「PROTECTIVE MASK」に関連した英語例文の一覧と使い方(2ページ目) - Weblio英語例文検索

Meanwhile, the far-infrared mask 10 can protect the skin from damage caused by ultraviolet rays because the mask has the ultraviolet protective function.例文帳に追加

一方、本発明による遠赤外線マスク１０は、紫外線防御機能を有するため、紫外線ダメージから皮膚を守ることができる。 - 特許庁

A detachable frame 15 along with a protective film 16 is provided to the mask stage 14.例文帳に追加

マスクステージ１４では、着脱可能なフレーム１５が保護膜１６を伴って配備されている。 - 特許庁

A face body 11 of this protective mask 1 is provided with a water-conveying tube 20 penetrating through its inside/outside.例文帳に追加

防護マスク１の面体１１に、その内外を貫通する導水管２０が設けられる。 - 特許庁

A conductive terminal 10 is formed by screen printing while using the protective film 9 as a solder mask.例文帳に追加

そして、保護膜９をソルダーマスクとして、スクリーン印刷により、導電端子１０を形成する。 - 特許庁

With the protective film 9 as a solder mask, a conductive terminal 10 is formed by screen printing.例文帳に追加

そして、保護膜９をソルダーマスクとして、スクリーン印刷により、導電端子１０を形成する。 - 特許庁

To provide a light weight and small protective mask for welding capable of improving suction efficiency.例文帳に追加

吸引効率がよいと共に、軽量化及び小型化が図れる溶接用保護面を提供する。 - 特許庁

To provide a protective mask in which no special tool or the like is required to attach an eyepiece to a mask face piece, and maintenance and assembling are simple.例文帳に追加

マスク面体にアイピースを取り付けるのに特殊な工具等を必要とせず、保守整備及び組立が簡単な防護マスクを提供すること。 - 特許庁

In the magnetic recording medium including a protective layer having a plurality of projecting parts on the surface thereof, the projecting parts are formed by performing dry etching after an etching mask having a mask underlayer and a mask pattern layer having an island-shaped structure is formed on the protective layer.例文帳に追加

表面に複数の凸部を有する保護層を含む磁気記録媒体であって、凸部は、保護層上に、マスク下地層及び島状構造をもつマスクパターン層を有するエッチングマスクを形成した後、ドライエッチングを行うことにより形成されている。 - 特許庁

In the simulation, at first a part of the insulating film is etched by employing the conversion mask of a mask for forming an activating region or a pseudo mask formed, based on the inverse mask, and then the insulating film is ground so as to expose the protective film.例文帳に追加

シミュレーションでは、まず、活性化領域形成用マスクの反転マスクまたはその反転マスクを基に形成された擬似マスクを用いて絶縁膜の一部がエッチングされ、さらに保護膜を露出するように絶縁膜が研磨される。 - 特許庁

Finally, the barrier metallic layer 14 is dry-etched by using the protective film 24 as a mask.例文帳に追加

最後に、金属配線層保護膜をマスクとしてバリア金属層をドライエッチングすることにより解決する。 - 特許庁

A protective member (5) is placed in contact with the upper surface (UB) of the photonic device, to mask the upper surface.例文帳に追加

保護部材(5)がフォトニックデバイスの上側表面(UB)に接触して配置され、上側表面をマスクする。 - 特許庁

On the protective layer 3, a photoresist layer 4 is formed by coating, and is patterned to form a mask layer 5.例文帳に追加

その上にフォトレジスト層４を塗布によって形成し、これをパターニングしてマスク層５を形成する。 - 特許庁

Then the eaves 7b along the periphery of the protective film 7 is removed by etching by using the resist film 12 as a mask.例文帳に追加

次に、レジスト膜１２をマスクとして保護膜７の周辺部のひさし７ｂをエッチングして除去する。 - 特許庁

After the resist mask 24 is formed, a part of the etching protective film 23 is etched by an RIE device, and the resist mask 24 for regulating an unnecessary groove area.例文帳に追加

