「Pattern」に関連した英語例文の一覧と使い方(217ページ目) - Weblio英語例文検索

As a result, when it is the display pattern in which a background color is a light color (the display pattern in which the luminance of the background color is high), a display control part 76 changes it to the display pattern in which the background color is a deep color (the display pattern in which the luminance of the background color is low).例文帳に追加

その結果、背景色が薄色の表示パターン（背景色の輝度が高い表示パターン）であれば、表示制御部７６は背景色が濃色の表示パターン（背景色の輝度が低い表示パターン）に変更する。 - 特許庁

The first pattern 131 of the semiconductor element 100 is optimally operated on the basis of the CD of the first pattern 131, and the second pattern 132 is optimally operated on the basis of the CD of the second pattern 132.例文帳に追加

半導体素子１００の第１パターン１３１は第１パターン１３１のＣＤに基づいて最適の状態で駆動させられ、第２パターン１３２は第２パターン１３２のＣＤに基づいて最適の状態で駆動させられる。 - 特許庁

To provide a resin composition that can preferably maintain adhesiveness between a pattern image and a substrate with the pattern image formed thereon when the pattern image is formed, while maintaining water repellency and ink repellency on the upper face of the pattern image.例文帳に追加

パターン画像を形成した場合に、該パターン画像上面の撥水性及び撥インク性を保持しつつ、該パターン画像と該パターン画像が形成される基板との密着性を良好に保つことができる樹脂組成物を提供する。 - 特許庁

To coat individual building panels with an uneven pattern by employing a coating pattern suitable for the uneven pattern with an excellent productivity, which panels are made by cutting a long sized panel with the uneven pattern at desired positions in the longitudinal direction.例文帳に追加

凹凸パターンを施した長尺パネルの長手方向の任意位置で切断してなる各建築パネルに対し、上記凹凸パターンに対応した塗装パターンで塗装を行う塗装手段を用い、生産性良く塗装可能にする。 - 特許庁

A processed layer pattern 4 is formed using an alternating phase shift mask, then ion implantation of an impurity is selectively carried out in the unnecessary pattern 4b to increase an etching rate of the unnecessary pattern 4b, after which the unnecessary pattern 4b is etched away.例文帳に追加

レベンソン型位相シフトマスクを用いて被加工層パターン４を形成した後、不要パターン４ｂに選択的に不純物をイオン注入して不要パターン４ｂのエッチングレートを上げた後に、不要パターン４ｂをエッチングにより除去する。 - 特許庁

The final presentation pattern includes a normal prize winning display pattern representing winning a normal prize, an advantageous prize winning display pattern representing winning an advantageous prize, and a small prize winning display pattern representing winning a small prize.例文帳に追加

この最終演出態様には、通常当たりであることを示す通常当たり表示態様と、有利当たりであることを示す有利当たり表示態様と、小当たりであることを示す小当たり表示態様とが含まれている。 - 特許庁

To provide a technology for accurately detecting the position of each pattern in a repeated pattern, even in an image of an object including fluctuation in a repeated pattern cycle or an object including disturbance unrelated to the repeated pattern.例文帳に追加

繰り返しパターンの周期に揺らぎを含む物体や、繰り返しパターンに無関係な外乱を含む物体の画像であっても、当該繰り返しパターンにおける個々のパターンの位置を正確に検出できるようにした技術を提供する。 - 特許庁

A pattern can be formed on the adhesive by forming protruded ridges 11 and irregularity 9 on a pattern paper 10, pasting the pattern paper to the adhesive face and pressing the adhesive face through the pattern paper with a roller 19.例文帳に追加

接着剤に紋様を整形するには、型紙１０に凸型溝１１、凹凸９を形成して、型紙を接着面に接着し、型紙の上から接着剤にローラ１９で圧力をかけ、接着面に紋様を整形する。 - 特許庁

The sub-control unit counts up the number of shorter-time pattern changes every time it acquires shorter-time pattern change continuing information, and carries out incentive effect display by using an incentive effect table corresponding to the number of shorter-time pattern changes at the point of end of a shorter-time pattern change state.例文帳に追加

副制御部側では、時短継続情報の取得のたびに時短変動回数をアップカウントし、その時短終了時点の時短変動回数に対応する演出テーブルを用いて演出表示を行う。 - 特許庁

