「Pattern Position Accuracy」に関連した英語例文の一覧と使い方(3ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide an image information detecting apparatus that is insensitive to accuracy in detecting position of a pattern for arrangement error of a component or arrangement error of the image information detecting apparatus itself.例文帳に追加

構成素子の配置誤差や画像情報検出装置自体の配置誤差に対して、パターンの検出位置精度が鈍感となる画像情報検出装置を提供すること。 - 特許庁

The controller 201 moves the ink jet head unit 103 on the basis of the positional deviation correction value calculated by using the nozzle hole position information, thereby lessening the degradation in the accuracy at the time of pattern formation.例文帳に追加

制御部２０１は、当該ノズル孔位置情報を用いて算出した位置ズレ補正値を基に、インクジェットヘッドユニット１０３を移動させ、パターン形成時の精度の低下を軽減する。 - 特許庁

To provide a shadow mask frame assembly equipped with heat dissipation and cooling functions for improving position accuracy of a pattern of an organic electroluminescence element by suppressing thermal expansion of a shadow mask.例文帳に追加

シャドウマスクの熱膨脹を抑制して有機電界発光素子のパターンの位置正確度を向上させるための放熱及び冷却機能を具備したシャドウマスクフレーム組立体を提供する。 - 特許庁

To enhance the uniformity of the etching rate within the wafer surface in etching from the rear side of a stencil mask (back etching) and to obtain a stencil mask having high accuracy of the pattern position.例文帳に追加

本発明は、ステンシルマスクの裏面からのエッチング（バックエッチング）時のエッチングレートのウエハ面内均一性を向上させ、パターン位置精度の高いステンシルマスクを提供することを課題とする。 - 特許庁

Since exposure value dependency of a best focus position to be calculated can be neglected while preventing occurrence of pattern collapse due to defocus, image plane position of a projection optical system can be measured with high accuracy.例文帳に追加

これにより、デフォーカスによってパターン倒れが発生することを抑制しつつ、算出されるベストフォーカス位置の露光量依存性を無視することができるので、投影光学系の像面位置を精度高く計測することができる。 - 特許庁

The edges of the dot are extracted and counted in one direction to detect the position of a deformed dot located at the boundary between patterns different in gradation value at an output resolution level, thereby specifying the position of a pattern pixel at a high accuracy.例文帳に追加

網点のエッジを抽出し、一方向にカウントすることにより、階調値の異なる絵柄の境界に位置する変形した網点の位置を出力解像度レベルで検出し、絵柄画素の位置を高精度に特定する。 - 特許庁

To allow a disconnection/short circuiting of an adjacent pattern from first formed circuit board to be verified, without depending a verifying accuracy on the probing position to a pattern end point and without collecting non- defective product data to be previous decision reference.例文帳に追加

パターン端点に対するプロービング位置によって検査精度が左右されることがなく、また、予め判定基準となる良品データを収集することなく、作成された回路基板の１枚目から隣接パターンの断線・短絡検査を可能とする。 - 特許庁

To provide an exposure device capable of performing high accuracy exposure while preventing variance in the distance from a substrate end face to a pattern by directly measuring the position of the end face of a substrate mounted on a substrate stage with a laser length measuring device so as to determine a relative position of the substrate with respect to the mask with high accuracy.例文帳に追加

基板ステージに搭載される基板の端面の位置をレーザー測長器で直接計測することにより、マスクに対する基板の相対位置を高精度で位置決めできるようにして、基板端面からパターンまでの距離のバラつきを防止して高精度の露光を行うことができる露光装置を提供する。 - 特許庁

To provide an image forming device which detects the concentration distribution of a test pattern with high sensitivity by using a reflection-type optical sensor of a simple configuration, and corrects an image forming position of a recording head with high accuracy, and to provide a method of correcting the image forming position.例文帳に追加

簡易な構成の反射型の光学センサを用いてテストパターンの濃度分布を高感度で検出し、記録ヘッドの画像形成位置を高い精度で補正することができる画像形成装置と画像形成位置の補正方法とを提供する。 - 特許庁

To provide a reflective optical sensor and image forming device having high light use efficiency, a good S/N ratio, and high detection accuracy, for detecting toner concentration or a toner position even in a contracted toner pattern.例文帳に追加

光利用効率が高く、ＳＮ比が良く、検出精度が高く、縮小化されたトナーパターンでも、トナー濃度またはトナー位置の検出が可能な反射型光学センサおよび画像形成装置を得る。 - 特許庁