レジストマスク２４の形成後、ＲＩＥ装置によりエッチング保護膜２３の一部をエッチング加工した後、不要な溝領域規定用レジストマスク２４を除去する。 - 特許庁

This processor transfers the mask between a mask supplying section held at atmospheric pressure and a decompressed or vacuum processing chamber, and has a transfer means which sucks and holds the protective mechanism 100 for protecting a pattern surface PT in a non-contact manner, and transfers the mask MK held by the protective system between the mask supplier and the processing chamber.例文帳に追加

大気圧に維持されたマスク供給部と減圧または真空の処理チャンバとの間でマスクを搬送する処理装置であって、パターン面ＰＴを非接触に保護する保護機構１００を吸着し、保護機構に保持されたマスクＭＫをマスク供給部と処理チャンバとの間で搬送する搬送手段とを有する。 - 特許庁

To provide a protective mask for respiration appropriately notifying a worker himself an exchange time of an absorbing can for the protective mask for the respiration without using a breakthrough curve estimating the breakthrough time of the absorbing can.例文帳に追加

吸収缶の破過時期を推定する破過曲線図を用いずに、作業者自身に呼吸用保護マスクの吸収缶の交換時期を的確に報知することができる呼吸用保護マスクを提供する。 - 特許庁

Through second dry etching using the insulating layer 51 and protective film 52 as a mask, a second sidewall 22 is formed.例文帳に追加

絶縁層５１および保護膜５２をマスクとした２回目のドライエッチングにより、第２の側壁２２を形成する。 - 特許庁

This protector H1 has a flat protective plate portion 1 curved as if to follow the shape of the face mask grill 5.例文帳に追加

保護具Ｈ１は、面金５の外形状に沿うよう湾曲した板状の保護板部１を有している。 - 特許庁

The protective mask 1 is provided with cups 3 for intake air to/from which a filter 4 is attachable and detachable on both sides of a surface body 2.例文帳に追加

防護マスク１が、面体２の両側に、フィルタ４を着脱可能な吸気用カップ３を有する。 - 特許庁

To provide a protective cover for an eyepiece of a breathing protection mask excellent in exchange easiness, handling easiness and economical efficiency.例文帳に追加

交換容易性、取り扱い容易性、経済性に優れた呼吸保護マスクのアイピース用保護カバーを提供する。 - 特許庁

The exposed portion of the conductive layer 200 is removed by etching using the protective ink 300 as a mask.例文帳に追加

保護インク３００をマスクとして用い、エッチングにより露出している導電層２００の一部を除去する。 - 特許庁

PROTECTIVE MASK FITTED TO ENGINE BLOCK WHILE HEAT-COATING CYLINDER BORE, AND HEAT COATING METHOD USING THE SAME例文帳に追加

シリンダボアを熱コーティングする間エンジンブロックに取り付ける保護マスク装置およびこれを用いた熱コーティング方法 - 特許庁

The protective film is formed particularly by sputtering an intermediate mask layer 12a when the amorphous-carbon film is worked.例文帳に追加

特に、この保護膜を、アモルファスカーボン膜を加工する際の中間マスク層１２ａをスパッタリングすることで形成する。 - 特許庁

The protective mask member includes a tubular outer sleeve and an insertion member to the outer sleeve.例文帳に追加

保護マスク部材は、本質的に管形状のアウタースリーブおよびアウタースリーブに挿入された挿入部材を含む。 - 特許庁

The mask blanks for electron beam lithography are manufactured as intermediate products by forming a protective coat 14 and a hard mask 15 on the front and back sides of the SOI substrate 10 (Fig. 1 (A)), respectively (process for simultaneously forming a protective film and a hard mask in Fig. 1 (B)), followed by subjecting the silicon base layer 13 and a BOX layer 12 to etching.例文帳に追加

