「Pattern」に関連した英語例文の一覧と使い方(218ページ目) - Weblio英語例文検索

The player can skip a part of the pattern variation of the decorative pattern by inputting to the sub input section 100, or can stop the pattern variation of the special pattern by inputting to the main input section 102.例文帳に追加

遊技者は、サブ入力部１００への入力により装飾図柄の図柄変動の一部をスキップさせることもでき、またメイン入力部１０２への入力により特別図柄の図柄変動を停止させることもできる。 - 特許庁

A face pattern recognizing part 106 recognizes the face patterns of the persons 107 and 108 by collating the face pattern detected by the part 104 with the reference face pattern stored previously in a face pattern storing part 105.例文帳に追加

顔パターン認識部１０６は、顔パターン検出部１０４で検出された顔パターンを、顔パターン記憶部１０５にあらかじめ記憶された基準の顔パターンと照合することにより、人物１０７，１０８の顔画像を認識する。 - 特許庁

The pattern display device 22 has a pattern display part 23 for variably displaying the figures and a stop pattern display part 24 which displays stoppable figures that is stopped and displayed pertaining to the figures variably displayed on the pattern display part 23.例文帳に追加

図柄表示装置２２は、図柄を変動表示する図柄表示部２３と、その図柄表示部２３に変動表示される図柄に関し停止表示され得る停止可能図柄を表示する停止図柄表示部２４とを有する。 - 特許庁

A trace pattern generating section 45 generates the trace pattern, a data summation processing section 46 attaches the trace pattern to image data, and an encryption processing section 48 encrypts the image data, to which the trace pattern has been attached and transmits the resulting image data to a recorder.例文帳に追加

追跡パターン生成部４５で追跡パターンを生成し、データ加算処理部４６で画像データに該追跡パターンを付加し、暗号化処理部４８で該追跡パターンが付加された画像データを暗号化した後、記録装置へ送信する。 - 特許庁

To provide a stamper having a pattern to obtain a desired pattern when a servo pattern is formed as a magnetic medium, and to provide a method of manufacturing the stamper and a magnetic disk in which the servo pattern with less generation of noise is formed.例文帳に追加

磁気媒体としてサーボパターンが形成されたときに所望のパターンを得られるパターンを有したスタンパ、そのスタンパの製造方法、さらにはノイズを生ずることが少ないサーボパターンが形成された磁気ディスクを提供する。 - 特許庁

When generating the base pattern image, whether the base pattern image is to be generated by the density parameter having been used for generating which base pattern image patch out of the plurality of base pattern image patches arranged in the test printing image, is determined based on the selection of a user.例文帳に追加

そして、地紋画像を生成するにあたり、試し刷り画像に配置された複数の地紋画像パッチのうち、どの一つの地紋画像パッチの生成に用いられた濃度パラメータで生成するかはユーザの選択に基づく。 - 特許庁

A ready-to-win condition forecast pattern and a winning forecast pattern are both displayed selectively at a plurality of timings, so that a player can not predict the appearance timing of the ready- to-win condition forecast pattern and large winning forecast pattern.例文帳に追加

この構成の場合、リーチ予告パターンおよび大当り予告パターンの双方が複数のタイミングで選択的に表示されるので、遊技者にとってリーチ予告パターンおよび大当り予告パターンの出現タイミングが分からなくなる。 - 特許庁

A resistor element pattern 30 is formed by laying a lowermost level pattern 30a, a step-like pattern 30b and a highest level pattern 30c on a step-like oxide film 31 formed on a semiconductor substrate 33.例文帳に追加

抵抗素子パターン３０は、半導体基板３３上に形成された階段状の酸化膜３１上に、最下段パターン３０ａ、階段状パターン３０ｂ、最上段パターン３０ｃから形成されていることを特徴とする。 - 特許庁

A resist pattern which is larger than the desired resist pattern by a prescribed size is formed on a substrate and corroded by exposure to an atmosphere of gaseous ozone in such a way that the resist pattern is made smaller by the prescribed size to obtain the desired fine resist pattern.例文帳に追加

基板上に所望レジストパターンよりも所定寸法だけ大きなレジストパターンを形成し、レジストパターンが所定寸法だけ小さくなるようにオゾンガス雰囲気に曝して侵食させ、もって所望の微細なレジストパターンを得る。 - 特許庁

The transmitting side device changes a hopping pattern to a new hopping pattern deleting a frequency channel whose receiving level detected by a pattern changing part 20 is lower than a prescribed threshold and an informing part 21 informs the receiving side device 5 of the changed pattern.例文帳に追加