The master glass includes a first conductive pattern formed so as to respond to a vapor-depositing pattern required for an electronic element substrate and a second conductive pattern electrically connecting the first conductive pattern.例文帳に追加

本発明のマスターグラスは、電子素子用基板に要求される蒸着パターンに対応するように形成された第１導電性パターンと、前記第１導電性パターンをいずれも電気的に連結する第２導電性パターンと、を含む。 - 特許庁

To provide a semiconductor integrated circuit capable of preventing a dummy pattern from bending and preventing a part of the dummy pattern from missing even if a mechanical stress is applied to the dummy pattern during CMP processing and the pattern layout method thereof.例文帳に追加

ＣＭＰ処理においてダミーパターンに機械的ストレスが作用しても、ダミーパターンが折れ曲がったり、ダミーパターンの一部が欠落したりすることを抑制できる半導体集積回路およびそのパターンレイアウト方法を提供する。 - 特許庁

When the recording of data is resumed, a reproducing pattern data corresponding to a pit pattern recorded in an optical disk 102 are reproduced, and a synchronizing pattern detecting circuit 121 detects the synchronizing pattern, and outputs a pre-complementation processing synchronizing signal.例文帳に追加

記録が再開される際には、光ディスク１０２に記録されているピットパターンに対応した再生パターンデータが再生され、同期パターン検出回路１２１は同期パターンを検出して補完処理前同期信号を出力する。 - 特許庁

The pattern formation layer 2a can be cured by irradiating an ionization radiation to the pattern formation layer 2a which is formed on the irregular pattern of the mold 5 by using a PTFE dispersant to the pattern formation layer 2a being a transfer part 2.例文帳に追加

転写部２となるパターン形成層2aにPTFE分散液を用いたことにより、モールド５の凹凸パターン上に形成したパターン形成層2aに対し電離放射線を照射することで、当該パターン形成層2aを硬化させることができる。 - 特許庁

A structure is formed in which the first metallic pattern and the second metallic pattern are arranged spirally from the top face of the main substrate, while being spirally connected along the disposal of the spiral shape by alternately connecting the first metallic pattern and the second metallic pattern.例文帳に追加

第１の金属パターンと第２の金属パターンをバンプで、交互に接続することにより、主基板上面から見て渦巻状に配置されるとともに、その渦巻状の配置に沿って、螺旋状に接続する構造となる。 - 特許庁

To provide a pattern data high-speed drawing method of large-scale pattern data for rapidly and rationally drawing large-scale pattern data expressed by XY coordinate on a display device, and a pattern data high-speed drawing device suitable for the execution of the method.例文帳に追加

ＸＹ座標で表現される大規模図形データを、ディスプレイ装置上に迅速かつ合理的に描画する大規模図形データ高速描画方法および該方法の実行に適する図形データ高速描画装置を提供する。 - 特許庁

After an ArF resist pattern is formed, the space and opening size of the pattern are reduced by temporarily reducing T_g of the resist pattern by the irradiation of a VUV excimer laser or of the E beam irradiation during the thermal treatment of the resist pattern.例文帳に追加

ＡｒＦレジストパターンを形成した後、レジストパターンを熱処理する間にＶＵＶエキシマレーザーからの照射またはＥビーム照射により露光してレジストパターンのＴ_ｇを一時的に低めてパターンのスペース及び開口サイズを縮める。 - 特許庁

To provide a pattern forming method with which a fine pattern can be formed with high definition, productivity upon pattern formation can be improved, and a prescribed pattern can be formed in a photosensitive composition with high resolution.例文帳に追加

微細パターンを高精細に形成することが可能であり、パターン形成における生産性を向上することが可能であり、かつ、高解像度で感光性組成物に所定パターンを形成することが可能なパターン形成方法の提供。 - 特許庁

A character for comparison which should be compared with the binary pattern is coded to generate a standard pattern having standardized-width bars and spaces, and corresponding places of the binary pattern and standard pattern are outputted in parallel.例文帳に追加

また該２値化パターンと比較すべく比較用のキャラクタをコード化し、バー及びスペースが規格通りの幅である標準パターンを生成して、２値化パターン及び標準パターンの夫々対応する箇所を並列させて出力する。 - 特許庁

To provide a pattern forming material having high sensitivity and high resolution, excellent in adhesion and temporal stability of sensitivity, and capable of forming a high-definition pattern with less residue on development, and a pattern forming method using the pattern forming material.例文帳に追加

