「PROTECTIVE MASK」に関連した英語例文の一覧と使い方(4ページ目) - Weblio英語例文検索

A mask member 2, a low-pass filter 3, an image sensing element protective member 5, an image sensing element 6, a holding member 8 and a flexible printed circuit board 7 are built in a CCD holder 1.例文帳に追加

ＣＣＤホルダ１には、マスク部材２、ローパスフィルタ３、撮像素子保護部材５、撮像素子６、保持部材８およびフレキシブルプリント基板７が組み込まれている。 - 特許庁

A mask member 2, a low-pass filter 3, an image sensing element protective member 5, the image sensing element 6, a holding member 8 and a flexible printed circuit board 7 are built in a CCD holder 1.例文帳に追加

ＣＣＤホルダ１には、マスク部材２、ローパスフィルタ３、撮像素子保護部材５、撮像素子６、保持部材８およびフレキシブルプリント基板７が組み込まれている。 - 特許庁

Thus, at forming a feeder conductive film 29 on the protective mask 28, no disconnection occurs at the step 22, resulting in no disconnection of an upper layer wiring 32.例文帳に追加

こうして、保護マスク２８上に給電用導電性膜２９を形成する際に段差２２で断線することはなく、上層配線３２が断線しないようにする。 - 特許庁

The second conductor film 32 is etched while the remained protective film 51 is used as an etching mask, and the second conductor film 32 on the upper surface of the first gate electrode G1 is removed.例文帳に追加

続いて、残った保護膜５１をエッチングマスクとして第２導体膜３２にエッチングを施し、第１ゲート電極Ｇ１上面上の第２導体膜３２を除去する。 - 特許庁

The capacitive film 4 and the protective film 6 are etched using the interlayer insulating film 7 as a mask, so that openings 9, 12 for contact with the lower electrode 3 and the upper electrode 5 are formed, respectively, on the capacitive film 4 and the protective film 6.例文帳に追加

そして、層間絶縁膜７をマスクとして、容量膜４および保護膜６がエッチングされることにより、容量膜４および保護膜６にそれぞれ下部電極３および上部電極５とのコンタクトのための開口９，１２が形成される。 - 特許庁

To improve the printing resistance and paste omission of a screen printing mask by coating the surface of a photosensitive emulsion and plain gauze formed with a pattern in the screen printing mask, with a protective film excelling in corrosion resistance and lubricating ability.例文帳に追加

本発明は、スクリーン印刷用マスクにおいてパターン形成された感光性乳剤と紗の表面を耐摩耗性、耐食性、潤滑性に優れた保護膜で被覆し、スクリーン印刷用マスクの耐印刷性とペースト抜けの改善を行おうとするものである。 - 特許庁

An exposure reflection-type mask blank or a reflection-type mask is equipped with a multilayered reflection film formed on a board to reflect light and an absorbing film formed on the multilayered reflection film to absorb light, and a protective layer is provided on the side of the multilayered reflection film.例文帳に追加

基板上に光を反射する多層反射膜を有し、多層反射膜上に光を吸収する吸収膜を有する露光用反射型マスクブランク又は反射型マスクにおいて、多層反射膜の側面に、保護層を設けた。 - 特許庁

To provide a transparent protective disc for eye safety glass and a gas mask protecting a dangerous glass piece from jumping into an eye even when a glass sheet breaks, being lightweight, and keeping a good visual range and the eye safety glass and the gas mask using the lens.例文帳に追加

ガラス板が割れた場合にも危険なガラス片が目に飛び込むことを防止し、軽量化が図られ、更には、視界良好性を保つ保護めがね及び防毒マスク用透明保護板並びにこのレンズを使用した保護めがね及び防毒マスクの提供。 - 特許庁

This face shield for an air supply mask having a protective hat 1 is obtained by installing an air supply passage 7 on the lateral face of the protective hat 1 of the face shield for the air supply mask, further providing an air intake 8 for the air supply passage 7 at the back of a wearer and arranging air blowoff ports for the air supply passage 7 in both sides of a face of the wearer.例文帳に追加

保護帽を有する送気マスク用フェイスシールドであって、該送気マスク用フェイスシールドの保護帽の側面に送気路を設け、該送気路の空気取り入れ口を着用者の背後に設けると共に該送気路の吹き出し口を着用者の顔の両側面に設置したことを特徴とする送気マスク用フェイスシールドである。 - 特許庁

