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Pattern Position Accuracyの部分一致の例文一覧と使い方
該当件数 : 159件
About each of template candidates, actual position measurement processing is carried out to evaluate a processing time, a template analysis is done to evaluate an amount of positioning information associated with position measurement accuracy, robustness to a noise is evaluated based on a position measurement result for a pattern to which a random noise is added, and a weighted mean value of these evaluations is worked out to find an overall evaluated value.例文帳に追加
テンプレート候補の各々について、実際に位置計測処理を行うことにより処理時間の評価を行い、テンプレートを解析することにより位置計測精度に関わる位置決め情報量の評価を行い、ランダムノイズを加えたパターンに対する位置計測結果に基づいてノイズに対するロバスト性の評価を行い、これらの各評価の重み付け平均値を求めることにより総合評価値を求める。 - 特許庁
As a result, it is possible to suppress or prevent transfer errors (transfer position errors) of an extremely small pattern that cannot be observed with an interferometer, caused by strains or tiny deformations generated in the body 14 by moving the mask stage RST and the substrate stage WST, and the printing accuracy can be improved.例文帳に追加
これにより、マスクステージ及び基板ステージが移動することによりボディに生じる歪みもしくは微少変形に起因する干渉計では見えない微少なパターンの転写誤差（転写位置誤差）を抑制ないしは防止することが可能になり、焼き付け精度を向上させることができる。 - 特許庁
To provide a counterfeit preventing structure which provides: a first region comprising a pattern reflection layer; and a second region comprising a part of a pattern optical layer having an optical effect, with sufficient position accuracy, is high in design, and confirms various changes in the second region with sufficient visibility, and also to provide a method for manufacturing the same.例文帳に追加
パターン反射層で構成される第一領域と、光学効果を有するパターン光学層の一部で構成される第二領域とを位置精度良く設けることが可能であり、意匠性が高く、第二領域における種々の変化を視認性良好な状態で確認することができるようにした偽造防止構造体、及びその製造方法の提供を課題とする。 - 特許庁
In the membrane mask manufacturing method whereby an absorber 14 is formed on a membrane 12, a stress of a lower absorber 14a is adjusted and the thickness of the lower absorber 14a is determined according to a typical pattern size W to reduce the stress distribution in the thickness direction of the absorber 14, thereby obtaining a membrane mask having an absorber pattern formed at a high position accuracy.例文帳に追加
メンブレン１２上に吸収体１４を成膜するメンブレンマスクの製造方法において、下部吸収体１４ａの応力を調整し、下部吸収体１４ａの厚さは代表的パターンサイズＷに対応して決定することによって、吸収体１４の厚さ方向の応力分布を小さくし、吸収体パターンが高位置精度のメンブレンマスクを得る。 - 特許庁
In this torque sensor 10 and its manufacturing method, since the relative position between each outside wiring part 53 and each inside wiring part 54 of a pair of resolvers 50, 50 having the same structure agree with each other between both resolvers 50, 50, each dispersion pattern of detection accuracy of the resolvers 50, 50 moving sequentially with rotation of a torsion bar 14 agrees with each other.例文帳に追加
本発明のトルクセンサ１０及びその製造方法によれば、同一構造の１対のレゾルバ５０，５０における外側巻線部５３と内側巻線部５４との相対位置が両レゾルバ５０，５０の間で一致するので、トーションバー１４の回転に連動したレゾルバ５０，５０の検出精度のばらつきパターンも一致する。 - 特許庁
To supply a construction method in which laminating-bonding is easily performed even a circuit board having a high-density and fine wiring pattern, and a build-up circuit board, by resolving connection failure caused by dimensional position accuracy generated by connection between circuit boards in the case of building up, even when a wiring width is narrow and wiring density increases on a substrate.例文帳に追加
配線幅が細くなり、基板上の配線密度がアップしても、ビルドアップの際の回路基板間の接続で発生する寸法位置精度から生じる接続不良を解消し、高密度微細な配線パターンを持つ回路基板でも容易に積層貼りあわせが可能である工法とビルドアップ回路基板を供給する。 - 特許庁
To disuse high accuracy in position control and workability of a luminous energy distribution adjusting filter, prevent an image of different density caused by the luminous energy distribution adjusting filter comprising a photosensitive phosphor screen forming layer with a pattern having a transmittivity distribution in an aligner for forming a phosphor screen of a color cathode ray tube.例文帳に追加
カラー陰極線管の蛍光面形成用露光装置において、感光性蛍光面形成層に透過率分布もつパターンの形成された光量分布調整フィルターに起因する濃度差像が転写されにくく、かつその光量分布調整フィルターに高い位置出し精度や加工性が要求されない構成にすることを目的とする。 - 特許庁
To provide an inspecting method and an inspecting apparatus achieving high-speed and high-accuracy detection of foreign substances and pattern defects by position correction of a photographed image of an inspected article and orientation adjustment and correction of an inspected article photographing image sensor in addition to correction and controlling of positional displacement of a stage.例文帳に追加
本発明は、ステージの位置ズレ補正制御だけに頼ることなく、被検査物を撮影した撮像画像の位置補正や被検査物を撮影するイメージセンサの向きを調整補正する等の対応により、異物やパターン欠陥が高速・高精度に検出でき、コストＵＰが抑制できる検査方法および検査装置を提供することを目的とする。 - 特許庁
To provide a reflective mask, capable of obtaining a reflection signal having sufficient contrast even for a reflective mask for EUV exposure, when detecting an alignment mark using a laser drawing device, thus forming a resist pattern for forming a light-shielding region with good position accuracy, and to provide a manufacturing method of the same.例文帳に追加
本発明は、ＥＵＶ露光用の反射型マスクにおいても、レーザ描画装置を用いてアライメントマークを検出する際に、十分なコントラストを有する反射信号を得ることができ、それゆえ、位置精度良く、遮光領域形成用レジストパターンを形成することができる反射型マスク、およびその製造方法を提供することを目的とするものである。 - 特許庁
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