「aligner」に関連した英語例文の一覧と使い方(28ページ目) - Weblio英語例文検索

CHARGED PARTICLE BEAM DEFLECTOR ARRAY, ALIGNER USING THE SAME, AND DEVICE MANUFACTURING METHOD例文帳に追加

荷電粒子線偏向器アレイ、該アレイを用いた露光装置及びデバイス製造方法 - 特許庁

EXPOSURE VALUE UNIFORMITY MEASURING METHOD IN EXPOSURE FIELD, RETICLE AND SCANNING-TYPE ALIGNER例文帳に追加

露光フィールド内露光量均一性測定方法、レチクル、及びスキャン型露光装置 - 特許庁

OBSERVATION SYSTEM AND METHOD OF MANUFACTURING THE SAME, ALIGNER, AND METHOD OF MANUFACTURING MICRODEVICE例文帳に追加

観察装置およびその製造方法、露光装置、並びにマイクロデバイスの製造方法 - 特許庁

X-RAY PROJECTION ALIGNER, X-RAY PROJECTION EXPOSURE METHOD, AND SEMICONDUCTOR DEVICE例文帳に追加

Ｘ線投影露光装置およびＸ線投影露光方法および半導体デバイス - 特許庁

WAVE ABERRATION MEASURING DEVICE, PROJECTION ALIGNER, AND MANUFACTURING METHOD OF PROJECTION OPTICAL SYSTEM例文帳に追加

波面収差測定装置、投影露光装置、及び投影光学系の製造方法 - 特許庁

To provide a semiconductor wafer having few limitations in an adhesion part, an identifying means for a mask of an aligner, and the aligner and a semiconductor inspection device capable of identifying them.例文帳に追加

貼付箇所の制限が少ない半導体ウエハや露光装置のマスクの識別手段、およびこれらを識別しうる露光装置および半導体検査装置を提供する。 - 特許庁

To provide a mask holder capable of suppressing a distortion on the mask of an electron beam aligner, a stage device, and an aligner, and to provide a method for manufacturing a device.例文帳に追加

電子線露光装置におけるマスクの歪みを最小限に抑えることができるマスクホルダ、ステージ装置、露光装置、並びにデバイスの製造方法を提供する。 - 特許庁

The aligner exposes a substrate P via a projection optical system PL and liquid.例文帳に追加

露光装置は、投影光学系ＰＬと液体とを介して基板Ｐを露光する。 - 特許庁

To provide a projecting aligner capable of preventing the generation of exposure astigmatism and capable of obtaining large focal depth and effective optical performance in a step and scanning type aligner.例文帳に追加

ステップアンドスキャン方式の露光装置において、露光非点収差の発生を防ぎ、大きな焦点深度と良好な光学性能が得られる投影露光装置を提供する。 - 特許庁

To shift to exposure operation, in a short time, when there is no significant change in the state of an aligner, after exposure by the aligner is interrupted and a reset operation is performed.例文帳に追加

露光装置の露光を中断して復帰動作を行った後で、露光装置の状態に大きい変化がない場合に、短時間に露光動作に移行できるようにする。 - 特許庁

MASK AND MANUFACTURING METHOD THEREOF, PROJECTION ALIGNER, AND MANUFACTURING METHOD OF SEMICONDUCTOR DEVICE例文帳に追加

マスクおよびその製造方法と露光装置および半導体装置の製造方法 - 特許庁

To suppress increase in the formation area of an aligning mark use for an exposing method using a scanning transfer light aligner and an electron beam aligner.例文帳に追加

スキャン転写型光露光装置と電子ビーム露光装置とを用いた露光方法に用いられる位置合わせマークにおいて、その形成領域の増加を抑制する。 - 特許庁

To prevent the structure of a mask-carrying system in the interior of an aligner from becoming complicated, when a ceiling carrier system is adopted from the outside as the mask-carrying system with respect to the aligner.例文帳に追加

外部から露光装置に対するマスクの搬送系として天井搬送系を採用した場合に、露光装置内部のマスクの搬送系の構造の複雑化を防止する。 - 特許庁

The aligner apparatus 10 includes an edge sensor 22, a displacement sensor 24, and a control section 20.例文帳に追加

アライナ装置１０は、エッジセンサ２２、変位センサ２４、および制御部２０を備える。 - 特許庁

To provide an edge-holding aligner that can adjust the position of a substrate in a short time by preventing a positioning section from being positioned to a region in which the aligner is in contact with the substrate.例文帳に追加

