| 例文 |
ablation methodの部分一致の例文一覧と使い方
該当件数 : 223件
To provide a device for reforming the surface of a substrate, by which in spite of a reforming method utilizing a laser ablation, the surface of the substrate can be uniformly reformed in a fixedly arranged state without rotating or parallel moving the substrate to be reformed.例文帳に追加
レーザーアブレーションを利用した改質方法であるにも拘らず、改質処理されるべき基材を回転させたり平行移動させることなく固定配置した状態で、その表面を均一に改質させることが可能な基材の表面改質装置を提供すること。 - 特許庁
In the method for removing an ink receiving region from the printing master by laser ablation, the printing master includes the substrate having a support and a base layer, and the base layer contains a crosslinked hydrophilic binder and a metal oxide.例文帳に追加
レーザー融除により印刷マスターからインキ受容区域を除去する方法であって、印刷マスターは支持体とベース層を具備する基材を含んでなり、該ベース層は架橋された親水性結合剤及び金属酸化物を含有することを特徴とする方法を提供する。 - 特許庁
To provide a method of creating a protective thin film by laser ablation, which protects a tubular material (such as a silica glass pipe material) constituting a high-intensity discharge lamp (hereafter called a HID lamp) in a lighting field, from plasma of a metallic halide, mercury or the like that is a luminescent material.例文帳に追加
照明分野に属する高輝度放電ランプ(以下HIDランプ)を構成する管状材料(シリカガラス管材等)を、発光物質である金属ハロゲン化合物や、水銀などのプラズマから保護するの保護薄膜を、レーザアブレーションによって形成する薄膜創生方法を提供する。 - 特許庁
To provide a plate making method that ensures high sensitivity to infrared laser light and good printing resistance and suppresses contamination by ablation as a plate making method for an IR sensitive original plate of a planographic printing plate capable of direct plate making by recording from digital data of a computer or the like with a solid laser and a semiconductor laser emitting IR.例文帳に追加
赤外線を放射する固体レーザー及び半導体レーザーを用いてコンピューター等のデジタルデータから記録することにより直接製版が可能な赤外線感光性平版印刷版原版の製版方法であって、赤外線レーザーに対し高感度でかつ良好な耐刷性を有し、アブレーションによる汚染の少ない、製版方法を提供すること。 - 特許庁
To provide a pressure sensitive adhesive sheet for laser dicing which can dice a machining object surely with high productivity efficiency to element pieces in discrete dicing by providing a modified region in the inside of the machining object by optical absorption ablation, and to provide a method for manufacturing element pieces surely with high productivity efficiency by using the pressure sensitive adhesive sheet for laser dicing.例文帳に追加
レーザー光の光吸収アブレーションにより被加工物の内部に改質領域を設けて個片化する際に、確実にかつ生産効率よく被加工物を素子小片に個片化することのできるレーザーダイシング用粘着シート及びその製造方法を提供することを目的とする。 - 特許庁
The method includes a step where an initiator that is configured to shadow a portion 58 of a surface 34 of a substrate 36 is provided; and a step where a laser 30 is directed toward the surface 34 of the substrate 36 to effect ablation of a non-shadowed portion of the substrate, thus structures 66 are formed on the surface 34 of the substrate 36.例文帳に追加
基板36の表面34の一部58を保護するように構成されたイニシエータ56を準備するステップと、基板36の表面34にレーザー30を向けて、基板のうちの保護されていない部分の削磨を行い、基板36の表面34上に構造体66を形成するステップが方法には含まれる。 - 特許庁
To provide a method of laser beam machining of a workpiece in a short time and with a high resolution, by generating ablation plasma on the surface of the workpiece, producing a stress deformation region inside the workpiece, and thereby growing a crack in that region using a shock wave from the plasma.例文帳に追加
加工対象物の表面にアブレーション・プラズマを、加工対象物内部に応力ひずみ領域を発生させ、プラズマから発生する衝撃波を利用して、応力ひずみ領域内にクラックを成長させることで、短時間かつ高い分解能で加工対象物をレーザ加工する方法を提供すること。 - 特許庁
To provide a method for producing a diamond-like carbon thin film where adhesion between a DLC film and a target substrate is improved, and in which deterioration in the quality of the DLC thin film caused by the intrusion of melted resolidified particles (droplets) and coarse particles such as the fragments of a solid target which becomes a problem in a laser ablation process can be evaded.例文帳に追加
DLC薄膜とターゲット基板との密着性を向上し、また、レーザーアブレーション法で問題となる溶融再凝固粒子(ドロップレット)や固体ターゲットのかけらなどの粗大粒子の混入によるなどによるDLC薄膜の品質低下の回避できるダイヤモンドライクカーボン薄膜の作製方法を提供する。 - 特許庁
