「PROTECTIVE MASK」に関連した英語例文の一覧と使い方(6ページ目) - Weblio英語例文検索

Cassette insertion/retrieval mechanism for projection equipment designed to place protective covers over the mask of the cassette, protect the mask from the atmosphere by evacuation of the cassette, place the cassette in the receptacle of the projector, releasing the vacuum upon reaching the receptacle, remove the covers, advancing the cassette to the projection position. Upon completion of projection, the mechanism returns the cassette to the receptacle, replaces the covers and re-evacuates the cassette before ejecting it out of the projection equipment. 例文帳に追加

カセットのマスク面にカバーを取付け、カセット内を真空にすることによってマスクを外気から保護し、該カセットを投影機の受容区域内に配置し、その中でカセットの真空を排除し、カバーを取外し、カセットを投影場所へ前進させ投影終了後、カセットを前記受容区域内へ戻し、カバーを取付け、カセット内を真空にした後、受容区域内から取出すことを特徴とするカセットを投影機内へ挿入しかつ取出す方法。 - 特許庁

The mask for exposure has physical developing nuclei on the transparent substrate, forms a circuit pattern using a silver film obtd. by dissolving a silver halide and receiving an image by the physical developing nuclei in development as a light shielding film and has a protective coat contg. at least a metal oxide component on the light shielding film.例文帳に追加

透明基板上に物理現像核を有し、ハロゲン化銀が溶解され、現像時に該物理現像核によって受像して得られる銀膜を遮光膜として、回路パターンを形成する露光用マスクにおいて、該遮光膜の上部に少なくとも金属酸化物成分を含む保護膜を有する事を特徴とする露光用マスク。 - 特許庁

The phase shift mask includes: a substrate 2 for transmitting exposure light; a semitransparent film 3 that is disposed on the substrate 2, has a transmittance to exposure light lower than that of the substrate 2, and shifts the phase of the exposure light; and a protective film 5 that covers the surface of the semitransparent film and transmits the exposure light.例文帳に追加

露光光を透過する基板２と、基板２上に設けられ、露光光に対する透過率が基板２よりも低く、露光光の位相をシフトさせる半透明膜３と、半透明膜の表面を覆い、露光光を透過する保護膜５と、を備えたことを特徴とする位相シフトマスクを提供する。 - 特許庁

A resist film 11 consisting of a chemical amplification type resist material including a hydrophobic base polymer which is made hydrophilic by elimination of a protective group by an acid elimination reaction and an acid generating agent to generate an acid with light is formed and thereafter this resist film 11 is irradiated with an F_2 laser beam 14 across a mask 12 and is thus exposed with patterns.例文帳に追加

酸脱離反応により保護基が脱離して親水性となる疎水性のベースポリマーと、光により酸を発生する酸発生剤とを含む化学増幅型レジスト材料よりなるレジスト膜１１を形成した後、該レジスト膜１１にマスク１２を介してＦ_2 レーザ光１３を照射してパターン露光を行なう。 - 特許庁

The substrate comprises a process of forming a source-drain region using a halftone exposure technology, a process of forming a passivation insulating layer having an opening in a connecting part between a source-drain region and a scanning line, a source-drain wiring forming process, and a process of forming the protective insulating layer having an opening, and achieves a four-mask process.例文帳に追加

ハーフトーン露光技術を用いてソース・ドレイン領域を形成する工程と、ソース・ドレイン領域と走査線の接続部に開口部を有するベーション絶縁層の形成工程と、ソース・ドレイン配線形成工程と、開口部を有する保護絶縁層の形成工程を有し、４枚マスク・プロセスを実現する。 - 特許庁

As the National Institute of Occupational Safety and Health, Japan compiled a report on the survey results and proposals for improvement in regard to the fitness () of full-mask respiratory protective equipment used during emergency work, MHLW instructed TEPCO to implement measures based on the proposals in the report. (14 October, 2011)例文帳に追加

緊急作業で使用している全面形マスクのフィットネス()などの状況について、（独）労働安全衛生総合研究所が調査結果及び改善提言に関する報告書を取りまとめたことを踏まえ、東京電力に対し、報告書の提言を踏まえた対策の実施を指導（平成23年10月14日） - 厚生労働省

The semiconductor device includes: an insulation layer 5 formed by mask-printing an insulation material containing particles on the semiconductor device; an external connection terminal 3 electrically connected to the electrode 7 possessed by the semiconductor device through a wire 4 for rewiring formed on the insulation layer; and a surface protective film 6 covering areas other than the external connection terminal.例文帳に追加

