「Pattern」に関連した英語例文の一覧と使い方(219ページ目)

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Patternを含む例文一覧と使い方

該当件数 : 49965件

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例文

A representative configuration in the conductive pattern forming apparatus comprises a dispenser for forming a conductive pattern by jetting out a conductive ink; a transfer member for transferring the conductive pattern onto the substrate while the conductive pattern is formed on the surface by the dispenser; and a heating means for curing the conductive pattern by heating the transfer member in the conductive pattern forming apparatus for forming the conductive pattern on the substrate.例文帳に追加

本発明に係る導体パターン形成装置の代表的な構成は、基板に導体パターンを形成する導体パターン形成装置であって、導電インクを噴射して導体パターンを形成するディスペンサーと、該ディスペンサーにより表面に導体パターンを形成され、該導体パターンを前記基板に転写する転写部材と、該転写部材を加熱して前記導体パターンを硬化させる加熱手段と、を有することを特徴とする。 - 特許庁

To provide a conductor pattern precursor, capable of forming a highly reliable conductor pattern the disconnection of which is prevented, a substrate with a conductor pattern precursor including the conductor pattern, a high-reliability conductor pattern formed of the conductor pattern precursor, a highly reliable wiring board including the conductor pattern, and a method for manufacturing a wiring board capable of manufacturing a high-reliability wiring board.例文帳に追加

断線が防止された信頼性の高い導体パターンを形成することのできる導体パターン前駆体、該導体パターンを備えた導体パターン前駆体付基板、該導体パターン前駆体によって形成される信頼性の高い導体パターン、該導体パターンを備えた信頼性の高い配線基板および、信頼性の高い配線基板を製造することのできる配線基板の製造方法を提供すること。 - 特許庁

The semiconductor device includes a first semiconductor pattern limiting active regions, a second semiconductor pattern isolated and disposed on the first semiconductor pattern, a gate electrode which is separated from the second semiconductor pattern and is disposed on the first semiconductor pattern therebetween and then insulated, and a stress generating pattern, filling the clearance between the insulated gate electrode and second semiconductor pattern.例文帳に追加

ここに開示される半導体素子は活性領域を限定する第１半導体パターンと、前記第１半導体パターン上に離隔されて配置された第２半導体パターンと、前記第２半導体パターンと離されて、これらの間の第１半導体パターン上に配置され絶縁されたゲート電極と、前記絶縁されたゲート電極及び前記第２半導体パターンの間の隙間を満たす応力発生パターンとを含む。 - 特許庁

A resist film 34 which is used as a mask when the impurities are implanted has a strip-shaped pattern 38 and a wide region pattern 40.例文帳に追加