Accordingly, the positional accuracy of the circuit element can be improved, by checking the allocating position using the recognition pattern different from that used for arrangement and then feeding back such positional information.例文帳に追加

従って、配置に使用する認識パターンとは異なる認識パターン用いて配置位置を確認し、その位置情報をフィードバックすることにより、回路素子の位置精度を向上させることができる。 - 特許庁

To provide a stencil mask and a mask blank therefor by which the stencil mask with appropriate pattern position accuracy can be obtained without curving or peeling of a thin film, and to provide a method for manufacturing them.例文帳に追加

反りや薄膜の剥離が生ずることがなく、良好なパターン位置精度を有するステンシルマスクを得ることの可能なステンシルマスク用マスクブランク、ステンシルマスク、及びそれらの製造方法を提供すること。 - 特許庁

To provide an alignment device for exposure equipment which hardly causes a change in a relative position of pattern between the alignment mark of a substrate and the alignment mark of a mask even if the optical axis deviation of an optical path occurs and has high alignment accuracy.例文帳に追加

光路の光軸ずれが生じても、基板のアライメントマークとマスクのアライメントマークとのパターン相対位置の変化が生じにくく、アライメント精度が高い露光装置のアライメント装置を提供する。 - 特許庁

To improve performance such as an exposure accuracy, throughput, etc. by correcting a deviation of at least one of the position and the shape of a mirror in an aligner for transferring a pattern to a substrate by a mirror optical system.例文帳に追加

ミラー光学系により基板にパターンを転写する露光装置において、ミラーの位置及び形状の少なくとも一方のずれを補正し、これにより露光精度及びスループット等の性能を改善する。 - 特許庁

To avoid a hindrance in an electric characteristic even when a tolerance in accuracy of printing position of an electrode pattern in a laminated piezoelectric element which is formed in such a manner that an electrostriction material green sheet having a conductive paste and an electrode pattern printed thereon is laminated to be baked.例文帳に追加

導電性ペーストの電極パターンが印刷された電歪材料グリーンシートを積層し焼成することにより形成する積層圧電素子において、電極パターンの印刷位置精度の許容公差が大きくても電気特性に支障が生じないようにする。 - 特許庁

To provide a pattern defect inspection device capable of detecting a defect with high inspection accuracy even when a pattern is formed with a transparent film on an object under inspection and the film thickness of the transparent film is varied according to the position on the object under inspection.例文帳に追加

被検査物体上に透明薄膜でパターンが形成されていて、その透明薄膜の膜厚が被検査物体上の位置によって変化している場合においても、高い検査精度で欠陥を検出できるパターン欠陥検査装置を提供する。 - 特許庁

To provide a marker for measurement having a position measurement pattern that can be observed from an optional direction without incorporating a light source, and for which the production steps are reduced than before while maintaining manufacturing accuracy of the measurement pattern, and to provide a manufacturing method thereof.例文帳に追加

光源を内蔵せずに任意の方向から観測可能な位置計測用パターンを有する計測用マーカであって、計測用パターンの作製精度を維持しつつ従来と比べて製造工程を減少する計測用マーカ及びその製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method for releasing a flexible film from a reinforcing plate without incurring position deviation or disconnection of a circuit pattern, break of a bonding pad with an electronic component, damage of the electronic component, and the like in a circuit board member wherein the high-accuracy circuit pattern is formed by sticking the flexible film through an organic layer to the reinforcing plate and maintaining dimension accuracy.例文帳に追加

可撓性フイルムを有機物層を介して補強板に貼り合わせ、寸法精度を維持することで、高精度な回路パターンを形成した回路基板用部材を、回路パターンの位置ずれや断線、電子部品との接合パッド部の破断や電子部品の破損を起こすことなく、可撓性フイルムを補強板から剥離する方法を提供する。 - 特許庁

Furthermore, a 1st retrieval processing to retrieve the image slippage position by using the electronic watermark pattern having a slippage by each small area with respect to the embedded electronic watermark pattern and a 2nd retrieval processing to detect an electronic watermark by using the electronic watermark pattern for setting the same small area when embedding the electronic watermark pattern are used to perform efficient the electronic watermark detection and to enhance the accuracy.例文帳に追加