送信側装置では、パターン変更部２０により検出された受信レベルが所定の閾値以下の周波数チャンネルを削除した新たなホッピングパターンに変更し、これを通知部２１から送信側装置５へ通知する。 - 特許庁

The method for manufacturing a semiconductor device includes a step for thickening a resist pattern by coating the surface of the pattern with the thickening material after forming the pattern on an underlayer and a step for patterning the underlayer by etching through the pattern.例文帳に追加

下地層上にレジストパターンを形成後、該パターン表面に前記厚肉化材料を塗布し該パターンを厚肉化する工程と、該パターンを用いてエッチングにより下地層をパターニングする工程とを含む半導体装置の製造方法。 - 特許庁

To provide a semiconductor testing apparatus capable of concurrently generating an expectation value pattern and a determination mask pattern using pattern data stored in a pattern memory, thereby enhancing the flexibility in creating a test program and the efficiency of test.例文帳に追加

パターンメモリに記憶されたパターンデータを用いて期待値パターンと判定マスクパターンとを同時に生成することができ、これにより試験プログラム作成の自由度及び試験効率を高めることができる半導体試験装置を提供する。 - 特許庁

Though the winding route of the many turn-side coil pattern 3L is almost fixed and the degree of freedom for design of the pattern 3L is low, the degree of freedom for setting the winding route of the less-turn side coil pattern 3L becomes higher accordingly to the reduced number of turns of the pattern 3S.例文帳に追加

多ターン側コイルパターン３Ｌの巻回経路はほぼ定まってしまい、その設計の自由度は低いのに対して、少ターン側コイルパターン３Ｓは、巻回数が少ない分、その巻回経路の設定の自由度は高くなる。 - 特許庁

A control device 10 is connected to the intersection detection part 5 and a light distribution pattern storage part 11, and upon detecting the intersection, switches the light distribution pattern of the head lamps 3 from an ordinary light distribution pattern to a limited light distribution pattern.例文帳に追加

制御装置１０は、交差点検出部５と配光パターン記憶部１１とに接続され、交差点の検出を契機に、前照灯３の配光パターンを通常配光パターンから限定配光パターンに切り替える。 - 特許庁

There is so provided a lead frame 41, wherein a circuit pattern 43 having the shape corresponding to the power pattern 2 is connected with the peripheral portion comprising a frame-form portion 49 as to superimpose it fixedly on the power pattern 2, and as to cut off the frame-form portion 49 from the fixed circuit pattern 43.例文帳に追加

一方、パワーパターン２に対応した形状を有する回路パターン43を、周囲部である枠状部49に繋げてなるリードフレーム41を備え、パワーパターン２に重ね合せて固着した回路パターン43から、枠状部49を切り離す。 - 特許庁

To provide method and programs for pattern displacement analysis, pattern correction, and stencil mask manufacture which can quickly and accurately correct the position of a pattern aperture by quickly and accurately analyzing the displacement of the pattern aperture.例文帳に追加

パターン開口の変位を高速かつ精度良く解析することにより、パターン開口の位置を高速かつ精度良く補正することができるパターン変位解析方法、パターン補正方法、ステンシルマスクの製造方法およびプログラムを提供する。 - 特許庁

A mask pattern having a line width below a stipulated value is selected from mask patterns each projecting from an element region, the distance from the selected mask pattern to an adjacent pattern is calculated and the mask pattern is corrected corresponding to the distance.例文帳に追加

素子領域から突き出すマスクパターンのうち規定値以下になる線幅を有するマスクパターンが選択された後、このマスクパターンに隣り合うパターンまでの距離が算出され、この距離に応じてマスクパターンに補正が施される。 - 特許庁

In a power application, one movement pattern is selected out of the regular movement patterns and determined as the movement pattern of the movable body 4 and, when a specific game condition is satisfied, the prize movement pattern becomes selectable as the movement pattern of the movable body 4.例文帳に追加

電源投入時、通常動作パターンから一の動作パターンを選択して可動体４の動作パターンとして決定し、特定の遊技条件成立時、特典動作パターンを可動体４の動作パターンとして選択可能とする。 - 特許庁

The processing circuit further selects an approximating geometric pattern, such as a sphere, ellipsoid, ellipse, or circle, determines an error metric of the data points relative to the approximating pattern, adjusts the pattern to minimize the error, thereby acquiring a best fit pattern.例文帳に追加

