| 意味 | 例文 |
PROTECTIVE MASKの部分一致の例文一覧と使い方
該当件数 : 267件
MASK SUBSTRATE, PATTERN PROTECTIVE MATERIAL, MASK PROTECTIVE DEVICE AND MASK AS WELL AS EXPOSURE DEVICE AND METHOD FOR MANUFACTURING DEVICE例文帳に追加
マスク基板、パターン保護材、マスク保護装置及びマスク、並びに露光装置及びデバイス製造方法 - 特許庁
MANUFACTURING METHOD OF SHADOW MASK PLATE AND PROTECTIVE FILM FOR SHADOW MASK PLATE例文帳に追加
シャドウマスク板の製造方法及びシャドウマスク板用保護フィルム - 特許庁
METHOD FOR PHOTOMASK PLASMA ETCHING USING PROTECTIVE MASK例文帳に追加
保護マスクを使用したホトマスクプラズマエッチング方法 - 特許庁
To prevent protective clothing from coming off the periphery of a see-through lens in a protective mask when the protective mask and the protective clothing are put on in combination.例文帳に追加
防護マスクと防護衣とを併せて着用したときに防護マスクにおける透視レンズの周囲から防護衣が外れることを防止する。 - 特許庁
MASK BLANK, PROTECTIVE FILM USED THEREFOR, AND PATTERN FORMING METHOD FOR MASK BLANK例文帳に追加
マスクブランク、並びにこれに用いる保護膜とマスクブランクのパターン形成方法 - 特許庁
After a mask protective member 2 is set on a mask protective member loading jig 1 and when a mask member 3 is moved downward to the vicinity of the mask protective member 2 in this state while the pattern face 31 of the mask member 3 is faced downward, air pressure 4 is added to the thin film 22.例文帳に追加
マスク保護部材装着治具1にマスク保護部材2をセットした状態で、その上方からパターン面31を下に向けてマスク部材3を接近させると、空気圧4が薄膜22に加わる。 - 特許庁
This protective mask 1 is constituted of a mask main body 2 and a suction member 3.例文帳に追加
保護面1は面本体2及び吸引部材3より構成されている。 - 特許庁
To prevent a thin film from bulging when a mask protective member is attached to a mask member.例文帳に追加
マスク保護部材をマスク部材に装着するときの薄膜の膨らみを防止する。 - 特許庁
IONIZING RADIATION CURING PROTECTIVE LIQUID FOR EMULSION MASK AND EMULSION MASK USING THE SAME例文帳に追加
エマルジョンマスク用電離放射線硬化型保護液およびそれを用いたエマルジョンマスク - 特許庁
The mask layer 5 is left as a protective layer even after finishing the patterning.例文帳に追加
パターニング終了後もマスク層5は保護層として残す。 - 特許庁
A protective layer and a resist mask 13 are layered on a magnetic layer 12, a protective layer pattern 14P is obtained by using the resist mask 13 as a mask and then the resist mask 13 is decomposed and removed by exposing the resist mask 13 to hydrogen plasma PLH.例文帳に追加
磁性層12に保護層とレジストマスク13を積層し、レジストマスク13をマスクにして保護層パターン14Pを得た後に、レジストマスク13を水素プラズマPLHに晒して分解除去させた。 - 特許庁
PROTECTIVE APPARATUS, MASK, MASK FORMING APPARATUS, MASK FORMING METHOD, EXPOSURE APPARATUS, DEVICE FABRICATING METHOD, AND FOREIGN MATTER DETECTION APPARATUS例文帳に追加
保護装置、マスク、マスク形成装置、マスク形成方法、露光装置、デバイス製造方法、及び異物検出装置 - 特許庁
COVER FOR REPLACEABLE DUST PROTECTIVE MASK OR RESPIRATORY PROTECTIVE DEVICE WITH ELECTRIC FAN HAVING FACE PIECE例文帳に追加
取替え式防じんマスク又は面体を有する電動ファン付き呼吸用保護具のカバー - 特許庁
To provide a mask for exposure with a strong image and a protective liquid for the mask for exposure.例文帳に追加
強固な画像を有する露光用マスク、および露光用マスク保護液を提供する。 - 特許庁
mask that provides a protective covering for the face in such sports as baseball or football or hockey 例文帳に追加
野球・フットボール・ホッケーなどのスポーツの顔用の保護マスク - 日本語WordNet
To provide a protective liquid for emulsion mask capable of forming a protective film in a short time and achieving superior adhesion and surface hardness of an emulsion mask on which the protective film is formed, and to provide the emulsion mask using the same.例文帳に追加
保護膜を短時間で形成することができ、保護膜を形成したエマルジョンマスクの接着性と表面硬度に優れるエマルジョンマスク用保護液およびそれを用いたエマルジョンマスクを提供する。 - 特許庁
PROTECTIVE MEMBER FOR ELECTRON BEAM TRANSFER MASK AND ELECTRON BEAM PROJECTION ALIGNER例文帳に追加
電子線転写マスク用保護部材及び電子線投影露光装置 - 特許庁
To provide a face shield for an air supply mask used in the air supply mask having a protective hat.例文帳に追加
保護帽を有する送気マスクに使用する送気マスク用フェイスシールドを提供することを目的とする。 - 特許庁
A protective film is formed by etching the insulator film using the first resist mask and the second resist mask (S7).例文帳に追加
第一レジストマスク及び第二レジストマスクを用いたエッチングにより絶縁膜から保護膜を形成(S7)する。 - 特許庁
ALIGNER, MASK APPARATUS, PATTERN PROTECTIVE APPARATUS, AND METHOD OF MANUFACTURING DEVICE例文帳に追加
露光装置、マスク装置及びパターン保護装置、並びにデバイス製造方法 - 特許庁