ＳＯＩ基板１０（図１（Ａ））の表裏面に保護膜１４およびハードマスク１５を形成した後（保護膜・ハードマスク同時形成工程 図１（Ｂ））、シリコンベース層１３およびＢＯＸ層１２をエッチングして、中間製品としての電子ビーム描画用マスクブランクスを製造する。 - 特許庁

In the manufacture of such a semiconductor device, a window is formed in the column of the protective material by patterning the window with a photoetching method, using a mask material and removing the protective material by etching.例文帳に追加

すなわち、保護材料の柱部分の窓をあける時に、マスク材料を用いて、窓を写真食刻法でパターニングし、保護材料をエッチング除去して行う。 - 特許庁

The end surface 11D of the protective film 11C is formed by anisotropic etching using the substrate for sealing 21 as a mask after forming the protective film 11C on a substrate for driving 11.例文帳に追加

保護膜１１Ｃの端面１１Ｄは、保護膜１１Ｃを駆動用基板１１に形成した後、封止用基板２１をマスクとした異方性エッチングによって形成する。 - 特許庁

After this etching protective film 23 is formed, a resist mask 24 for regulating a groove area is formed on the surface of the etching protective film 23 outside the area on which two V-shaped grooves are formed.例文帳に追加

このエッチング保護膜２３の形成後、２つのＶ型の溝を形成する領域外のエッチング保護膜２３の表面に溝領域規定用レジストマスク２４を形成する。 - 特許庁

To provide a protective tool for respiration by which there exists no unpleasant feeling such as being sticky during use of it and tight feeling being inevitable to a wet mask type protective tool for respiration can be solved.例文帳に追加

使用時のべた付きなどの不快感がなく、しかも濡れマスク型の呼吸用保護具に避けられない窮屈感を解消できる呼吸用保護具を提供する。 - 特許庁

To irradiate a region wider than a mask surface with detection light to measure a surface position of the region even when a protective member is arranged on the mask surface through a support member.例文帳に追加

マスク面に支持部材を介して保護部材が設けられている場合でも、マスク面のより広い領域に検出光を照射して、その領域の面位置を計測する。 - 特許庁

Then, an upper aluminum thin film 4 is formed on the protective mask 3, and then a patterning mask 5 is formed on the surface of the upper aluminum thin film 4.例文帳に追加

次に、保護用マスク３の上層側に対してアルミニウム膜からなる上層側薄膜４を形成した後、上層側薄膜４の表面にパターニング用マスク５を形成する。 - 特許庁

Furthermore, after the printing mask is pasted to an engraving objective surface and then the second protective film 41 is peeled off, the engraving objective surface is sand-blasted according to the secondary image of the printing mask.例文帳に追加

更に、プリントマスクを刻印対象面に貼り付けて第２の保護フィルム４１を剥がした後、プリントマスクの二次画像に従って刻印対象面をサンドブラストする。 - 特許庁

To provide a protective mask capable of exhibiting the sufficient function regardless of the size of a face of a wearer by enhancing a degree of freedom of the size of a mask face body.例文帳に追加

マスク面体のサイズの自由度を高くし、着用者の顔面の大きさに関係なく十分な機能を発揮することができる防護マスクを提供すること。 - 特許庁

In a pressing process, the entire area of the protective sheet 22 is pressed in the application direction via a mask sheet 28 by a roller 37 rotating and traveling on the mask sheet 30.例文帳に追加

加圧工程では、マスクシート３０上を回転しながら移動するローラ３７により、マスクシート２８を介して保護シート２２の全域を貼り付け方向に加圧する。 - 特許庁

The first annular portion 41 is inserted into a groove 33 formed between the frame member 23 and the mask body 21 in the protective mask 2 in an elastically extended condition.例文帳に追加

第１環状部分４１は、防護マスク２において枠部材２３と面体２１との間に形成される溝３３へ弾性的に伸長した状態で挿入される。 - 特許庁

The substrate 10 is etched and the protective film 30 is formed on a sidewall of the etching mask 20 thereby, and therefore erosion of the sidewall of the etching mask 20 is prevented.例文帳に追加