The mask sheet has: a light-shielding part for the protective film, which is formed in a position superposed on an installation position of the channel protective film; and a light-shielding part for the terminal, which is formed at a position superposed on an installation position of the input terminal, wherein an area outside of the light-shielding parts has translucency.例文帳に追加

マスクシートは、チャネル保護膜の設置位置に重ねられる位置に形成された保護膜用遮光部と、入力端子の設置位置に重ねられる位置に形成された端子用遮光部とを有し、前記遮光部以外の領域は透光性を有している。 - 特許庁

This protective mask for the respiration is provided with a protective face body detachably attached with the absorbing can which incorporates an absorbent material absorbing hydrogen sulfide gas to its one side and an opening part in the other side, and a semiconductor odor sensor connected to the protective face body; and is so constituted as to notify the exchange time of the absorbing can by the semiconductor odor sensor.例文帳に追加

硫化水素ガスを吸収する吸収材を内臓した吸収缶を一側に着脱自在に取り付け、他側に開口部を有する保護面体と、該保護面体に連結した半導体ニオイセンサーとを具備し、前記半導体ニオイセンサーにより前記吸収缶の交換時期を報知するように構成した呼吸用保護マスク。 - 特許庁

The method of manufacturing the electrooptical device includes the steps of: forming the conductive layer (9) of the light-reflective conductive material; forming a protective film (19) on the conductive layer; forming resist (60) on the protective film and performing patterning of the resist; and etching the protective film and conductive layer using the patterned resist as a mask.例文帳に追加

電気光学装置の製造方法は、光反射性を有する導電性材料から導電層（９）を形成する工程と、導電層上に保護膜（１９）を形成する工程と、保護膜上にレジスト（６０）を形成し、当該レジストをパターニングする工程と、パターニングされたレジストをマスクとして、保護膜及び導電層に対してエッチングを施す工程とを備える。 - 特許庁

A single-crystal sapphire substrate formed with projections/depressions having etch pits is manufactured by wet-etching with a hot phosphoric acid or the like by use of a protective film which is mainly composed of SiO_2 as a mask.例文帳に追加

ＳｉＯ_２を主成分とする保護膜をマスクとして、熱リン酸等でウェットエッチングすることにより、エッチピットを有する凹凸を備えた単結晶サファイア基板を作製する。 - 特許庁

To provide a light-emitting display device and a manufacturing method of the same, capable of easily removing the protective layer, formed on a pad part without utilizing separately prepared mask.例文帳に追加

別途のマスクを利用しないでパッド部上に形成された保護層を容易くとり除くことができる発光表示装置及び発光表示装置の製造方法を提供する。 - 特許庁

A resin film 7a functioning as the protective layer of the silicon nitride 4 is formed on the top face side of the precursor 20 and a mask member (resin film 7b) for an ink channel 13 is formed on the rear side.例文帳に追加

前駆体２０の上面側に、窒化シリコン４の保護層として機能する樹脂膜７ａを形成し、裏面側にインク流路１３用のマスク部材（樹脂膜７ｂ）を形成する。 - 特許庁

The drawn photosensitive resin letterpress printing original plate has at least a photosensitive resin layer (A), a drawn thermosensitive mask layer (B') and a protective layer (C), layered in this order on a support.例文帳に追加

支持体上に、少なくとも感光性樹脂層（Ａ）、描画された感熱マスク層（Ｂ’）、保護層（Ｃ）をこの順に有することを特徴とする描画済感光性樹脂凸版原版。 - 特許庁

To provide a visor and a protective case for portable telephones which prevent the difficulty in seeing a display screen due to incidence of outside lights or mask the screen from other persons.例文帳に追加

外光の入射による表示画面の見づらさを防止できたり、表示画面を他人の目から隠してしまうことのできる携帯電話用バイザー及び携帯電話用保護ケースを得る。 - 特許庁

To provide a method and system for exposure by which the quantity of a light absorbing substance in a space formed of the protective member of a mask can be reduced, and to provide a method of manufacturing device.例文帳に追加