また、埋め込んだ電子透かしパターンに対して小領域毎にずれを持たせた電子透かしパターンを用いて画像ずれ位置を探索する第１探索処理と、電子透かしパターン埋め込み時と同じ小領域設定の電子透かしパターンを用いて電子透かしの検出を行なう第２探索処理を併用することで、電子透かし検出の効率化、精度向上を実現する。 - 特許庁

To provide a recorder which makes it possible with accuracy to obtain a data for adjusting a recording position at the time of forward and backward recordings of a recording head based on a pattern for adjusting the recording position recorded in a relatively small area on a medium for recording.例文帳に追加

被記録媒体上の比較的小領域内に記録した記録位置調整用パターンに基づいて、記録ヘッドの往路記録時と復路記録時における記録位置の調整用データを正確に求めることができる記録装置を提供することにある。 - 特許庁

To provide a method for positioning edge of a pattern element on a substrate, capable of very accurately, speedily, and reproducibly measuring the edge position in edges constituted, as desired, at the lower level of accuracy of pixels.例文帳に追加

任意に構成されているエッジにて、極めて精密で迅速で再現可能であるエッジポジションの測定を画素の下位の精度で可能とする、基板上のパターン要素のエッジをポジション決定するための方法を提供する。 - 特許庁

To provide a high-reliability thermosensitive flow rate detection element having high detection accuracy and its manufacturing method by specifying the position of an edge part of a diaphragm part by a dummy pattern for inspecting geometry of the diaphragm.例文帳に追加

この発明は、ダイヤフラム部の形状寸法検査用のダミーパターンによりダイヤフラム部の縁部の位置を規定し、高検出精度、高信頼性の感熱式流量検出素子およびその製造方法を得る。 - 特許庁

The method extracts edges of the dots and counts the dots unidirectionally to detect positions of deformed dots located at borders of patterns with different gradation values in the output resolution level thereby particularizing the position of pattern pixels with high accuracy.例文帳に追加

網点のエッジを抽出し、一方向にカウントすることにより、階調値の異なる絵柄の境界に位置する変形した網点の位置を出力解像度レベルで検出し、絵柄画素の位置を高精度に特定する。 - 特許庁

To provide a mahjong ball game machine which allows a player to select the pattern of a tile to be aimed at and displays the aiming position target of hitting strength for making a game ball enter a ball entrance corresponding to the selected tile, and improves accuracy of the display.例文帳に追加

狙うべき牌の図柄を選定し、その牌に対応する入球口に遊技球を入球させるための打出し強さの狙い位置目標を表示させるものにあって、その表示の正確性を高める。 - 特許庁

Since exposure which does not affect the finally obtained accuracy of the pattern position is enabled by adjusting the center of gravity in multiple exposure to zero by positive and negative mixed shifts, a mask is efficiently and accurately produced.例文帳に追加

また正負混合のシフト量で多重露光時の重心を０にすることで最終的に得られるパターン位置精度に影響を与えない露光が可能であるため効率的で高精度なマスク作製が可能である。 - 特許庁

When the equipment is used, the pattern is positioned to an accurate position, and high-accuracy electron beam lithography can be performed even when the height of a sample in the image forming surface of the beam changes by preventing unnecessary deflection of electrons caused by the focal point correction.例文帳に追加

本発明によれば、焦点補正による不要な電子偏向防止されてビーム結像面である試料面の高さ変化があっても正確な位置にパターン露光され高精度の電子ビーム描画が可能となる。 - 特許庁

To provide an organic thin film transistor for which the position accuracy of a semiconductor pattern is improved, an organic semiconductor thin film of high crystallinity with sufficient conductivity is formed and element dispersion is reduced.例文帳に追加

本発明の目的は、半導体パターンの位置精度を向上させ、充分な伝導性をもつ結晶性の高い有機半導体薄膜を形成して素子バラツキの低減させた有機薄膜トランジスタを形成することにある。 - 特許庁

The method corrects a preset separation mask in a dot pixel level with high accuracy on the basis of a relation of location of contradictory pixels caused cross-referencing the pattern pixels to SPM data resulting from the particularized position.例文帳に追加

その結果を元にした、絵柄画素とＳＰＭデータとの対応付けに際して生じる矛盾画素の配置関係に基づいて、あらかじめ設定された分離マスクが網点画素レベルで高精度に修正される。 - 特許庁

To enhance dimensional accuracy of a printed matter pattern by maintaining a constant angle of separation of a printing object from a plate immediately after printing, without reference to a position of a squeegee moving on a screen plate, in off-contact printing.例文帳に追加

