「aligner」に関連した英語例文の一覧と使い方(31ページ目) - Weblio英語例文検索

LIGHTING FIXTURE, UNIFORM LIGHTING FIXTURE, PROJECTION DEVICE USING THESE, ALIGNER AND LASER PROCESSING DEVICE例文帳に追加

照明装置、均一照明装置、及びこれらを用いた投射装置、露光装置、レーザ加工装置 - 特許庁

MARK DETECTION DEVICE, METHOD, AND PROGRAM, AND ALIGNER, METHOD FOR MANUFACTURING DEVICE, AND DEVICE例文帳に追加

マーク検出装置、マーク検出方法、マーク検出プログラム、露光装置、デバイスの製造方法、及び、デバイス - 特許庁

INTERFERROMETER, SHAPE MEASURING APPARATUS AND ALIGNER AND SHAPE MEASURING METHOD AND EXPOSING METHOD例文帳に追加

干渉計、形状測定装置及び露光装置、並びに形状測定方法及び露光方法 - 特許庁

MARK-DETECTING APPARATUS, MARK-DETECTING METHOD, ALIGNER, EXPOSURE METHOD, DEVICE, AND METHOD FOR MANUFACTURING DEVICE例文帳に追加

マーク検知装置、マーク検知方法、及び露光装置、露光方法、並びにデバイス、デバイス製造方法 - 特許庁

LUMINOUS EXPOSURE CONTROL METHOD AND APPARATUS, AND SCANNING PROJECTION ALIGNER USING THEM例文帳に追加

露光量制御方法および露光量制御装置、並びにそれらを用いた走査型露光装置 - 特許庁

PATTERN FORMING MEMBER, SYNCHRONOUS ACCURACY MEASURING METHOD, ALIGNING METHOD, DEVICE MANUFACTURING METHOD AND ALIGNER例文帳に追加

パターン形成部材、同期精度計測方法、露光方法及びデバイス製造方法、並びに露光装置 - 特許庁

A mask vacuum storage 5 is provided on the side of the mask chamber 13 of the main body of this aligner.例文帳に追加

装置本体３のマスクチャンバー１３の側方に、マスクの真空保管庫５が設けられている。 - 特許庁

An aligner preferably has a numerical aperture NA of an objective lens of a range of 0.6-0.7.例文帳に追加

露光装置は、対物レンズの開口数ＮＡが、０．６〜０．７の範囲にあることが好ましい。 - 特許庁

INSPECTION DEVICE AND METHOD OF PROJECTION OPTICAL SYSTEM, ALIGNER, AND MANUFACTURE OF MICRO DEVICE例文帳に追加

投影光学系の検査装置及び検査方法、露光装置、並びに、マイクロデバイスの製造方法 - 特許庁

ABERRATION MEASUREMENT DEVICE, ALIGNER, ABERRATION MEASUREMENT METHOD, EXPOSURE METHOD, AND DEVICE MANUFACTURING METHOD例文帳に追加

収差測定装置、露光装置、収差測定方法及び露光方法、並びにデバイス製造方法 - 特許庁

SUPPORTING/FIXING STRUCTURE OF MASK FOR PROXIMITY FIELD EXPOSURE, AND PROXIMITY FIELD ALIGNER HAVING THE SAME例文帳に追加

近接場露光用マスクの支持固定構造、該支持固定構造を有する近接場露光装置 - 特許庁

METHOD AND SYSTEM FOR LITHOGRAPHY AND SEMICONDUCTOR DEVICE MANUFACTURING METHOD UTILIZING THE SAME, AND ALIGNER例文帳に追加

リソグラフィ方泡リソグラフィシステム、及びこれを利用した半導体デバイス製造方泡並びに露光装置 - 特許庁

LITHOGRAPHY SYSTEM, ALIGNER, MANUFACTURE OF SEMICONDUCTOR DEVICE UTILIZING THEM, AND MACHINE CONTROLLER例文帳に追加

リソグラフィシステム、露光装置、及びこれらを利用した半導体デバイス製造方泡並びにマシンコントローラ - 特許庁

PLASMA EMISSION LIGHT SOURCE, ALIGNER AND ITS CONTROLLING METHOD, AND METHOD FOR MANUFACTURING DEVICE USING THE SAME例文帳に追加