The dividing method further includes: a step of calculating a linear function which connects center coordinates 3A of the holes 3 adjoining each other, with a straight line; and a step of performing the irradiation with a laser beam LB so as to successively connects the center coordinates 3A of the holes 3 adjoining each other, based on the linear function to perform ablation working, thereby dividing the ceramic substrate 1 into chips 7.例文帳に追加
そして、隣り合う穴3の中心座標3Aを直線で結ぶ一次関数を算出し、該一次関数に基づいて隣り合う穴3の中心座標3Aを次々と繋ぐようにレーザビームLBを照射してアブレーション加工を施し、セラミック基板1をチップ7に分割する。 - 特許庁
To provide a method for coating a granular material by which a granular material having wide applications can be obtained by subjecting the whole surface of a carbon component-containing granular material to laser ablation treatment, and coating the same with metal, resin, oxide or the like, and to provide an apparatus therefor.例文帳に追加
炭素成分を含む粒子状物質の表面全体にレーザーアブレーション処理を施して金属、樹脂、酸化物等をコーティングすることにより、用途の広汎化な粒子状物質を得ることができる粒子状物質へのコーティング方法及び装置並びにコーティングされた粒子状物質を提供する。 - 特許庁
To provide a manufacturing method for a matrix for a microlens array, which enables the manufacture of the matrix for the microlens array, composed of a unit cell with curvature controlled with an extremely high degree of accuracy, on a conventionally unrealizable large-area substrate by solving the problem of roughening of a substrate surface, as a defect in laser ablation.例文帳に追加
レーザーアブレーションにおける欠点である基板表面の粗面化を解決し、従来は不可能であった大面積基板上に極めて高精度に制御された曲率を持った単位胞から成るマイクロレンズアレイ用母型の作製を可能とするマイクロレンズアレイ用母型の製造方法を提供するものである。 - 特許庁
This method to manufacture ablation devices includes a process to provide a mandrel 324, a process to attach an electrode to the mandrel 324, a process to coat the mandrel 324 with uncured emulsion, a process to cure the emulsion to form a balloon shape coating all over the mandrel 324, and a process to detach the coating from the mandrel 324.例文帳に追加
剥離装置を製造する方法であって、マンドレル324を提供する工程と、このマンドレル324に電極を取り付ける工程と、マンドレル324を未硬化のエマルジョンで被覆する工程と、エマルジョンを硬化させてマンドレル全体に亘って袋状の被覆を形成する工程と、この被覆をマンドレルから取り外す工程とを含む。 - 特許庁
In the method for producing the titanium oxide thin film, a prepared dense multilayer carbon nanotube whose surface is provided with a defective part and/or pores and/or an oxidized part by performing ultrasonic treatment or high-frequency treatment is dispersedly arranged at a glass substrate, and titanium oxide is thereafter vapor-deposited on the carbon nanotube in a gaseous oxygen atmosphere by a laser ablation process.例文帳に追加
超音波処理もしくは高周波処理を施すことによって表面に欠陥部位及び/または細孔及び/または酸化部位を設けた調整稠密多層カーボンナノチューブをガラス基板に分散配置した後、このカーボンナノチューブに対して酸素ガス雰囲気中でレーザーアブレーション法により酸化チタンを蒸着させるようにしている。 - 特許庁
In the fine machining method for a transparent material, a pulse laser of a single mode having high strength in a strength range of 1J×cm^-2×pulse^-1 to 10kJ×cm^-2×pulse^-1 is applied to the surface of a transparent material so as to perform ablation machining, and the diameter of working holes or the width of working grooves is 50 nm to 1 mm.例文帳に追加
強度範囲が1J・cm^−2・pulse^−1から10kJ・cm^−2・pulse^−1までの高強度のシングルモードビームのパルスレーザーを透明材料の表面に照射することによりアブレーション加工を行い、加工穴の直径、または、加工溝の幅が50nm〜1mmである透明材料の微細加工方法。 - 特許庁
The biocompatible transparent sheet is produced by forming a biocompatible ceramic film 2 by the laser ablation method or the like on a base material 1 being soluble in a solvent 11 in which the biocompatible ceramic is insoluble, dipping the base material 1 having the film formed thereon in the solvent 11 to thereby dissolve the base material 1 and then drying the film 2 thus separated.例文帳に追加
この発明の生体親和性透明シートは、生体親和性セラミックスを溶解しない溶媒11に溶解する基材1に、レーザーアブレーション法等により生体親和性セラミックス膜2を成膜したのち、膜2が成膜された基材1を溶媒11に浸漬して基材1を溶解し、単離した膜2を乾燥することによって製造する。 - 特許庁
A laser irradiation microworking method comprises the steps of placing a metal material in the chemical solution, forming a passivity film on this metal front surface in the chemical solution, removing the passivity film by means of a laser ablation by selectively irradiating a laser beam, and removing a material by performing an etching action by the chemical solution with respect to only a part where the passivity film is removed.例文帳に追加
本発明は、金属材料を化学溶液中に置き、この金属表面に化学溶液中で不動態膜を形成し、そこにレーザー光を選択的に照射することにより、不動態膜をレーザーアブレーションにより除去し、不動態膜が除去された部分のみ化学溶液によるエッチング作用で材料除去を行う。 - 特許庁