高感度及び高解像度で、密着性及び感度の経時安定性に優れ、現像残渣が少なく、高精細なパターンを形成可能なパターン形成材料、及び該パターン形成材料を用いたパターン形成方法の提供。 - 特許庁

At heat treatment on the resist pattern for adjusting the dimension of the pattern after the pattern has been formed by lithography, heat treatment is performed at a temperature T1(°C), which falls within the range of T2(°C) to T+4°C (where T2 is the softening temperature of the resist forming the pattern).例文帳に追加

リソグラフィによりレジストパターンを形成した後、パターン寸法を調整するために加熱処理を行う場合に、レジストの軟化温度Ｔ_2 （℃）に対し、Ｔ_2 ≦Ｔ_1 ≦Ｔ_2 ＋４℃の範囲内の温度Ｔ_1 （℃）で加熱処理を行う。 - 特許庁

A dither pattern selection unit 312 is provided in a ROM 304 and selects a dither pattern most suitable for a screen pattern among a plurality of dither patterns and a dither processing unit 313 carries out a dither process of designated colors with the dither pattern to generate color data.例文帳に追加

ディザパターン選択部３１２はＲＯＭ３０４に格納され、複数のディザパターンの中から網掛けパターンに最適なディザパターンを選択し、ディザ処理部３１３は指定された色をディザパターンによりディザ処理しカラーデータを生成する。 - 特許庁

The processor unit 21 extacts the base pattern image data from a base pattern image file when the manuscript image data to be base-pattern-printed is input from the scanner unit 11, and embeds the base pattern image data to the manuscript image data.例文帳に追加

プロセッサユニット２１は地紋印刷対象の原稿画像データがスキャナユニット１１から入力された場合に地紋画像ファイルから地紋画像データを抽出し、この地紋画像データを原稿画像データに埋め込むように構成される。 - 特許庁

An adjustment pattern is formed so that dot pattern formation conditions for forming the digital pen dot pattern are changed to be in conformity with the change of the environmental conditions, and the light reflection property of the formed adjustment pattern is detected.例文帳に追加

デジタルペン用のドットパターンを形成するためのドットパターン形成条件を環境条件の変化に適合するように変更するために、調整パターンを形成し、形成された調整パターンの光反射特性を検出する。 - 特許庁

A control circuit pattern is extended to at a position corresponding to the second bonding pattern on the front surface of the control board 8, and the control circuit pattern and a main circuit pattern are electrically connected together with a wire 3 at the extended part.例文帳に追加

制御基板８の表主面上において、制御回路パターンは、第２の接合パターンと対応する位置に延在させられ、該延在部における制御回路パターンと主回路パターンとが、ワイヤ３で電気的に接続されている。 - 特許庁

The photomask includes a base, a plurality of chip pattern regions where a light-shielding pattern comprising a metal material is formed on the base, and scribe regions comprising a light-shielding pattern formed between the chip pattern regions.例文帳に追加

基体と、基体に金属材料による遮光パターンが形成されている複数のチップパターン領域と、チップパターン領域同士の間に形成されている遮光パターンからなるスクライブ領域とを備えるフォトマスクを構成する。 - 特許庁

After an ink discharge position of a plurality of heads is correctly adjusted through manual registration, a pattern for automatic registration is printed and a position of the pattern printed by a pattern-printing means for printing the pattern for automatic registration is detected.例文帳に追加

手動でレジストレーションを行って複数のヘッドのインク吐出位置を正しく調整した後、自動レジストレーション用パターンを印字し、この自動レジストレーション用パターン印字手段により印字されたパターンの位置を検出する。 - 特許庁

Conductor layers 8 penetrating the metallic board 1 through the openings 2 and connecting the wiring pattern layer 4 and the wiring pattern layer 6 are formed for electrically connecting each wiring pattern layer, and electrical conductions with each wiring pattern layer are obtained.例文帳に追加

また、各配線パターン層を電気的に接続させるため、開口部２を介して金属基板１を貫通し、配線パターン層４と配線パターン層６とを接続する導体層８が形成され、各配線パターン層との導通が得られる。 - 特許庁

This test pattern generator 10 for generating a test pattern for scan-testing the semiconductor integrated circuit is provided with a risky portion extracting part 110, and an ATPG 150 of a pattern generation executing part for executing the generation of the test pattern.例文帳に追加