アライナと基板とが接触している領域に位置決め部が位置することをなくして、短時間に基板を位置調整することができるエッジ保持アライナを提供する。 - 特許庁

METHOD FOR REMOVING CLOUDINESS FROM FLUORITE, OPTICAL FLUORITE, OPTICAL SYSTEM AND ALIGNER例文帳に追加

蛍石のにごり除去方法、並びに光学用蛍石、光学系、及び露光装置 - 特許庁

ALIGNMENT MARK, RETICLE FOR CHARGED PARTICLE BEAM ALIGNER AND CHARGED PARTICLE BEAM EXPOSING METHOD例文帳に追加

アライメントマーク、荷電粒子線露光装置用レチクル及び荷電粒子線露光方法 - 特許庁

CHARGED PARTICLE RAY ALIGNER, METHOD FOR EXPOSING CHARGED PARTICLE RAY, AND METHOD FOR MANUFACTURING DEVICE例文帳に追加

荷電粒子線露光装置、荷電粒子線露光方法及びデバイス製造方法 - 特許庁

CHARGED PARTICLE BEAM ALIGNER AND MANUFACTURE OF SEMICONDUCTOR DEVICE UTILIZING THE SAME例文帳に追加

荷電粒子線露光装置及びそれを使用した半導体デバイスの製造方法 - 特許庁

METHOD AND DEVICE FOR DETECTING CONTOUR, METHOD AND DEVICE FOR DETECTING POSITION, AND ALIGNER例文帳に追加

輪郭検出方法及び装置、位置検出方法及び装置、並びに露光装置 - 特許庁

MASK FOR EXPOSURE, ALIGNER, EXPOSURE METHOD AND METHOD FOR MANUFACTURING LIQUID CRYSTAL DISPLAY DEVICE例文帳に追加

露光用マスク、露光装置、露光方法及び液晶表示装置の製造方法 - 特許庁

To prevent the generation of a disconnection of circuit patterns and the generation of a short-circuit between the patterns in the boundary parts between fields even though the fine circuit patterns are comprised in a charged- particle beam aligner without reducing the capability of the exposure treatment of the aligner.例文帳に追加

露光処理能力を低下させることなく、微細な回路パターンが含まれていてもフィールド境界部におけるパターン断線及び短絡を防ぐ。 - 特許庁

SYSTEM AND METHOD FOR ALIGNER CORRECTION AND MANUFACTURING METHOD OF SEMICONDUCTOR DEVICE例文帳に追加

露光装置補正システム、露光装置補正方法及び半導体装置製造方法 - 特許庁

ALIGNER AND MANUFACTURING APPARATUS OF SEMICONDUCTOR DEVICE, PHASE SHIFT MASK, AND ITS DESIGN METHOD例文帳に追加

露光装置および半導体装置の製造装置、位相シフトマスクおよび設計方法 - 特許庁

ATMOSPHERIC PRESSURE CONTROL METHOD AND DEVICE THEREOF, LASER MEASURING DEVICE USING THE SAME, AND ALIGNER例文帳に追加

気圧制御方法および装置、これを用いたレーザ計測装置および露光装置 - 特許庁

CHARGED PARTICLE BEAM EXPOSURE METHOD, CHARGED PARTICLE BEAM ALIGNER AND DEVICE MANUFACTURING METHOD例文帳に追加

荷電粒子線露光方法、荷電粒子線露光装置及びデバイス製造方法 - 特許庁

METHOD AND DEVICE FOR DATA EXTRACTION, METHOD AND DEVICE FOR POSITION DETECTION AND ALIGNER例文帳に追加

データ抽出方法及び装置、位置検出方法及び装置、並びに露光装置 - 特許庁

To provide an aligner, for which particle detector is not required, by preventing a particle from being transferred on a photosensitive substrate, and a beam shape setting device to be used for the aligner or the like.例文帳に追加

露光装置のブラインド５Ａ，５Ｂにパーティクル（粒子状物質）が付着すると、その像が投影レンズ１４を介して感光基板１６に転写されてしまう。 - 特許庁

METHOD FOR CONTROLLING ALIGNMENT ACCURACY IN ALIGNER AND ALIGNMENT ACCURACY MEASURING INSTRUMENT例文帳に追加

露光装置における重ね合わせ精度制御方法及び重ね合わせ精度測定器 - 特許庁

The aligner 110 exposes a substrate 21 in a vacuum atmosphere by an optical system as shown in Fig. 14.例文帳に追加