粒子を含有する絶縁材料を該半導体装置の上にマスク印刷することで形成された絶縁層５と、該絶縁層の上に形成された再配線用配線４で該半導体装置の有する電極７と電気的に接続した外部接続端子３とを有し、外部接続端子以外を覆う表面保護膜６を有する。 - 特許庁

A transfer layer composed of a release layer 22, a mask metal pattern 24, the alignment layer 26, a buffer layer 28, an electrode 30, a protective layer 32, and a color filter layer 34 is formed on a temporary substrate 20 without limiting manufacturing conditions and thereafter, the transfer layer is transferred/formed via an adhesive layer 36 on the plastic film 10.例文帳に追加

仮基板２０の上に、剥離層２２、マスク金属パターン２４、配向膜２６、バッファ層２８、電極３０、保護層３２及びカラーフィルタ層３４から構成される転写層を製造条件が制限されることなく形成した後に、プラスチックフィルム１０の上に接着層３６を介して転写層を上下反転した状態で転写・形成する。 - 特許庁

To solve the problem that a correspondent method for a best remedy is nothing but an unctuous mask or a heavy protective suit forcing behavioral restriction like a space suit in dangerous modern society with multiplicity of dangers such as a breath in daily air pollution, a breath and mucosal adhesion of pollen dispersal in the air and a room, a breath in an office generating usual hazard gas, and a smog influx generated in China.例文帳に追加

日常的大気汚染の中での呼吸、花粉飛散の外気と室内での呼吸と粘膜付着、通常的有害ガス発生職場での呼吸、中国発生の煙霧の到来、等数えればきりがない危険な現状社会での最善策は、気安めのマスクか、宇宙服のような行動制約を強いられる重厚防護服しか対応方法が無い。 - 特許庁

The arrival time of an ambulance is reported to delay year after year, on average, taking 6 minutes or more to get there, so that it is desired, in emergency, to provide a light and handy micromini oxygen and gas mask which is expected as a protective gear from toxic gas and an effective means of protecting own life under the worst situation by arresting the initial-stage cerebral hypoxia to the minimum.例文帳に追加

救急車の到着時間が年々遅れ平均が６分以上掛かる事が報告されていることから緊急の場合、有毒ガスの防具として効果を期待出来、初期段階の脳酸欠症を最小限に食い止めることが最悪の事態に対して自分の命を守る有効な手段となり得る事から、軽便でハンデイな超小型の酸素・防毒マスクの提供が望まれている。 - 特許庁

The method for fabricating a semiconductor device comprises steps for forming an N type semiconductor region 102, a field oxide film 103 and a gate oxide film 104, implanting high energy ions and low energy ions, forming a gate electrode, forming source and drain by implanting ions using the gate electrode as a mask, making a contact hole, forming an interconnection and then forming a final protective film through final heat treatment.例文帳に追加

Ｎ型半導体領域を形成し、フィールド酸化膜を形成し、ゲート酸化膜を形成し、高エネルギ−のイオン注入と低エネルギーのイオン注入し、ゲート電極を形成し、前記ゲート電極をマスクにイオン注入にてソース、ドレインを形成し、コンタクトホールを形成し、配線を形成し、最終熱処理し、最終保護膜形成する工程とからなる半導体装置およびその製造方法。 - 特許庁

Emergency preparedness and response activities by licenseesLicensees equip and maintain radiation measuring equipment on nuclear sites that is necessary in reporting of a Specific Event, and also prepare radiation protection equipment such as an anticontaminant suit, a respiratory oxygen tank, and a protective mask, emergency communication equipment such as a cell phone and a facsimile machine, measuring equipment such as a fixed measuring instrument or dose meter and a portable measuring instrument for measuring radioactive materials released outside a building, and other materials and equipment for nuclear disaster response.例文帳に追加

原子力事業者による防災対応の実施原子炉設置者は、事業所内に、特定事象の通報を行う上で必要となる放射線測定設備を設置、維持しているほか、汚染防護服、呼吸用ボンベや防護マスクなどの放射線障害防護用器具、携帯電話やファクシミリなどの非常用通信機器、建物の外部に放出される放射性物質を測定するための固定式測定器や線量計、可搬式測定器などの計測器、その他の原子力防災資機材を備え付けている。 - 経済産業省