度プロファイルのピーク位置まで達するシリサイド層5が形成される。 - 特許庁
The second source follower circuit 2 comprises a P type MOS transistor M3 for input, and a P type MOS transistor M4 operating as a constant current source.例文帳に追加
第2ソースフォロワ回路2は、入力用のP型のMOSトランジスタM3と、定電流源として動作するP型のMOSトランジスタM4とからなる。 - 特許庁
The photoelectric conversion portions 24 include an N type layer 20 formed on the deep side of the P well layer 18 and an N type layer 22 formed on the shallow side of the P well layer 18.例文帳に追加
光電変換部24は、Pウェル層18の深い側に形成されたN型層20と、浅い側に形成されたN型層22とを含んでいる。 - 特許庁
A p-type impurity such as boron is injected into the element isolating insulating film 4 so that its impurity concentration is larger than that of the p-type well 2.例文帳に追加
素子分離絶縁膜4にはボロン等のp型不純物が注入されており、その不純物濃度は、p型ウェル2の不純物濃度よりも大きい。 - 特許庁
In the semiconductor integrated circuit device, an N-channel transistor 1, a P-channel transistor 2, and a MOS type varactor element 3 are provided on a P-type substrate PSub.例文帳に追加
半導体集積回路装置において、P型基板PSubの表面にNチャネルトランジスタ1、Pチャネルトランジスタ2及びMOS型バラクタ素子3を設ける。 - 特許庁
After a P+-type or N+-type wafer which are subjected to high density doping is prepared, the surface is subjected to anodic reaction, thereby simply obtaining a thick porous silicon layer.例文帳に追加
高濃度ドーピングされたp^+型またはn^+型ウェーハを用意した後、その表面を陽極反応させることにより簡単に厚い多孔質シリコン層が得られる。 - 特許庁
The drain of the transistor 19 has a double diffusion construction which is composed of a first P-type drain diffusion layer 5d and a second P-type drain diffusion layer 11d.例文帳に追加
トランジスタ19のドレインは第1P型ドレイン拡散層5dと第2P型ドレイン拡散層11dからなる二重拡散構造を備えている。 - 特許庁
The capacitor 40 includes p-type impurity diffusion layers 42, 43, a p-type impurity implantation region 44, a capacitive insulation film 45, and an upper electrode 46.例文帳に追加
キャパシタ40は、P型不純物拡散層42,43、P型不純物注入領域44、容量絶縁膜45、および上部電極46を含んでいる。 - 特許庁
P-type impurity regions 6 are formed in predetermined regions of the N^- semiconductor layers 2 separated apart from the P-type impurity regions 4.例文帳に追加
P型不純物領域4から距離を隔てられたN^-半導体層2の所定の領域では、P型不純物領域6が形成されている。 - 特許庁
A P-type GaN layer 18 of at least 2 nm and at most 100 nm in thickness is formed on the P-type clad layer 16, and a metal film 20 is formed.例文帳に追加
P型クラッド層16上にP型GaN層18を2nm以上100nm以下の厚さで形成して金属膜20を形成する。 - 特許庁
The semiconductor device has a p-n diode 5a composed of a p-type SiGe layer 13 and an n-type Si layer 15 joined with the layer 13.例文帳に追加
p型SiGe層13と、当該p型SiGe層13に接合するn型Si層15とからなるpnダイオード5aを備えたものである。 - 特許庁
Next, P-type impurities 4 are introduced into the surface layer of the substrate 1 through ion implantation using the pattern 3 as a mask to form a P-type region 5.例文帳に追加
次に、パターン3をマスクにしたイオン注入によって基板1の表面層にP型不純物4を導入し、P型領域5を形成する。 - 特許庁
The resistivity of the P type bulk substrate 2 is 1,000 Ωcm, the thickness of the P type epitaxial layer 3 is 5 μm and its resistivity is 10 Ωcm.例文帳に追加
P型バルク基板2の抵抗率を1000Ω・cmとし、P型エピタキシャル層3の厚さを5μmとし、抵抗率を10Ω・cmとする。 - 特許庁
Then, an insulation region 4 is formed around the p-type region so as to be deeper than the p-type region and not to get to the semiconductor substrate.例文帳に追加
そして、p形領域3の周囲にp形領域3より深く、かつ、半導体基板1に達しないように絶縁領域4が形成されている。 - 特許庁
To provide a method for producing an oxide film with an excellent mass productivity, wherein the oxide film shows a high performance as a p-type conductive film and a p-type transparent conductive film.例文帳に追加
p型の導電膜及びp型の透明導電膜としての高性能な酸化物膜の、量産性に優れた製造方法を提供する。 - 特許庁
The concentration of the primary p-type impurity concentration distribution at the pn junction is higher than that of the secondary p-type impurity concentration distribution at the pn junction.例文帳に追加
第1のp型不純物濃度分布のpn接合部での濃度は第2のp型不純物濃度分布のpn接合部での濃度よりも高い。 - 特許庁
After formation of an element isolation region (S2) and a p-type well (S3) in a semiconductor substrate (S3), a gate insulating film is formed on the surface of the p-type well (S4).例文帳に追加
半導体基板に素子分離領域を形成し(S2)、p型ウエルを形成(S3)した後、p型ウエルの表面にゲート絶縁膜を形成する(S4)。 - 特許庁
Then, the former is made into a p-type conversion material, and the latter is made into an n-type conversion material, and they are subjected to p-n junction, so as to compose a thermoelectric element.例文帳に追加
そして前者はp型の変換材料、後者はn型の変換材料となり、これらをp−n接合し、熱電変換素子が構成される。 - 特許庁
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