マスクにおける保護部材により形成される空間内の吸光物質を低減することができる露光方法及び露光装置並びにデバイスの製造方法を提供する。 - 特許庁

The flow of gas does not change in the vicinity of a contact point where the frame 142 is brought into contact with the substrate 11, and the thickness of the protective film does not become uneven in the vicinity of the mask 140.例文帳に追加

枠部１４２と基板１１との接点近傍でガスの流れが変わってしまうことがなく、マスク１４０近傍で保護膜の厚みが不均一になってしまうことがなくなる。 - 特許庁

When the rotary motor 22 rotates, a stage part 21 rotates together with the liquid-protective member 30, and an object W to be irradiated rotates which is placed on the stage 21 and comprised of the mask M and the resist R.例文帳に追加

回転モータ２２が回転すると、ステージ部２１は防液部材３０と共に回転し、ステージ２１上に載置されたマスクＭとレジストＲからなる被照射物Ｗが回転する。 - 特許庁

To provide a protective mask preventing infection by droplet infection or airborne infection by exhibiting high adhesiveness and smoothly carrying out exhalation and inhalation while exhibiting excellent fitness.例文帳に追加

高い密着性を発揮して飛沫感染や空気感染による感染を防ぎ、優れたフィット性を発揮しながらスムーズに呼気と吸気とを行なうことができる防護マスクを提供する。 - 特許庁

In second patterning to form the channel protective films 22, resist patterns are formed only by the rear surface exposure using the patterns of the scanning lines 11 and the gate electrodes 13 as a mask.例文帳に追加

チャネル保護膜２２を作成するための第２のパターニングにおいては、走査線１１及びゲート電極１３のパターンをマスクとする裏面露光のみによりレジストパターンを形成する。 - 特許庁

Thereafter, with the first resist pattern 51 as a mask, by implanting boron ions through the protective insulating film 13 to the semiconductor substrate 11, a first P well 14 is formed.例文帳に追加

その後、第１のレジストパターン５１をマスクとして、半導体基板１１に、保護絶縁膜１３を介してホウ素イオンを注入することにより第１のＰウエル１４を形成する。 - 特許庁

It is required a respiratory protective equipment wearer to do a fitting test periodically and confirm the leak rate less than 2% (assigned protection factor 50 or higher) by a mask fitting tester例文帳に追加

装着者がこれらの呼吸用保護具を装着し、定期的にマスクフィッティングテスターにより漏れ率測定で２％未満（防護係数50以上）であることを確認することが必要 - 厚生労働省

The nano imprint device is also used to form a final protective film aperture and a bump electrode mask, thereby reducing the number of the reduction projection aligners so as to reduce the cost price of the semiconductor device.例文帳に追加

また最終保護膜開口やバンプ電極用マスク形成にもナノインプリント装置を使用し縮小投影露光装置の使用台数を減らし半導体装置の原価低減を図る。 - 特許庁

The method for manufacturing the mold used for imprint by dry etching a substrate 10 made of quartz by using a dry etching apparatus includes the mask forming step of forming an etching mask 20 having a concave and convex pattern on the substrate 10, and the etching step of forming a protective film 30 on a side of the etching mask 20 and for etching the substrate 10 at the same time.例文帳に追加

ドライエッチング装置を用いて石英製の基板１０をドライエッチングすることにより、インプリントに用いるモールドの製造方法において、基板１０に凹凸パターンを有したエッチングマスク２０を形成するマスク形成ステップと、エッチングマスク２０の側壁への保護膜３０の形成と基板１０のエッチングとを同時に行うエッチングステップとを含む。 - 特許庁

This method comprises the steps of forming a protective film 54 on a semiconductor substrate 51 having a plurality of lower layer wiring lines 53 thereon, forming an insulating film 55 on the protective film 54, and forming via-holes 56 reaching the lower layer wiring lines 53 in the insulating film 55 by using a resist mask 59.例文帳に追加

複数の下層配線５３が形成された半導体基板５１上に保護膜５４を形成する工程と、保護膜５４の上に絶縁膜５５を形成する工程と、レジストマスク５９を用いて絶縁膜５５に下層配線５３に達するようにビアホール５６を形成する工程とを有する。 - 特許庁

In the ion implantation dp01, the memory gate electrode MG1 and the first protective film pt1 formed on a side wall thereof serve as an ion implantation mask, and the n-type ion implantation region n1 is formed at a distance of the thickness of the first protective film p1 from the memory gate electrode MG1.例文帳に追加