オフコンタクト印刷において、スクリーン版上を移動するスキージ位置にかかわらず印刷直後の印刷対象物の版離れの角度を一定に維持し、印刷された被印刷物パターンの寸法精度の向上を図る。 - 特許庁

Consequently, a user is easy to visually recognize a cursor position in the whole dot pattern with accuracy and operate without having his or her attention fixed to the circumference of the cursor, and the operability can be improved more.例文帳に追加

これにより、ユーザは、カーソル近傍だけに目を奪われることなく、ドットパターン全体の中におけるカーソル位置を視覚的に正確に認識できて操作し易くなり、操作性を一段と向上させることができる。 - 特許庁

Moreover, the amount of paper expansion/contraction can be measured with the accuracy close to a nozzle pitch by way of newly making an additional recording of the expansion/contraction reference mark on the first surface and detecting the position of the mark recorded additionally in corresponding with the non-discharge detecting pattern.例文帳に追加

また、前記第１面に新たに伸縮基準マークを追加記録し、当該追加記録したマークの位置を不吐検知パターンと対応させて検出することでノズルピッチに近い精度で用紙伸縮量を計測できる。 - 特許庁

A plurality of surface patterns having a boundary wherein a reflection characteristic of light or electron beam at a light shielding film surface varies are disposed as dedicated patterns for measuring mask position accuracy on the light shielding film in the device pattern forming region of the photomask.例文帳に追加

フォトマスクのデバイスパターン形成領域の遮光膜に、遮光膜表面での光線又は電子線の反射特性が変化する境界を持つ表面パターンをマスク位置精度測定専用パターンとして複数配置しておく。 - 特許庁

To prevent falling into a situation of reduction of detection accuracy of a sensor or detection incapability, by setting displacement of the position of the sensor caused by expansion or shrinkage of a sensor holder, along the direction to which a rotation detecting pattern is attached.例文帳に追加

センサ・ホルダの膨張または収縮によるセンサの位置の変位を，回転検出用パターンの付された方向に沿うようにし，センサの検出精度の低下，および，検出不可能となる事態に陥ることを防止する。 - 特許庁

To provide a ceramic package which is easy to be manufactured, makes narrow the width of a recessed groove having a conductor pattern is capable of high-density wiring, improves the dimension accuracy of the recessed groove and does not cause position deviation, and is capable of lateral conduction.例文帳に追加

側面導通が可能なセラミックパッケージであって、製造が容易であり、導体パターンを備えた凹溝の幅が狭く、高密度配線が可能であり、また、凹溝の寸法精度が高く位置ズレも示さないセラミックパッケージを提供すること。 - 特許庁

To provide a stencil mask facilitating thickness reduction and stress adjustment, high in mechanical strength, excelling in electron beam irradiation resistance, suitable for providing a stencil mask for electron beam exposure, simple in a manufacturing process, and high in pattern position accuracy; a method of manufacturing the same; and a method of transferring a pattern for the same.例文帳に追加

薄膜化及び応力調整が容易であるとともに、機械的強度が高くかつ電子線照射耐性に優れた電子線露光用のステンシルマスクを得るために好適で、かつ製造プロセスが簡便かつパターン位置精度の高いステンシルマスク、その製造方法、およびそのパターン転写方法を提供することを目的とする。 - 特許庁

To simultaneously and nondestructively measure a panel alignment position and a pattern profile by improving resolution, quantifying accuracy, and repeatability for realize a pattern imaging which does not rely on optical measurement technology for inspection using a device which is markedly reduced in cost and complexity, while increasing the throughput of the device significantly.例文帳に追加

検査のためのパターン像化に依らない光学的測定技術を、スループットを大きく向上させつつ、コスト及び複雑性を非常に低下させた装置によって実現し、分解能、定量化精度、及び繰り返し精度の向上を図り、重ね合せ位置及びパターンプロフィールの同時かつ非破壊測定を行えるようにする。 - 特許庁

To provide an image forming apparatus capable of reducing color shift due to positional deviation in an image forming part and misregistration between an image on an intermediate transfer body and a sheet to which the image is transferred by enhancing detecting accuracy of a pattern for position detection.例文帳に追加

位置検出用パターンの検出精度を高めて画像形成部での位置ずれに起因する色ずれや、中間転写体上の画像と該画像が転写されるシートとのレジストレーションずれを低減することができる画像形成装置を提供する。 - 特許庁