処理回路は、更に、球、楕円体、楕円、又は円のような近似用幾何学パターンを選択し、近似用パターンに対するデータ点の誤差測定距離を求め、誤差を最小にするようにパターンを調節し、最良適合パターンを得る。 - 特許庁

In this pattern forming method, a first mask pattern 320A is formed in a first region A by patterning a dual mask layer on a substrate 300, and a second mask pattern 320B which is wider than the first mask pattern 320A is formed in a second region B.例文帳に追加

基板３００上のデュアルマスク層をパターニングして第１領域Ａには第１マスクパターン３２０Ａを形成し、第２領域Ｂには第１マスクパターン３２０Ａより幅広である第２マスクパターン３２０Ｂを形成する。 - 特許庁

The resist pattern 3 and the coating layer 4 are heat treated to form a modified layer 5 insoluble with a developing solution on the surface of the resist pattern 3, and then developed to obtain a pattern having the modified layer 5 on the resist pattern surface.例文帳に追加

レジストパターン３及び被覆層４を加熱処理することにより、レジストパターン３の表面に現像液不溶性の変性層５を形成し、現像することによりレジストパターン表面に変性層５を有するパターンを得る。 - 特許庁

The deviation information pattern insertion device 2 inserts deviation information pattern 106 of a deviation information pattern storage section 5 to a processed image 102 resulting from the received image 101 to which the electronic watermark pattern is inserted and externally provides an output of the result.例文帳に追加

ずれ情報パターン挿入器２は挿入強度情報１０４にしたがって、電子透かしパターンが挿入された処理画像１０２に、ずれ情報パターン格納部５のずれ情報パターン１０６を挿入して外部に出力する。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing an antenna pattern with which characteristics of the antenna pattern can be accurately measured even if an aluminum layer is residual around the antenna pattern when forming the antenna pattern by means of etching.例文帳に追加

アンテナパターンをエッチングにより形成する際に、アンテナパターンの周囲にアルミニウム層を残存させた場合であっても、アンテナパターンの特性を正確に計測することができるアンテナパターンの製造方法を提供することを目的とする。 - 特許庁

To provide a method of forming an antenna pattern and an electromagnetic shielding pattern on a sheetlike substrate, capable of forming an electrode layer to serve as the antenna pattern or the electromagnetic shielding pattern on the substrate at a low cost without adversely influencing environments.例文帳に追加

環境に悪影響を与えることなく、ローコストで基材上にアンテナパターンや電磁シールドパターンとなる電極層を形成することができるアンテナパターンおよび電磁シールドパターンのシート状基材への形成方法を得る。 - 特許庁

To provide a method for forming a precise and fine film pattern, the film pattern obtained by the film pattern forming method, a wiring structure that includes the film pattern, and a semiconductor device that includes the wiring structure.例文帳に追加

精密で微細な膜パターンを得ることができる膜パターンの形成方法、該膜パターンの形成方法により得られた膜パターン、該膜パターンを含む配線構造体、ならびに該配線構造体を含む半導体装置を提供する。 - 特許庁

To perform rotation angle detection and rotation angle correction of an image whose pattern is changed every time detection is performed and a pattern image whose edge is obscure like a biological pattern such as a fingerprint and a palm shape in the area of pattern recognition.例文帳に追加

パターン認識の分野において、指紋や掌形といった生体パターンなどのように、検出毎にパターンに変化を伴う画像や、エッジが不明瞭なパターン画像の回転角度検出および回転角度補正を行う。 - 特許庁

The exposure equipment comprises: a pattern generation part PG which generates a pattern with a predetermined resolution; and an optical device PL which projects an image of a pattern generated at the pattern generation part onto a member to be exposed S with a predetermined resolving power and a predetermined projection magnification.例文帳に追加

所定の解像度でパターンを生成するパターン生成部ＰＧと、パターン生成部で生成されたパターンの像を所定の分解能及び所定の投影倍率で被露光部材Ｓに投影する光学装置ＰＬとを備える。 - 特許庁

Specifically, if the rates of overlapping of the first image pattern and the second image pattern with the generated expanded image are equal to or higher than a specified threshold value, it is judged that the first image pattern matches the second image pattern.例文帳に追加

具体的には、第１の画像パターン及び第２の画像パターンが、生成された膨張画像と重なり合う割合のいずれもが、所定の閾値以上である場合、第１の画像パターンと第２の画像パターンとは一致すると判定される。 - 特許庁