イオン注入ｄｐ０１では、メモリゲート電極ＭＧ１およびその側壁に形成した第１保護膜ｐｔ１がイオン注入マスクとなり、メモリゲート電極ＭＧ１から、第１保護膜ｐｔ１の厚さ分だけ離れた位置に、ｎ型イオン注入領域ｎ１を形成する。 - 特許庁

After the mask 140 is formed on a substrate 140, an electrode region 20 is covered with the frame 142 of the mask 140, and a display region 30 is exposed in an opening part 141, a protective film made of a silicon nitride or the like is formed in the display region by a plasma CVD method.例文帳に追加

基板１１上にマスク１４０を配置し、マスク１４０の枠部１４２で電極パッド領域２０を覆うと共に開口部１４１内に表示領域３０を露出させ、プラズマＣＶＤ法により表示領域３０に窒化ケイ素などよりなる保護膜を形成する。 - 特許庁

To prevent a mask from being slidably moved, to enable the mask to precisely receive the impact force while dispersing the impact force when being hit by the other thing such as a ball, and to improve air permeability by easily and economically remodeling a front wall part of a protective shell.例文帳に追加

保護殻体の前壁部の簡単かつ経済的な改造をもって、マスクのずれ動きを抑制することができるとともに、ボール等の他物が当たったときの衝撃力を分散して確実に受止めることができ、しかも、通気性能の改善も図ることができるようにする。 - 特許庁

The protector 1 for a fighting sport is formed of a face mask portion 2 located on a face side of the wearer, and a head protective pad 3 connected to the face mask portion 2 and extending from the front head portion of the wearer or the vicinity of the same via the head top portion or the vicinity of the same to the rear head portion.例文帳に追加

格闘技用保護具１は、装着者の顔面側に位置するフェースマスク部２と、該フェースマスク部２と接続され、装着者の前頭部あるいはその近傍上から頭頂部上あるいはその近傍上を経由して後頭部にまで延在する頭部保護パッド３とを備える。 - 特許庁

In the method for manufacturing array substrate, a three-mask process in which a slit mask is used and, at the same time, a method of forming a protective film constituted on the upper part of the substrate by means of a printing method is utilized is used and, thereby, an array substrate for a liquid crystal display device is manufactured and the process yield is improved.例文帳に追加

本発明によるアレー基板製造方法は、スリットマスクを用いると同時に、基板の上部に構成する保護膜をプリンティング方式で形成する方法を利用した３マスク工程を用いて、液晶表示装置用アレー基板を製作して工程収率を改善する。 - 特許庁

To provide a Levenson type phase shift mask having no divot (defect) in an opening (opening A) where the phase difference of transmitted light is to be 0°, even when a pinhole is present in a protective film protecting the opening A in the process of engraving the Levenson phase shift mask by etching.例文帳に追加

レベンソン型位相シフトマスクの掘込み部をエッチングによって形成する際に、透過光の位相差を０度とする開口部（開口部Ａ）となる部分を保護する保護膜にピンホールが存在しても、開口部Ａにディボット（欠陥）が形成されないレベンソン型位相シフトマスクを提供すること。 - 特許庁

A filter composed of an etching resistant mask and a protective film to protect the etching resistant mask provided on the reverse side of a silicon substrate is formed at the same time as the etching when the ink supply section is formed in a silicon substrate by anisotropic etching to prevent refuse or foreign matter from intruding into ink discharge openings.例文帳に追加

インク吐出口へのゴミや異物の進入を防止するため、シリコン基板にインク供給部を異方性エッチングによって形成する際に、シリコン基板の裏面に設けた耐エッチングマスクと耐エッチングマスクを保護する保護膜で構成されるフィルターを、該エッチングと同時に形成することを特徴とする。 - 特許庁

To provide a mask which is suited for printing and forming a protective layer for insulating and covering integrated circuit elements, etc., mounted on a printed wiring board and prints and forms a high accuracy printed layer uniform in thickness.例文帳に追加

プリント配線基板上に実装される集積回路素子等を絶縁被覆する保護層を印刷形成する際に用いて好適であり、均一な厚みで高精度の印刷層を印刷形成する。 - 特許庁

The ink drops I1, IR and ink drops for green and blue are adhered on the protective mask M and each display area R at equal pitches, respectively.例文帳に追加