In the laser machining method for forming a cut groove 92 in a work by the ablation reaction by irradiating laser beams, an auxiliary groove 93 of the depth of ≥ 0.1μm and ≤ 20μm is formed on both sides of the formed cut groove 92 at the position separate from an edge of the cut groove 92 outwardly by ≥ 5μm and ≤ 25μm.例文帳に追加
レーザ光を照射してアブレーション反応により被加工物に切削溝92を形成するレーザ加工方法であって,被加工物の表面において,形成された切削溝92の両側に,切削溝92の縁部から外側に5μm以上25μm以下離隔した位置に,深さが0.1μm以上20μm以下の補助溝93を形成する。 - 特許庁
This method includes: forming a modified emission layer by irradiating with a laser beam 2 of a wavelength of ≥190 and <266 nm solid organic polysiloxane 1; and making a thin film of the modified emission layer on the desired substrate 7 by laser ablation to form the light emitting device, which emits the desired color, in the optional position or shape on the desired substrate 7.例文帳に追加
固体有機ポリシロキサン1に、波長190nm以上266nm未満のレーザー光2を照射することにより発光改質層を形成し、レーザーアブレーションにより発光改質層を所望の基体7上に薄膜化することにより、所望の基体7上の任意の位置及び形状に、所望の色彩を放つ発光素子を形成する。 - 特許庁
The method for correcting defects of a color filter that is formed with at least the colored layer and the black matrix on the TFT substrate includes: a step for previously coloring the defect correcting part of the color filter by carbonization; and a step for applying a laser beam to the defect correcting part and removing the defect correcting part by the laser ablation.例文帳に追加
TFT基板上に少なくとも着色層、ブラックマトリックスが形成されたカラーフィルタの欠陥修正方法において、予め前記カラーフィルタの欠陥修正部分を炭化着色させる段階と、その後前記欠陥修正部分にレーザー光を照射して前記欠陥修正部分をレーザーアブレーションにより除去する段階と、を具備する。 - 特許庁
The method comprises a step of forming the carrier having the porous structure mainly formed of the carbon nano particle of nanometer size manufactured by controlling the atmospheric gas pressure by means of a laser ablation in the atmospheric gas and a step of depositing the catalyst particle of nanometer size of which the particle size is controlled by the differential type electromigration classification method in the gas flow to simultaneously conduct the formation of the carrier and the supporting of the catalyst particle.例文帳に追加
雰囲気ガス中のレーザーアブレーションにより雰囲気ガス圧力を制御して製造したナノメートルサイズのカーボン粒子を中心に形成された多孔質構造を有する担体を形成する工程と、雰囲気ガス中のレーザーアブレーションにより製造し、ガス流中で微分型電気移動度分級法により粒径制御したナノメートルサイズの触媒粒子を堆積する工程を設け、担体の形成と触媒粒子の坦持を同時に行う工法である。 - 特許庁
This method for ablating body tissue includes: a process of supplying ablation energy to an electrode; a process of transmitting heat from the electrode; a process of sensing the temperature at the electrode; a process of sensing the power transmitted from the electrode; and a process of predicting the maximum tissue temperature state generated in the contact surface between the tissue electrodes.例文帳に追加
生体組織を切除するための方法であって、切除エネルギーを電極に供給する工程と、該電極からの熱を伝導する工程と、該電極における温度を感知する工程と、該電極により送られる電力を感知する工程と、感知した温度と電力から、組織電極間の接触面下で発生している最高組織温度状態を予測する工程と、を包含する方法。 - 特許庁
The method for laser beam machining includes: a step of irradiating a machining point J with a laser beam 101 by tilting the light axis thereof to a point I side in the upstream of the relative advancing direction L of machining a substrate; and a step of scribing and simultaneously jetting a cleaning liquid 112 to guide bubbles 21 or dust 22 generated by ablation to a point H in the downstream using the stream of the cleaning liquid 112.例文帳に追加
レーザ光101の光軸を基板の相対的な加工進行方向Lに対して上流上流のI点側に傾斜してレーザ光101を加工点Jに照射すると共に、洗浄液112を噴射して、アブレーションの際発生する発生する気泡21や粉塵22を洗浄液112の流れによって下流のH点側に導きながら、スクライブ加工する。 - 特許庁
To provide a method and an apparatus for producing a nitride thin film for producing a high-quality nitride thin film using ablation released ions, by which a thin film close to the stoichiometric ratio of a target can be formed in pulse laser vapor deposition of a two-component decomposable nitride ceramic material or a nitride semiconductor, and intrusion of impurities into a produced film can be suppressed as far as possible, and to provide the nitride thin film.例文帳に追加
2成分系分解性窒化物セラミックスあるいは窒化物半導体のパルスレーザー蒸着において、ターゲットの化学量論比に近い薄膜を形成させることができ、且つ、生成膜への不純物混入を極力抑えることができる、アブレーション放出イオンを用いた良質の窒化物薄膜を作製する方法および作製装置並びに窒化物薄膜を提供する。 - 特許庁
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