露光装置は、真空雰囲気中で光学系を介して基板を露光する。 - 特許庁

Based on the information provided by the correction data calculation step (S30), the nonlinear errors of the second aligner are made identical with that of the first aligner (S40).例文帳に追加

上記補正データ算出ステップ（Ｓ３０）によって得られた情報に基づいて、第２露光装置の非線形誤差を第１露光装置の非線形誤差と同じにする（Ｓ４０）。 - 特許庁

CHARGED PARTICLE BEAM ALIGNER, METHOD FOR EXPOSING CHARGED BEAM AND METHOD FOR MANUFACTURING DEVICE例文帳に追加

荷電粒子線露光装置、荷電粒子線露光方法及びデバイス製造方法 - 特許庁

POSITION DETECTING METHOD, POSITION DETECTING DEVICE, EXPOSURE METHOD, AND ALIGNER例文帳に追加

位置検出方法および位置検出装置、ならびに露光方法および露光装置 - 特許庁

INSTRUMENT AND METHOD FOR MEASURING POSITION ALIGNER AND METHOD OF EXPOSURE, AND METHOD OF MANUFACTURING DEVICE例文帳に追加

位置計測装置及び方法、露光装置及び方法、並びにデバイス製造方法 - 特許庁

To provide a scanning projection aligner where the agreement accuracy between the running surface of a wafer stage and the image formation surface of a reticle image at the time of scanning is improved in the scanning projection aligner.例文帳に追加

走査露光装置においてスキャン時のウエハーステージの走り面とレチクル像の結像面の一致精度の向上した走査露光装置を提供すること。 - 特許庁

SCANNING ALIGNER AND METHOD, CONTROLLING DEVICE AND METHOD, AND DEVICE-MANUFACTURING METHOD例文帳に追加

走査露光装置及び方法、管理装置及び方法、ならびにデバイス製造方法 - 特許庁

VARIABLE SLIT DEVICE, LIGHTING DEVICE, ALIGNER, EXPOSURE METHOD, AND METHOD OF MANUFACTURING DEVICE例文帳に追加

可変スリット装置、照明装置、露光装置、露光方法及びデバイスの製造方法 - 特許庁

ALIGNMENT MARK AND ALIGNMENT APPARATUS AND METHOD, PROJECTION ALIGNER, AND MANUFACTURING METHOD OF DEVICE例文帳に追加

アライメントマーク及びアライメント装置とその方法、及び露光装置、デバイスの製造方法 - 特許庁

SURFACE POSITION DETECTION DEVICE, SURFACE POSITION DETECTION METHOD, ALIGNER, AND DEVICE MANUFACTURING METHOD例文帳に追加

面位置検出装置、面位置検出方法、露光装置、およびデバイス製造方法 - 特許庁

METHOD OF TRANSFERRING CIRCUIT PATTERN, METHOD OF DETERMINING IMAGE FIELD AND REDUCTION PROJECTION ALIGNER例文帳に追加

回路パタ—ン転写方法、イメ—ジフィ—ルド決定方法及び縮小投影露光装置 - 特許庁

MEASUREMENT IMAGE PICK-UP DEVICE AND MEASURING METHOD, ALIGNER AND EXPOSURE METHOD例文帳に追加

計測用撮像装置および計測方法、並びに露光装置および露光方法 - 特許庁

ALIGNER FOR MANUFACTURING SEMICONDUCTOR AND SEMICONDUCTOR DEVICE MANUFACTURING PROCESS USING THE SAME例文帳に追加

半導体製造用露光装置およびこれを用いた半導体デバイス製造プロセス - 特許庁

MULTILAYER FILM REFLECTION MIRROR, REFLECTION MASK, ALIGNER AND MANUFACTURING METHOD OF REFLECTION MASK例文帳に追加

多層膜反射鏡、反射型マスク、露光装置及び反射型マスクの製造方法 - 特許庁

ALIGNER, ITS CONTROLLING METHOD, DEVICE MANUFACTURING METHOD, READABLE COMPUTER MEMORY, AND PROGRAM THEREOF例文帳に追加

露光装置及びその制御方法、デバイスの製造方法、コンピュータ可読メモリ、プログラム - 特許庁

APPARATUS AMD METHOD FOR DRIVING MOVING MAGNET TYPE POLYPHASE LINEAR MOTOR, AND ALIGNER例文帳に追加

ムービングマグネット型多相リニアモータの駆動装置および駆動方法、並びに露光装置 - 特許庁