また、正孔輸送材料インク滴Ｉ１、赤色用インク滴ＩＲ、及び、緑及び青色用インク滴は、それぞれ保護マスクＭ及び各表示領域Ｒ上に等ピッチで付着されるようにした。 - 特許庁

In the mask 14 for exposure, protective sheets 26a and 28a are put on the front and/or rear of the pattern forming region 14a by adhesive layers 26b and 28b made of a photosetting resin.例文帳に追加

この露光用マスク１４は、パターン形成領域１４ａの表面及び／又は裏面に、保護シート２６ａ、２８ａが、光硬化性樹脂からなる接着剤層２６ｂ、２８ｂで貼付されている。 - 特許庁

An inner wall insulating layer (13) is applied to each of via blind holes (12) formed on the layer (10) up to the depth of the layer (20) by using a protective layer (11) as a mask, thereby forming conductive layers (14).例文帳に追加

支持基板層（１０）に保護層（１１）をマスクとして埋め込み絶縁層（２０）に達する深さまで形成されたブラインドビアホール（１２）に、内壁絶縁層（１３）を施して導電層（１４）が形成される。 - 特許庁

The layered film pattern 24, 25 of Al (alloy) and a high melting point metal are formed as recessed from a photoresist 51 as an etching mask, and in this state, a protective film 38 is formed on the side face of the Al (alloy) film.例文帳に追加

Ａｌ（合金）と高融点金属の積層膜パターン２４、２５をエッチングマスクであるフォトレジスト５１から後退して形成し、この状態でＡｌ（合金）膜の側面に保護膜３８を形成する。 - 特許庁

An etching mask of photoresist film having an opening pattern of contact holes is formed on a pixel transistor part 12, a gate terminal part 14, a drain terminal part 16, and a D-G junction 18 of a protective transistor.例文帳に追加

画素トランジスタ部１２、ゲート端子部１４、ドレイン端子部１６、及び保護トランジスタのＤ−Ｇ接続部１８上にはコンタクトホールの開口パターンを有する、フォトレジスト膜からなるエッチングマスクを形成する。 - 特許庁

In the terminal exposure process, light is emitted from the upper surface side of the mask sheet, thereby developing a negative photoresist outside of the part superposed on the light-shielding part for the protective film and the light-shielding part for the terminal to remain.例文帳に追加

端子露出工程では、マスクシートの上面側から光を照射して保護膜用遮光部及び端子用遮光部に重ねられた部分以外のネガ型フォトレジストを現像し残存させる。 - 特許庁

Light from a light emission part 100 passes through a liquid tank 40 and irradiates a resist R from an opening 31a of a resist liquid-protective structure 10 immersed in liquid through a mask M.例文帳に追加

光出射部１００からの光が液体槽４０を通過して、液体中に浸されたレジスト防液構造体１０の開口３１ａからマスクＭを介してレジストＲに照射される。 - 特許庁

After a channel protective layer is formed over an oxide semiconductor film containing In, Ga and Zn, a film having n-type conductivity and a conductive film are formed, and a resist mask is formed over the conductive film.例文帳に追加

Ｉｎ、Ｇａ、及びＺｎを含む酸化物半導体膜上にチャネル保護層を形成した後、ｎ型の導電型を有する膜と、導電膜を成膜し、導電膜上にレジストマスクを形成する。 - 特許庁

To provide a facial protective shield for preventing clouding of the shield due to an expired air without sense of oppression or occlusion when mounted and further extremely easily mounting and replacing while a mask or a cap left wearing as it is.例文帳に追加

装着時に圧迫感や閉塞感がなく、呼気によるシールドの曇りを防ぎ、さらに、マスクやキャップを着用したままで装着及び交換が極めて容易な顔面保護シールドを提供する。 - 特許庁

In the case of using such a method, the oxide film formed in the hard mask so plays the role of a protective layer when performing the over-etching of the silicon nitride film as to suppress the damage of the silicon nitride film by preventing the generation of its pitting.例文帳に追加

このような方法によるとハードマスクに形成された酸化膜がオーバエッチングの際の保護層の役割を果たして、ピティングの発生が防がれ、窒化シリコン膜の損傷が抑えられる。 - 特許庁