半導体集積回路をスキャンテストするためのテストパターンを生成するテストパターン生成装置１００は、危険箇所抽出部１１０と、テストパターンの生成を実行するパターン生成実行部であるＡＴＰＧ１５０を備える。 - 特許庁

A matching pattern detecting section 106 detects the characteristic pattern matching with the characteristics patterns analyzed by a characteristic pattern analyzing section 105 from the characteristic pattern made correspondent to the genre selected by a genre selection signal 104.例文帳に追加

整合パターン検出部１０６は、特徴パターン解析部１０５で解析された特徴パターンと整合する特徴パターンを、ジャンル選択部１０４で選択されたジャンルに対応付けられている特徴パターンの中から検出する。 - 特許庁

The mask includes a first photomask 100 where a dense pitch pattern is formed and a portion where a coarse pitch pattern is to be formed is masked, and a second photomask 110 where a coarse pitch pattern is formed and a portion where a dense pitch pattern is to be formed is masked.例文帳に追加

密ピッチパターンが形成され、疎ピッチパターン形成部位がマスキングされた第１のフォトマスク１００と、疎ピッチパターンが形成され、密ピッチパターン形成部位がマスキングされた第２のフォトマスク１１０とを有する構成である。 - 特許庁

This device extracts a correspondence pattern corresponding to a reference pattern including the object image in a reference image and also calculates the contrast value CR of the reference pattern and the contrast value CL of the correspondence pattern (S15 to S18).例文帳に追加

基準画像中の対象物像を含む基準パターンに対応する対応パターンを比較画像の中から抽出するとともに、基準パターンのコントラスト値ＣＲ及び対応パターンのコントラスト値ＣＬを算出する（Ｓ１５〜Ｓ１８）。 - 特許庁

A mask pattern 4 consisting of a first mask pattern 4a in the shape of a line of with a width WT of 0.15 μm and a second mask pattern 4b in the shape of a line with a width WF of 1.0 μm parallel with the pattern 4a is made on a mask 1.例文帳に追加

マスク１に、線幅Ｗ_Ｔが０．１５μｍの線形状の第１マスクパターン４ａ、このパターン４ａに平行な線幅Ｗ_Ｆが１．０μｍの線形状の第２マスクパターン４ｂからなるマスクパターン４を形成する。 - 特許庁

When the light propagated inside the display plates 55 is applied to the pattern, it is diffused, the pattern emits the light, and thus the pattern of the two display plates 55 can be made to emit the light in a desired color or lighting pattern individually by controlling the light source part.例文帳に追加

表示プレート５５内を伝播する光が模様に当たると拡散して模様が発光するので、光源部を制御して２枚の表示プレート５５の模様を個別に所望の色や点灯パターンにて発光可能となる。 - 特許庁

A code image generating section 113 generates and outputs a code image, based on the pattern data created by the first pattern-data creating section 111, and the plurality of pattern data items created by the second pattern-data creating section 112 are permuted.例文帳に追加

コード画像生成部１１３は、第１パターンデータ作成部１１１にて作成されたパターンデータおよび第２パターンデータ作成部１１２で作成され且つ並べ替えられた複数のパターンデータに基づいてコード画像を生成して出力する。 - 特許庁

To provide a pattern generating device for a printer equipped with a pattern processor 5 for generating pattern data from raw picture data and a storage device 7 for storing the pattern data and realizes a high operating speed with simple components.例文帳に追加

生画像データからパターンデータを発生させるパターンプロセッサ５とパターンデータのための記憶装置７が設けられている印刷機用パターン生成装置において、簡単なコンポーネントで高い動作速度を実現できるようにする。 - 特許庁

To provide a recessed/projecting pattern forming method capable of surely processing a desired recessed/projecting pattern on a resin layer even if wide recessed parts are included in the recessed/projecting pattern, and an information recording medium manufacturing method using the recessed/projecting pattern forming method.例文帳に追加

凹凸パターンに幅が広い凹部が含まれる場合であっても所望の凹凸パターンに樹脂層を確実に加工できる凹凸パターン形成方法及びこれを用いた情報記録媒体の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a data processor which prevents outer contour of embroidery pattern and inner contour or outer contour of printing pattern from moving and can unite embroidery and printing when embroidery pattern is embroidered and printing pattern is printed on a cloth.例文帳に追加