To provide an alignment control system for members capable of performing high-accuracy pattern matching, even if a camera recognizes the mark images attached to both members is placed at any position and at any angle, and acquiring and transmitting their positional relation to an assembling device.例文帳に追加

どのような位置・角度に置かれたカメラで両部材に付されたマークを画像認識しても、高精度なパターンマッチングを行ってその位置関係を把握して組立装置に伝達することができる部材同士の位置合わせ制御システムを提供する。 - 特許庁

To provide a substrate positioning apparatus improved in accuracy and the yield of a reticle by correcting a reticle precursor position by measuring slippage of a pattern center with respect to a reticle center in a mask drawing apparatus, and to provide a substrate positioning method.例文帳に追加

マスク描画装置内でレチクル中心に対するパターン中心のズレを測定し、レチクル原版位置を修正することができ、レチクルの精度と収率の向上を図ることができる基板位置決め装置及び基板位置決め方法を提供する。 - 特許庁

To provide an automatic focusing system having a quick control function capable of determining a focusing position from the image information of a sheet of frame, and capable of surely focusing with high accuracy even to a horizontal pattern image.例文帳に追加

本発明の課題は、１枚のフレーム画像情報から合焦位置を割り出すことができる迅速な制御機能と、水平方向のパターン画像においても確実に合焦動作を精度よく行なうことが出来る自動焦点システムを提供することにある。 - 特許庁

After performing positional detection at rough accuracy obtained from normalized correlation operation by using a compressed image, a cross spectrum between the frequency spectrum of image data on the position and the frequency spectrum of a reference pattern is calculated and threshold processing is applied to the cross spectrum data to remove signal noise and background noise and detect the position.例文帳に追加

圧縮した画像を利用し、正規化相関演算から得られる粗い精度での位置検出を行った後に、その位置での画像データの周波数スペクトルと基準パターンの周波数スペクトルとのクロススペクトルを算出し、クロススペクトルデータに対して閾値処理を行い、信号ノイズや背景ノイズを除去して位置検出を行う。 - 特許庁

To reduce image processing amount, maintain detection accuracy, and reduce a memory capacity in coordinate position calculation by detecting a position pointed on a pick-up image through pattern matching using only image data for one frame to thereby reduce the memory capacity and the processing time.例文帳に追加

１フレームの画像データのみを用いたパターン・マッチングを行なうことで、撮像画像上の指示位置の検出を可能としてメモリ容量を少量化し、及び処理時間を短縮化しつつ、座標位置算出において、画像処理量の軽減と検出精度の維持との両立、及びメモリ容量の少量化を実現する。 - 特許庁

With this configuration, even if the reticle stage RST moves upward and downward, the positional relationship between a reticle R and the wafer focal position detecting system 24 can be free from variation and the tilt of the wafer W for the reticle R can be measured with high accuracy, and as the result, the pattern formed on the reticle R can be transferred to the wafer W with high accuracy.例文帳に追加

これにより、レチクルステージＲＳＴが昇降しても、レチクルＲとウエハ焦点位置検出系２４との位置関係が変動することがなくなるので、レチクルＲに対するウエハＷの傾斜を精度よく計測することができ、結果的にレチクルＲに形成されたパターンを精度よくウエハＷに転写することができる。 - 特許庁

To enable disconnection and short circuit inspection of an adjacent pattern from the first circuit board with inspection accuracy not influenced by a probing position to endpoint nodes of each branch wire, and without collecting beforehand non-defective data which becomes a determination standard.例文帳に追加

各枝配線の端点に対するプロービング位置によって検査精度が左右されることがなく、また、予め判定基準となる良品データを収集することなく、作成された回路基板の１枚目から隣接パターンの断線・短絡検査を可能とする。 - 特許庁

To provide a method of controlling position by which an ultra-fine pattern can be formed in a highly reproducible state with high accuracy when an auto-alignment mechanism is unusable or the fine adjustment of a sample holder is difficult after the holder is fixed in a lithography step performed in the manufacturing process of a semiconductor device.例文帳に追加

半導体装置の製造工程のリソグラフィー工程において、オートアライメント機構の使用が不可能な場合、またはサンプルホルダー固定後の微調整が困難な場合に極微細パターンを高精度で再現性良く形成できる位置制御方法を提供する。 - 特許庁