「Pattern Position Accuracy」に関連した英語例文の一覧と使い方 - Weblio英語例文検索

To improve detection accuracy of a pattern on a reel for stopping the pattern in a precise position when the reel is stopped.例文帳に追加

リール上の図柄の検出精度を高めて、リールの停止時に図柄を位置精度よく停止させる。 - 特許庁

The position accuracy measurement patterns 16 are simultaneously formed with a circuit pattern 12a and are used to measure the positional accuracy of the circuit pattern 12a.例文帳に追加

位置精度測定用パターン１６は回路パターン１２ａと同時に形成され、回路パターン１２ａの位置精度を測定する際に用いられる。 - 特許庁

To accurately measure position accuracy of an optional part where high position accuracy is requested in a device pattern of a reticule.例文帳に追加

レチクルのデバイスパターンにおいて高い位置精度が要求された任意の部分の位置精度を正確に測定できるようにする。 - 特許庁

To provide a pattern position detector and a pattern position detecting method for rapidly detecting the position of a predetermined pattern included in a two-dimensional code or the like while improving accuracy in detecting the pattern position.例文帳に追加

２次元コードなどに含まれる所定パターンの位置の検出精度を向上させつつ、高速に当該位置を検出することができるパターン位置検出装置及びパターン位置検出方法を提供する。 - 特許庁

To perform efficient positioning while preventing reduction in accuracy when adjusting the position of a pattern, which is caused by blur and position variation of pattern images.例文帳に追加

パターン画像のぼやけや位置ばらつきを原因とするパターンの位置調整の精度低下を防止しつつ効率な位置決めを可能とする。 - 特許庁

To improve detection accuracy in a position of a recognition mark having a minute pattern shape.例文帳に追加

微細なパターン状を有する認識マークの位置の検出精度を向上する。 - 特許庁

To obtain a position of a measurement border line of a circuit pattern of a semiconductor device with high accuracy.例文帳に追加

半導体デバイスの回路パターンの測長輪郭線の位置を高精度に求める。 - 特許庁

To improve positioning accuracy of an exposure pattern by controlling an exposure position in an analog manner.例文帳に追加

露光位置をアナログ的に制御して露光パターンの位置決め精度を向上する。 - 特許庁

To accurately detect a focal position by a simple configuration and to form a pattern of high accuracy.例文帳に追加

簡易な構成によって正確に焦点位置を検出し、高精度のパターンを形成する。 - 特許庁

To provide a technique capable of controlling a drawing position of a pattern in relation to an object with high accuracy.例文帳に追加

対象物に対するパターンの描画位置を高い精度でコントロールできる技術を提供する。 - 特許庁

To optimize the amount of movement of a pattern edge position with high accuracy in a short time by performing fewer numbers of calculation times.例文帳に追加

パターンエッジ位置の移動量を、少ない計算回数で短時間に、高精度に最適化する。 - 特許庁

That is, the position accuracy measurement patterns 16 are formed in a part of the light-shielding pattern 15.例文帳に追加

つまり、位置精度測定用パターン１６が遮光パターン１５の一部に形成されている。 - 特許庁

METHOD FOR CONFIRMING PATTERN POSITION ACCURACY OF PROXIMITY EXPOSURE DEVICE AND DEVICE THEREFOR例文帳に追加

プロキシミティ露光装置のパターン位置精度の確認方法及びその装置 - 特許庁

MEMBRANE MASK, ITS MANUFACTURING METHOD AND POSITION ACCURACY-MAINTAINING METHOD OF MASK PATTERN例文帳に追加

メンブレンマスク、その製造方法及びマスクパターンの位置精度保持方法 - 特許庁

To provide a method for transferring a pattern having high position accuracy and shape accuracy and a relatively easy work.例文帳に追加

高い位置精度及び形状精度を備え、且つ作業が比較的容易なパターン転写方法を提供する。 - 特許庁

The number N of times by which the operations are repeated is determined based on a position alignment accuracy (accuracy of superposition) of patterns or a time taken for pattern transfer.例文帳に追加

繰り返しの回数Ｎは、パターンの位置合わせ精度（重ね合わせ精度）又はパターンの転写に要する時間に基づいて定められる。 - 特許庁

To provide a pattern drawing apparatus and a method therefor which can draw a line pattern with high position accuracy in a short time.例文帳に追加