プラズマ発光光源装置、露光装置およびその制御方法、これを用いたデバイスの製造方法 - 特許庁

EXPOSURE METHOD AND CIRCUIT PATTERN ELEMENT MANUFACTURING METHOD USING THE SAME, AND ALIGNER例文帳に追加

露光方法及びその露光方法を用いた回路パターン素子製造方法、並びに露光装置 - 特許庁

To realize a method of manufacturing a thin film resonant element without using a double-side mask aligner.例文帳に追加

薄膜共振素子を、両面マスクアライナを用いることなく製造する方法を実現する。 - 特許庁

To prevent an aligner from degrading in exposure positional accuracy due to unstable alignment of a reticule with a reticule stage.例文帳に追加

レチクルとレチクルステージ間の位置の不安定さによる露光位置精度の劣化を防止する。 - 特許庁

ILLUMINATION OPTICAL DEVICE, ALIGNER COMPRISING THE SAME, AND METHOD FOR FABRICATING MICRODEVICE例文帳に追加

照明光学装置，該照明光学装置を備えた露光装置，及びマイクロデバイスの製造方法 - 特許庁

To provide an aligner and a lithography system which can be lessened in necessary floor area.例文帳に追加

必要床面積を減少させることができる露光装置及びリソグラフィシステムを提供する。 - 特許庁

MASK FOR MULTIPLE EXPOSURE, EXPOSURE METHOD BY USE THEREOF, ALIGNER, AND METHOD OF MANUFACTURING DEVICE例文帳に追加

多重露光を行うためのマスク、該マスクによる露光方法、露光装置、およびデバイス製造方法 - 特許庁

PROJECTION ALIGNER, PROJECTION ALIGNING METHOD, OPTICS CLEANING METHOD AND METHOD FOR MANUFACTURING SEMICONDUCTOR DEVICE例文帳に追加

投影露光装置、投影露光方法、光洗浄方法および半導体デバイスの製造方法 - 特許庁

An aligner apparatus 1 can align five semiconductor wafers 2 at the same time.例文帳に追加

アライナ装置１は、５枚の半導体ウエハ２を同時にアライメントすることができるようになっている。 - 特許庁

In the aligner having the substrate holder PH, a plate can be exchanged easily, thereby making the maintenance of the apparatus easy.例文帳に追加

基板ホルダＰＨを備える露光装置は、プレートの交換が容易であり、メンテナンスが容易である。 - 特許庁

METHOD FOR DESIGNING LIGHT SOURCE INTENSITY DISTRIBUTION, ALIGNER, EXPOSURE METHOD, AND METHOD FOR MANUFATCURING SEMICONDUCTOR DEVICE例文帳に追加

光源強度分布設計方法、露光装置、露光方法、及び、半導体装置の製造方法 - 特許庁

ELECTRON BEAM ALIGNER, ITS BLOCK MASK, MANUFACTURE AND CONTROL/OPERATION METHOD例文帳に追加

電子ビーム露光装置、電子ビーム露光装置用ブロックマスク、その製作方法及びその管理運用方法 - 特許庁

To control a stage accurately in a scanning aligner of slit scan aligning system.例文帳に追加

例えばスリットスキャン露光方式の走査型露光装置におけるステージの制御を正確に行う。 - 特許庁

ALIGNER, REFERENCE REFLECTION PLATE, CALIBRATION METHOD OF REFLECTANCE MEASURING SENSOR, AND MANUFACTURING METHOD OF MICRO DEVICE例文帳に追加

露光装置、基準反射板、反射率計測センサの校正方法及びマイクロデバイスの製造方法 - 特許庁

A notch aligner 9 comprises a plurality of wafer supports 94a for supporting the end of the back of a wafer W.例文帳に追加

ノッチアライナ９は、ウエハＷの裏面端部を支持するウエハ支持部９４ａを複数備える。 - 特許庁

WAVE FRONT ABERRATION MEASURING METHOD, WAVE FRONT ABERRATION MEASURING INSTRUMENT, ALIGNER, DEVICE MANUFACTURING METHOD, AND DEVICE例文帳に追加

波面収差測定方法、波面収差測定装置、露光装置、デバイス製造方法、及びデバイス - 特許庁

METHOD FOR MEASURING CORRECTION INFORMATION, EXPOSURE METHOD, ALIGNER, EXPOSURE SYSTEM, AND METHOD FOR MANUFACTURING DEVICE例文帳に追加