これにより、基板１０をエッチングすると共にエッチングマスク２０の側壁に保護膜３０が形成されるので、エッチングマスク２０の側壁の侵食が阻止される。 - 特許庁

A pattern is formed for a reflective film layer 101, a protective film layer 102, and a mask layer 103 by using a patterned resist layer 104 as a mask, and then the resist layer 104 and the mask layer 103 for masking are removed.例文帳に追加

パターン形成したレジスト層１０４をマスクとして、反射膜層１０１、保護膜層１０２、マスク層１０３に対してパターンを形成し、その後、レジスト層１０４、マスク加工用マスク層１０３を剥離する。 - 特許庁

A middle protective film 24A is formed between a continuous recording layer and a first mask layer 34, and the first mask layer 34 is removed while the middle protective film 24A is left on a divided recording element 20 after the continuous recording layer is divided.例文帳に追加

連続記録層と第１のマスク層３４との間に中間保護膜２４Ａを形成し、連続記録層の分割後、分割記録要素２０上の中間保護膜２４Ａを残しつつ第１のマスク層３４を除去するようにした。 - 特許庁

A reflex mask has a mask blank 20 comprising an underlying board 21 and a multilayer film 22 that includes a plurality of kinds of materials differing in reflective indices on exposure wavelengths formed on the substrate board 21, a mask pattern formed on the mask blank 20, and a protective film resistant to medical fluid cleaning which coats at least one surface of the mask blank 20 or mask pattern.例文帳に追加

下地基板２１及び該下地基板２１上に形成された露光波長での屈折率が異なる複数種類の材質から成る多層膜２２を備えるマスクブランクス２０と、該マスクブランクス２０上に形成されたマスクパターンと、前記マスクブランクス２０又はマスクパターンの少なくとも１面をコーティングする耐薬液洗浄保護膜とを有する。 - 特許庁

The resist liquid-protective structure 10 is comprised of a liquid-protective member 30, a rotary motor 22 and the like, and a transparent substrate of the mask M covers the opening 31a of the liquid-protective member 30 and seals the opening 31a so that a liquid does not infiltrate into the liquid-protective member 30.例文帳に追加

レジスト防液構造体１０は、防液部材３０、回転モータ２２等から構成され、防液部材３０内に液体が浸入しないように、マスクＭの透明基板が防液部材３０の開口３１ａを覆い開口３１ａを密封する。 - 特許庁

The second mask is formed by arranging a second protective film 25 over the entire base material 21, and then removing the positive resist film 22.例文帳に追加

また全体に第２の保護膜２５を配置してポジ型レジスト膜２２の除去により第２のマスクを作製する。 - 特許庁

A protective film of chromium is deposited on the surface of a glass substrate 1 and is patterned with circular openings 2 by which an opening mask 3 is formed.例文帳に追加

ガラス基板１の表面にクロムの保護被膜を成膜し、円形の開口２をパターニングして開口マスク３とする。 - 特許庁

The adhesive layer of a mask is protected with a protective film having a releasing layer treated with gaseous fluorine on one face or both faces.例文帳に追加

フッ素ガス処理した離型層を片面もしくは両面に有する保護フィルムでマスク粘着剤層を保護する。 - 特許庁

The silicon pattern 51 is etched using resist 8a as a mask and the protective film 7a on the electrodes 4b as a stop layer.例文帳に追加

レジスト８ａをマスクとして、また電極４ｂ上の保護膜７ａをストップ層としてシリコン型５１がエッチングされる。 - 特許庁

To provide a simple means which prevents slurry fine droplets from adhering to an exhaust valve or a voice transmission device of a replaceable dust protective mask or respiratory protective device with an electric fan having a face piece.例文帳に追加

取替え式防じんマスク又は面体を有する電動ファン付き呼吸用保護具の排気弁や伝声器にスラリー微細飛沫が付着するのを防止する簡便な手段を提供する。 - 特許庁