When the left pattern belt 12 is stopped by the operation of a player, the speed of a center pattern belt 12 is changed from high to low (figure 8 (b)), and when the center pattern belt 12 is stopped, a right pattern belt 12 is slowed down (figure 8 (c)).例文帳に追加

遊技者の操作により左の図柄ベルト１２を停止させたら、中の図柄ベルト１２を高速から低速に変化させ（図８（ｂ））、中の図柄ベルト１２を停止させたら、右の図柄ベルト１２を低速にする（図８（ｃ））。 - 特許庁

To provide a pattern forming method for forming a fine pattern with high precision, while improving the productivity of the pattern formation and for forming a predetermined pattern on a photosensitive composition with high resolution.例文帳に追加

微細パターンを高精細に形成することが可能であり、パターン形成における生産性を向上することが可能であり、かつ、高解像度で感光性組成物に所定パターンを形成することが可能なパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

The patterns are classified to: a pattern (pattern P) of which the sweep data x(n+1) become larger with respect to sweep data x(n); a pattern (pattern N) of which the sweep data x(n+1) become smaller with respect to the sweep data x(n); and patterns (patterns Z) other than said patterns.例文帳に追加

スイープデータｘ（ｎ）に対して、スイープデータｘ（ｎ＋１）が大きくなるパターン（パターンＰ）、スイープデータｘ（ｎ）に対して、スイープデータｘ（ｎ＋１）が小さくなるパターン（パターンＮ）、それ以外のパターン（パターンＺ）に分類する。 - 特許庁

In a probability variable state or a time shortening state, the special pattern variation time in a special pattern game using a first special pattern is set to the time longer than regular pattern variation time TH1 and TH2 in a normal state wherein a time shortening flag is OFF.例文帳に追加

確変状態や時短状態であるときには、第１特図を用いた特図ゲームでの特図変動時間を、時短フラグがオフである通常状態での普図変動時間ＴＨ１、ＴＨ２よりも長い時間に設定する。 - 特許庁

To provide ink for forming a conductive pattern forming a highly reliable conductive pattern, the highly reliable conductive pattern and a highly reliable wiring board provided with the conductive pattern.例文帳に追加

信頼性の高い導体パターンを形成することができる導体パターン形成用インクを提供すること、信頼性の高い導体パターンを提供すること、および、前記導体パターンを備え、信頼性の高い配線基板を提供すること。 - 特許庁

To provide a method of constructing a pattern wall surface corner section capable of attractively finishing the pattern wall surface corner section without requiring the need of adjusting the dimensions of pattern mold forms at the corner section of a pattern wall surface and of increasing construction efficiency.例文帳に追加

模様壁面の角部における模様型枠の寸法調整を行う必要がなくて、模様壁面角部を美麗に仕上げることができ、施工効率を高めることのできる模様壁面角部の施工方法を提供すること。 - 特許庁

The pattern detection processing program generation system inputs an attack pattern description file 22 in which an attack pattern to be detected is described by a pattern sequence constituted of normal expression modified by a syntax element specifier.例文帳に追加

このパターン検出処理プログラム生成システムは、構文要素指定子によって修飾された正規表現で構成されるパターンシーケンスで検出対象の攻撃パターンを記述した攻撃パターン記述ファイル２２を入力する。 - 特許庁

In the variation pattern decision processing, when the second variation pattern decision table is set, a variation pattern whose variation time is short is easily decided compared with the case that the first variation pattern decision table is set.例文帳に追加

変動パターン決定処理においては、第２変動パターン決定テーブルがセットされている場合は、第１変動パターン決定テーブルがセットされている場合よりも、変動時間が短時間である変動パターンを決定しやすくなっている。 - 特許庁

In this automatic accompaniment generation system, accompaniment pattern data Ap which consists of a plurality of pattern notes P1 to P5 are used, and these pattern notes P1 to P5 are associated with each other serially in time, by timing information (0000, 0480, 0960, 1440), each of which is included in each pattern note.例文帳に追加

この自動伴奏生成システムでは、複数のパターンノートＰ１；Ｐ２；…から成る伴奏パターンデータＡｐが使用され、これらのパターンノートＰ１〜Ｐ５は、夫々が有するタイミング情報（0000，0480，0960，1440 )により時系列的に関連付けられている。 - 特許庁

The device 3 is composed of an ASIC(application specific integrated circuit), and when a command pattern switching signal H is inputted to an internal pattern switching state machine 3S, switching is performed between an ESC/P command A pattern and a B pattern.例文帳に追加