高い位置精度の線パターンを短時間に描画することのできるパターン描画装置およびパターン描画方法を提供する。 - 特許庁

Accordingly there is no fear of increase of accumulated error of dimensional accuracy of the pattern area 3a, dimensional accuracy of the base plate and accuracy of cutting position with a cutter, and then the lamination position can be exactly maintained.例文帳に追加

したがってパターン領域３ａの寸法精度、基板の寸法精度およびカッタによる切断位置の精度の累積誤差が増大するおそれはなく、ラミネート位置が正確に保たれる。 - 特許庁

By detecting the position of a measurement pattern based on the signals, high accuracy position detecting can be performed.例文帳に追加

この信号に基づいて計測用パターンの位置を検出することにより、精度良い位置検出が可能となる。 - 特許庁

To provide a method for forming a resist pattern such that the accuracy of a photomask or alignment accuracy do not influence the position accuracy of the resist pattern to be formed, and to provide a method for manufacturing a color filter by using the above method for forming the resist pattern.例文帳に追加

フォトマスクの精度やアライメント精度が、形成されるレジストパターンの位置精度に影響しないレジストパターンの形成方法、およびそのレジストパターンの形成方法を用いたカラーフィルタの製造方法を提供する。 - 特許庁

To improve the accuracy of a drawing position in the circumferential direction of each pattern when a fine pattern formed by alternately disposing a groove pattern and a servo pattern in the circumferential direction is drawn by electron beam scanning.例文帳に追加

周方向にグルーブパターンとサーボパターンが交互に配置されてなる微細パターンを電子ビーム走査により描画する際の、各パターンの周方向描画位置の精度を向上させる。 - 特許庁

By forming a landing position evaluation pattern (280) on the portion, the positional error in the landing position evaluation pattern is relatively enlarged, accordingly, the landing position error may be evaluated with higher accuracy.例文帳に追加

当該部分に着弾位置評価パターン(280)を形成することで着弾位置評価パターンにおける位置誤差を相対的に拡大することができ、より高い精度で着弾位置の誤差を評価することが可能となる。 - 特許庁

To enable a highly accurate measurement of overlap accuracy by preventing asymmetry from occurring in the shape of a resist pattern constituting an overlap accuracy measuring mark for a highly accurate sensing of the position of the overlap accuracy measuring mark.例文帳に追加

重ね合わせ精度測マークを構成するレジストパターン形状の非対称性を防止し、重ね合わせ精度測定マーク位置を精度よく検出することで、高精度な重ね合わせ精度の測定を可能にする。 - 特許庁

To enhance accuracy of drawing, by improing the degradation of positional accuracy in a drawn pattern accompanying changes in the orthogonality of movable mirrors, in a laser interference position detection system for detecting stage position.例文帳に追加

ステージ位置を検出するレーザー干渉位置検出システムの移動ミラーの直交性の変動に伴う描画パターンの位置精度の劣化を改善し、描画精度の向上をはかる。 - 特許庁

Exposure with a shifted position of a pattern for exposure is introduced in multiple exposure to form a level of dose for the pattern without affecting the accuracy of the position and to enable to conduct pattern size control in accordance with dose and the extent of pattern shift.例文帳に追加

多重露光において露光パターンの位置をシフトさせた露光を導入することにより位置精度に影響を与えること無くパターンの照射量水準を生成させパターン寸法制御を照射量とパターンシフト量によって制御可能となる。 - 特許庁

To optically detect with ease and accuracy a projection or a recessed pattern (an emboss) present at a predetermined position on a normal coin.例文帳に追加

正硬貨の所定位置に存在する突起又は凹み模様（エンボス）を、光学的に簡便かつ正確に検出する。 - 特許庁

To manufacture a finer semiconductor device by transfer position of the projected image of a mask pattern with high degree of accuracy and by improving the throughput.例文帳に追加

マスクパターンの投影像の転写位置を高精度化し、スループットを向上させつつより微細な半導体デバイスを製造する。 - 特許庁

To provide an electron beam aligner in which a high accuracy of pattern describing position is realized by minimizing lowering of throughput.例文帳に追加

スループットの低下を最小限にして高精度なパターン描画位置精度を実現した電子ビーム露光装置を得る。 - 特許庁

To provide a multi-pattern wiring board which is improved in the accuracy of the formation position and the depth of splitting grooves.例文帳に追加

分割溝の形成位置および深さの精度を向上させた多数個取り配線基板を提供すること。 - 特許庁

To provide a mask having both improved position accuracy of a pattern and easiness of alignment, an exposure method and a manufacturing method of a semiconductor device.例文帳に追加