布地に刺繍模様を刺繍し且つ印刷図柄を印刷する場合に、刺繍模様の外形輪郭と、印刷図柄の内形輪郭又は外形輪郭とがずれることなく、刺繍と印刷とを融合できるようにすること。 - 特許庁

A cross-correlation detection section 28 applies cross-correlation between the mixed pulse pattern stored in the shift register 24 and a reference pulse pattern in a pulse pattern bank 25, and a pulse pattern decoder 29 reads the ID and the transmission data of the wireless tag 10.例文帳に追加

相互相関部２８は、シフトレジスタ２４に記憶された混合パルスパターンとパルスパターンバンク２５内の参照パルスパターンとの間で相互相関を行ない、パルスパターンデコーダ２９により無線タグ１０のＩＤおよび送信データを読み取る。 - 特許庁

Design pattern density for a correction object area on the mask is computed and correction data for the mask pattern density corresponding to the design pattern density are selected to correct design pattern data of the correction object area according to the data.例文帳に追加

一方、マスク上の補正対象領域に対する設計パターン密度を算出し、この設計パターン密度に対応するマスクパターン密度の補正データを選択し、これに基づいて、補正対象領域の設計パターンデータに補正を行う。 - 特許庁

As for pattern data for which the turn of variable display has come, pattern character failure moving image data corresponding to the pattern data are read and displayed instead of the pattern data and the moving image display is successively performed (S217:NO - S221).例文帳に追加

変動表示の順番がきた図柄データについては、その図柄データに代わって、当該図柄データに対応する図柄キャラ失敗動画データを読み出して表示し、この動画表示を順次に行う（Ｓ２１７：ＮＯ〜Ｓ２２１）。 - 特許庁

When a main CPU 112 determines that a power source is recovered (S80: Yes), it transmits a waiting display command to a special pattern display device (S82) and transmits a pattern designation command designating a stopping pattern to the special pattern display device (S84).例文帳に追加

メインＣＰＵ１１２は、電源復帰と判定すると（Ｓ８０：Ｙｅｓ）、待機中表示コマンドを特別図柄表示装置へ送信し（Ｓ８２）、停止図柄を指定する図柄指定コマンドを特別図柄表示装置へ送信する（Ｓ８４）。 - 特許庁

A scan line halftone pattern writing section 74 receives a parameter such as a value of a coordinate Y for plotting an image, reads the halftone pattern corresponding to the coordinate Y for plotting the image from the main memory 54, and then sequentially writes the halftone pattern to a scan line halftone pattern memory section 76.例文帳に追加

スキャンラインハーフトンパターン書込部７４は，描画のＹ座標値などのパラメータを受け取り，メインメモリ５４から描画するＹ座標に対応するハーフトンパターンを読み込み、スキャンラインハーフトンパターン記憶部７６へ順次書き込む。 - 特許庁

Further, development video moving image data for starting variable display from the pattern of the same kind as the tentatively stop-displayed center pattern and performing stop display at the kind of the pattern specified by (information relating to) the final stop pattern are displayed (S1304, S1306, S1309, S1311).例文帳に追加

さらに、一旦停止表示された中図柄と同種の図柄から変動表示を開始し最終停止図柄（に関する情報）で指定された図柄の種類で停止表示を行う発展映像動画データを表示させる（Ｓ１３０４，Ｓ１３０６，Ｓ１３０９，Ｓ１３１１）。 - 特許庁

Accordingly, in the case that the number of starting held balls is four, the patterns of the respective lines of the pattern display device are simultaneously stopped on the basis of a simultaneous stop variable pattern earlier than the stop timing of a final pattern in a successive stop variable pattern.例文帳に追加

従って、始動保留球数が４の場合、図柄表示装置の各列の図柄は、順次停止変動パターンで最終図柄が停止するタイミングよりも早い同時停止変動パターンに基づいて同時に停止する。 - 特許庁

To provide a composition for nano imprint excellent in pattern formability and mold releasability, can form a good pattern, and give a pattern after the etching that is small in line edge roughness, and to provide a pattern and a patterning method using this.例文帳に追加

パターン形成性およびモールド剥離性に優れ、良好なパターンが形成でき、かつエッチング後に得られたパターンのラインエッジラフネスが小さいナノインプリント用組成物、これを用いたパターンおよびパターン形成方法を提供する。 - 特許庁