補正情報の計測方法、露光方法、露光装置及び露光システム、並びにデバイス製造方法 - 特許庁

To provide an aligner which can carry out calibration of the reflectance measuring sensor in a short time.例文帳に追加

反射率計測センサの校正を短時間で行うことができる露光装置を提供する。 - 特許庁

The projection aligner projects the pattern of an original edition 1 onto a substrate 2 via a projecting optical system 4.例文帳に追加

投影露光装置は、投影光学系４を介して原版１のパターンを基板２に投影する。 - 特許庁

METHOD AND DEVICE FOR SURFACE POSITION DETECTION, FOCUSING DEVICE, ALIGNER, AND MANUFACTURING METHOD FOR DEVICE例文帳に追加

面位置検出方法、面位置検出装置、合焦装置、露光装置及びデバイスの製造方法 - 特許庁

ALIGNER WITH TILT CONTROL MECHANISM OF EXPOSING OBJECT AND METHOD FOR CONTROLLING TILT例文帳に追加

露光対象物の傾斜調整機構を有する露光装置およびその傾斜調整方法 - 特許庁

POSITION SENSING METHOD, POSITION SENSOR, EXPOSURE METHOD, ALIGNER, RECORDING MEDIUM AND MANUFACTURING METHOD OF DEVICE例文帳に追加

位置検出方法、位置検出装置、露光方法、露光装置、記録媒体、及びデバイス製造方法 - 特許庁

METHOD AND APPARATUS FOR POSITION MEASUREMENT, POSITIONING METHOD, ALIGNER AS WELL AS METHOD OF MANUFACTURING MICRODEVICE例文帳に追加

位置計測方法及び装置、位置決め方法、露光装置、並びにマイクロデバイスの製造方法 - 特許庁

DETECTION METHOD, METHOD OF MEASURING OPTICAL CHARACTERISTICS, EXPOSURE METHOD AND ALIGNER, AND METHOD OF MANUFACTURING DEVICE例文帳に追加

検出方法、光学特性計測方法、露光方法及び露光装置、並びにデバイス製造方法 - 特許庁

BACKLIGHT IMAGE PICKUP DEVICE AND METHOD OF MANUFACTURING THE SAME, MEASURING EQUIPMENT, AND ALIGNER例文帳に追加

背面照射型の撮像装置、その撮像装置の製造方法、測定装置、および露光装置 - 特許庁

To provide an aligner which shows less amount of vibration and ensures a large exposing area.例文帳に追加

振動が少なく、かつ大きな露光領域を確保することができる露光装置を提供する。 - 特許庁

To provide an EUV aligner having an autofocus control mechanism that can perform highly accurate control.例文帳に追加

精度の良い制御が行えるオートフォーカス制御機能を有するＥＵＶ露光装置を提供する。 - 特許庁

ORIGINAL DISK ALIGNER, TRACK PITCH EVALUATING DEVICE THEREFOR, TRACK PITCH EVALUATING METHOD, AND ORIGINAL DISK MANUFACTURING METHOD例文帳に追加

原盤露光装置、そのトラックピッチ評価装置、トラックピッチ評価方法及び原盤製造方法 - 特許庁

SUBSTRATE SUPPORT APPARATUS AND METHOD, SUBSTRATE TREATING APPARATUS, ALIGNER, AND DEVICE MANUFACTURING METHOD例文帳に追加

基板支持装置と基板支持方法、基板処理装置及び露光装置並びにデバイス製造方法 - 特許庁

METHOD AND DEVICE FOR ANALYZING INTERFERENCE FRINGE, ALIGNER HAVING THE ANALYZING DEVICE, AND DEVICE MANUFACTURING METHOD例文帳に追加

干渉縞の解析方法及び装置、該解析装置を有する露光装置及びデバイス製造方法 - 特許庁

MEASURING METHOD, MEASURING DEVICE, AND EXPOSING METHOD AND ALIGNER USING BOTH AND DEVICE MANUFACTURING METHOD例文帳に追加

測定方法及び装置、それを利用した露光方法及び装置、並びに、デバイス製造方法 - 特許庁

An aligner 10 and a substrate treating device 50 are connected to each other through an in-line I/F section.例文帳に追加

露光装置１０と基板処理装置５０とは、インラインＩ／Ｆ部を介して接続されている。 - 特許庁