印刷情報生成装置３は、ＡＳＩＣにより構成され、内部のパターン切り替えステートマシン３Ｓにコマンドパターン切替信号Ｈが入力されると、ＥＳＣ／ＰコマンドＡパターンとＢパターンとの間で切り替えが行われる。 - 特許庁

A pattern editing/correction device 10 comprises a block copy mount data preparing device 11 for a layout, a pattern editing device 12, and a pattern correcting device 13, a block copy mount is prepared from an input label size, and a pattern is arranged.例文帳に追加

絵柄編集／補正装置１０は、レイアウト用版下台紙データ作成装置１１、絵柄編集装置１２及び絵柄補正装置１３からなり、入力されたラベルサイズから版下台紙を作成し、絵柄を配置させる。 - 特許庁

The position detector detects the position of the reference pattern and the position of the measurement pattern, and the optical state of the position detector is inspected based on the relative relation between the position of the reference pattern and the position of the measurement pattern thus detected.例文帳に追加

位置検出装置により、基準パターンの位置および計測パターンの位置を検出し、検出した基準パターンの位置と計測パターンの位置との相対関係に基づいて位置検出装置の光学状態を検査する。 - 特許庁

In the boundary between a first pattern region 9a and a first pattern region 9b which are formed on a diffraction grating 3 as well as in a second pattern region 10a and a second pattern region 10b which are formed on the diffraction grating 3, an isolation area 11a and an isolation area 11b or an isolation area 11c which isolate the regions are formed.例文帳に追加

回折格子３に設けられた第１パターン領域９ａ，９ｂと第２パターン領域１０ａ，１０ｂとの境界にそれらを隔離する隔離エリア１１ａ，１１ｂあるいは１１ｃを設けている。 - 特許庁

A dummy pattern forming region and a dummy pattern area are set according to the coverage of the device patterns so that the coverage of the pattern in an exposure region being the sum of the exposure regions of the device patterns and the dummy pattern is included in a prescribed range.例文帳に追加

この際、デバイスパターンとダミーパターンとを合わせた露光領域内のパターンの被覆率が所定の範囲内に収まるように、ダミーパターンの形成領域およびその面積をデバイスパターンの被覆率に応じた大きさに設定する。 - 特許庁

The voice determining section 10 executes pattern matching between the analyzed uplink pattern and the sign pattern stored in the storage section 9 to determine whether a rate of matching between the uplink pattern and the sign patterns is not less than a predetermined threshold value.例文帳に追加

また、音声判定部１０は、その解析した上りパターンと記憶部９に記憶された兆候パターンとのパターンマッチングを行い、その上りパターンと兆候パターンの上り一致率が予め定められた閾値以上か否かを判定する。 - 特許庁

The method of forming the resist pattern including the lower resist pattern, the upper resist pattern and a separator pattern disposed between the lower resist pattern and the upper resist pattern comprises forming the lower resist pattern by a positive resist material, NQD novolak resist material, integral type NQD novolak resist material, hydrophobic integral NQD novolak resist material or resist material essentially consisting of a polyhydroxy styrene base resin.例文帳に追加

下側レジストパターンと、上側レジストパターンと、下側レジストパターン及び上側レジストパターン間に設けられたセパレータパターンとを含むレジストパターンの形成方法は、下側レジストパターンを、ポジ型レジスト材料、ＮＱＤノボラックレジスト材料、一体型ＮＱＤノボラックレジスト材料、疎水性一体型ＮＱＤノボラックレジスト材料、又はポリヒドロキシスチレン系樹脂を主成分とするレジスト材料によって形成する。 - 特許庁

The method for forming a resist pattern including a lower resist pattern, an upper resist pattern and a separator pattern laid between the lower resist pattern and the upper resist pattern includes a step of forming the lower resist pattern from a positive resist material, a NQD (naphthoquinone diazide) novolac resist material, an integrated NQD novolac resist material, a hydrophobic integrated NQD novolac resist material or a resist material essentially comprising a polyhydroxystyrene resin.例文帳に追加

下側レジストパターンと、上側レジストパターンと、下側レジストパターン及び上側レジストパターン間に設けられたセパレータパターンとを含むレジストパターンの形成方法は、下側レジストパターンを、ポジ型レジスト材料、ＮＱＤノボラックレジスト材料、一体型ＮＱＤノボラックレジスト材料、疎水性一体型ＮＱＤノボラックレジスト材料、又はポリヒドロキシスチレン系樹脂を主成分とするレジスト材料によって形成する。 - 特許庁