パターンの位置精度の向上と、アライメントの容易性を兼ね備えたマスク、露光方法、半導体装置の製造方法を提供することにある。 - 特許庁

To provide electric discharge-machining equipment which corrects a position of a machining electrode according to a jump pattern to improve machining accuracy.例文帳に追加

ジャンプパターンに応じて加工電極の位置を補正し、加工精度の向上が図られた放電加工機を提供する。 - 特許庁

In addition, substrate thickness can be accurately set without being affected by substrate construction, and the film thickness and position accuracy of the pattern can be accurately controlled.例文帳に追加

また、基板の収縮による影響はなく、基板厚を正確に設定できるとともに、パターンの膜厚や位置精度を正確に制御できる。 - 特許庁

To provide a method for inexpensively assisting drawing of a pattern at a predetermined position on the surface of a stereoscopic object by an operator in high accuracy.例文帳に追加

安価に、しかも、高い精度で、作業者が立体物の表面の所定の位置に模様を描画するのを支援する方法を提供する。 - 特許庁

To provide an apparatus and a method for pattern film deposition in which the accuracy of the relative position between patterns can be improved.例文帳に追加

パターン間の相対位置の精度を向上させることが可能な成膜装置および成膜方法を提供する。 - 特許庁

To provide a reflective optical sensor that detects the toner concentration and the position of toner pattern, with higher accuracy.例文帳に追加

トナーパターンのトナー濃度や位置を、より高精度に検出できる反射型光学センサを提供する。 - 特許庁

To provide an optical absolute position length-measurement type encoder which enhances detection accuracy of an absolute (ABS) pattern and reduces the influence of noise caused by a dust and the like on a scale.例文帳に追加

アブソリュート（ＡＢＳ）パターンの検出精度の向上と、スケール上のゴミなどによるノイズの影響の低減を図る。 - 特許庁

To provide a sawing machine which is improved in size reduction and simplification of a pattern generation mechanism, reduction of manufacture cost, rotational position accuracy of needle swing cam cluster and buttonhole cam.例文帳に追加

模様発生機構の小型化且つ簡単化、製作コストの低減化、針振りカム群やボタンホールカムの回転位置精度の向上を図ること。 - 特許庁

To form a drawing pattern with high accuracy by appropriately correcting a drawing position according to deformation of a drawing object such as a substrate.例文帳に追加

基板等の被描画体の変形に応じて描画位置を適切に補正し、精度よく描画パターンを形成する。 - 特許庁

When compared with a case where an alignment pattern is provided only on corners, the alignment accuracy of cutting position can be improved.例文帳に追加

これにより、隅部のみにアライメントパターンを設けていた場合に比べ、切断位置の位置合わせ精度が向上する。 - 特許庁

To detect a position of a prescribed pattern comprising a dark part and a light part in an image signal with high accuracy.例文帳に追加

画像信号において、暗部と明部とからなる所定のパターンの位置を高精度に検出すること。 - 特許庁

To improve transfer accuracy of a mask pattern onto a substrate, irrespective of the position of an exposure object region on the substrate.例文帳に追加

露光対象領域の基板上の位置に拘わらず、マスクパターンの基板への転写精度を向上させる。 - 特許庁

To provide a metal plating method and an equipment which are superior in plating-position accuracy in a consecutive pattern-plating process on metal strip.例文帳に追加

金属条の連続部分メッキにおいて、メッキ位置精度に優れたメッキ方法及ぶ装置を提供すること。 - 特許庁

To provide a membrane mask and its manufacturing method which has an absorber pattern formed at a high position accuracy.例文帳に追加

本発明は、吸収体パターンが高位置精度のメンブレンマスクおよびその製造方法を提供することを目的とするものである。 - 特許庁

To provide an ink pattern at a prescribed position on a base with high accuracy and to obtain printed matter of high precision.例文帳に追加

基材上の所定の位置に高精度でインキパターンを設けることが可能となり、高精細な印刷物をを得ることを目的とする。 - 特許庁

To provide a method for forming a phase shift mask in which generation of an unnecessary pattern can be suppressed with high accuracy by accurately extracting the position where an unnecessary pattern due to overlapping of side lobes on transferring a pattern is generated.例文帳に追加

パターン転写時のサイドローブ重なりによる不要パターンの発生位置を的確に抽出することにより、高精度に不要パターンの発生を抑えることが可能な位相シフトマスクの形成方法を提供する。 - 特許庁