This protective mask is provided with the mask face body 8 and a filter material case 4 installed on the mask face body 8, and an expiration valve 5 is arranged in the filter material case 4.例文帳に追加
マスク面体8と、マスク面体8に装着された濾過材ケース4とを備え、濾過材ケース4に排気弁5が設けられる。 - 特許庁
The protective mask comprises a mask face piece and a water- conveyance device B passing through the face mouth portion 8 of the mask face piece in an airtight state and in a rotatable way.例文帳に追加
マスク面体と、マスク面体の面口部8を気密状態で、且つ、回動自在に貫通する導水装置Bとから成る。 - 特許庁
When the viscosity of the organic protective film is low, on the other hand, a mask is placed in advance over the mold and while the mold and the mask are left on the organic protective film as they are, the organic protective film is exposed to be cured.例文帳に追加
有機保護膜の粘度が低い場合は予めモールドの上にマスクを重ねておき、モールドとマスクとを有機保護膜の上に置いたままで有機保護膜を露光して硬化させる。 - 特許庁
A mask is formed on the insulating protective film, and the insulating protective film is selectively removed using this mask so that part of the lower layer metal film may be exposed.例文帳に追加
その絶縁性保護膜上にマスクを形成し、このマスクを用いて絶縁性保護膜を選択的に除去して下層金属膜の一部を露出させる。 - 特許庁
A protective mask 3 is formed over the whole lower thin film pattern 2 on the surface of a board 1, and then the protective mask 3 is subjected to a thermal treatment.例文帳に追加
基板1の表面において、下層側薄膜パターン2全体を覆う保護用マスク3を形成した後、この保護用マスク3に熱処理を行う。 - 特許庁
In the exposure mask, the protective film 15 is formed on the surface of a photosensitive material 20 side in the mask body 10, and the protective film is provided with a light diffusing function.例文帳に追加
露光用のマスクにおけるマスク本体10の感光剤20側の面に保護フィルム15を設け、該保護フィルムに光拡散機能を持たせた。 - 特許庁
The protective mask includes a hollow cylindrical protective mask member which is selected in relation to the diameter of the cylinder bore with the inside diameter thereof heat-coated.例文帳に追加
保護マスク装置は、内径を熱コーティングするシリンダボアの直径に関連して選択した、本質的に中空円筒形の保護マスク部材を含む。 - 特許庁
As for the mask, the etching removal of the eaves 113 of the curvature adjustment layer is selectively carried out considering the protective layer as a mask.例文帳に追加
マスクは、反り調整層のひさし113は保護層をマスクとして選択的にエッチング除去されている。 - 特許庁
STENCIL MASK AND PROTECTION METHOD THEREOF, PROTECTIVE SHEET, AND CHARGED PARTICLE BEAM PROJECTION EXPOSURE SYSTEM例文帳に追加
ステンシルマスク及びその保護方法、保護シート、並びに荷電粒子線露光装置 - 特許庁
Thereby, when the mask protective member 2 is attached to the mask member 3, the thin film 22 hardly bulges downward.例文帳に追加
このため、マスク保護部材2がマスク部材3に装着されるときに、薄膜22は下方にほとんど膨らむことがない。 - 特許庁
The protective layer 3 and the organic semiconductor layer 2 are then patterned using the mask layer 5 as a mask thus obtaining an organic semiconductor pattern 7.例文帳に追加
マスク層5をマスクとして、保護層3と有機半導体層2をパターニングして、有機半導体パターン7を得る。 - 特許庁
The resin layer 9 for the mask is removed, thereby removing the protective film 6 formed on the resin layer 9 for the mask.例文帳に追加
マスク用樹脂層9を除去することにより、マスク用樹脂層9上に形成された保護膜6を除去する。 - 特許庁
The protective layer 3 and the organic semiconductor layer 2 are patterned with the mask layer 5 as a mask to obtain the organic semiconductor pattern 7.例文帳に追加
マスク層5をマスクとして、保護層3と有機半導体層2をパターニングして、有機半導体パターン7を得る。 - 特許庁
A protective film 5 is then disposed on the resist film 3 to form the objective mask blank.例文帳に追加
次に、化学増幅レジスト膜3に保護膜5を設けてマスクブランクを形成する。 - 特許庁
The protective equipment 1 is equipped with a mask-side air hose 10 to be connected to a protective mask 200 and a supply-side air hose 100 to be connected to the air supply source.例文帳に追加
本発明の防護装備1は、防護マスク200に接続されるマスク側エアーホース10と、エアー供給源に接続される供給側エアーホース100とを備えている。 - 特許庁
A hard mask pattern is formed on the protective film, and a first trench 225a is formed by etching one portion of the protective film and one portion of the insulation film by a first etching process with the hard mask pattern 224 as a mask.例文帳に追加
ハードマスクパターンを前記保護膜上に形成し、ハードマスクパターン224をマスクとした第1エッチング工程によって前記保護膜の一部および前記絶縁膜の一部をエッチングして第1トレンチ225aを形成する。 - 特許庁
| 意味 | 例文 |
|
ログイン |
Weblio会員(無料)になると
|
|
ログイン |
Weblio会員(無料)になると
|
