「aligner」に関連した英語例文の一覧と使い方(32ページ目) - Weblio英語例文検索

PHOTOMASK, METHOD FOR MANUFACTURING THE PHOTOMASK, PROJECTION ALIGNER HANDLING THE PHOTOMASK AND PROJECTION ALIGNMENT METHOD例文帳に追加

フォトマスク、該フォトマスクの製造方法、該フォトマスクを扱う投影露光装置、及び投影露光方法 - 特許庁

APERTURE FOR EXPOSURE AND METHOD FOR MANUFACTURING THE SAME AND ALIGNER AND METHOD FOR MANUFACTURING SEMICONDUCTOR DEVICE例文帳に追加

露光用アパーチャ及びその製造方法、露光装置並びに半導体装置の製造方法 - 特許庁

ALIGNER, METHOD OF MANUFACTURING SEMICONDUCTOR DEVICE, MAINTENANCE METHOD OF EXPOSURE SYSTEM, AND SEMICONDUCTOR MANUFACTURING FACTORY例文帳に追加

露光装置、半導体デバイスの製造方法、露光装置の保守方法、半導体製造工場 - 特許庁

SCANNING PROJECTION ALIGNER, AND ILLUMINANCE CALIBRATING METHOD AND ALIGNING METHOD THEREOF例文帳に追加

走査型投影露光装置、走査型投影露光装置の照度キャリブレーション方法及び露光方法 - 特許庁

To provide an aligner in which exposure illuminance can be varied without changing the lamp of a light source.例文帳に追加

光源のランプを変更しなくても、露光照度を変えることができる露光装置を提供する。 - 特許庁

WAVEFRONT ABERRATION MEASUREMENT DEVICE, ALIGNER, AND SEMICONDUCTOR DEVICE MANUFACTURING SYSTEM AND METHOD例文帳に追加

波面収差測定装置、露光装置並びに半導体装置の製造システムおよびその製造方法 - 特許庁

BRAKE CIRCUIT FOR MOTOR, MOTOR DRIVE, STAGE DEVICE, ALIGNER, AND METHOD OF MANUFACTURING SEMICONDUCTOR DEVICE例文帳に追加

モータのブレーキ回路、モータ駆動装置、ステージ装置、露光装置、及び半導体デバイスの製造方法 - 特許庁

To provide an aligner apparatus which can perform suitable alignment even for a warped wafer.例文帳に追加

反りのあるウェハに対しても適切な位置合わせを行うことが可能なアライナ装置を提供する。 - 特許庁

MANUFACTURING METHOD OF SEMICONDUCTOR DEVICE, AND ALIGNER, RETICLE AND SEMICONDUCTOR WAFER USED FOR THE SAME例文帳に追加

半導体装置の製造方法並びにそれに使用する露光装置、レクチル及び半導体ウエハ - 特許庁

OBJECTIVE LENS, PARTICULARLY OBJECTIVE LENS FOR SEMICONDUCTOR LITHOGRAPHY PROJECTION ALIGNER, AND MANUFACTURE OF THE LENS例文帳に追加

対物レンズ、特に、半導体リソグラフィー投影露光装置の対物レンズ、およびその製造方法 - 特許庁

MULTILAYER-FILM REFLECTOR, ALIGNER, ALIGNING METHOD, AND MANUFACTURING METHOD OF DEVICE HAVING FINE PATTERN例文帳に追加

多層膜反射鏡、露光装置、露光方法、および微細パターンを有するデバイスの製造方法 - 特許庁

SUBSTRATE HOLDING CHUCK AND ITS MANUFACTURE, METHOD OF EXPOSURE, MANUFACTURE OF SEMICONDUCTOR DEVICE, AND ALIGNER例文帳に追加

基板保持チャックとその製造方法、露光方法、半導体装置の製造方法及び露光装置 - 特許庁

ELECTRON BEAM EXPOSURE METHOD, ELECTRON BEAM ALIGNER, ELECTRON BEAM EXPOSURE MASK, AND MANUFACTURING METHOD OF DEVICE例文帳に追加

電子ビーム露光方法、電子ビーム露光装置、電子ビーム露光用マスク及びデバイス製造方法 - 特許庁

PROJECTION OPTICAL DEVICE, EXPOSURE METHOD AND ALIGNER, PHOTOMASK AND DEVICE AND PHOTOMASK MANUFACTURING METHOD例文帳に追加

投影光学装置、露光方法及び装置、フォトマスク、並びにデバイス及びフォトマスクの製造方法 - 特許庁

SUBSTRATE HOLDING APPARATUS, METHOD OF DELIVERING SUBSTRATE, ALIGNER USING SAME, AND METHOD OF MANUFACTURING DEVICE例文帳に追加

基板保持装置、基板受渡し方法とこれを用いた露光装置、及びデバイスの製造方法 - 特許庁

VAPOR DEPOSITION DEVICE, VAPOR DEPOSITION METHOD, ELECTRON BEAM ALIGNER, DEFLECTOR, AND MANUFACTURING METHOD OF DEFLECTOR例文帳に追加

蒸着装置、蒸着方法、電子ビーム露光装置、偏向装置及び偏向装置の製造方法 - 特許庁

PRECISE FINE POSITIONING DEVICE AND FINE POSITIONING STAGE HAVING THE SAME, ALIGNER, AND INSPECTION APPARATUS例文帳に追加

精密微動位置決め装置およびそれを備えた微動位置決めステージ、露光装置、検査装置 - 特許庁

PROJECTION EXPOSURE METHOD AND PROJECTION ALIGNER, DEVICE-MANUFACTURING METHOD, AND DEVICE MANUFACTURED BY THE METHOD例文帳に追加

投影露光方法及び装置、デバイス製造方法、並びに該方法により製造されたデバイス - 特許庁

METHOD OF MEASURING VARIATIONS IN IMAGE FORMATION CHARACTERISTICS OF PROJECTION OPTICAL SYSTEM DUE TO EXPOSURE HEAT AND ALIGNER例文帳に追加

露光熱による投影光学系の結像特性変動の測定方法及び露光装置 - 特許庁

To provide an aligner which can convey a honeycomb structure and a mask while a position is matched after alignment and can efficiently carry out alignment and a method using the aligner.例文帳に追加

位置合わせ後に位置をあわせた状態でハニカム構造体及びマスクを搬送可能であり、かつ、位置合わせを効率よく行なえる位置合わせ装置及びこれを用いた方法を提供する。 - 特許庁

This aligner connected to a network is provided with a retrieval means, which retrieves a compatible data file or program stored on another aligner 1, a work station 2, or a server 3.例文帳に追加

ネットワークに接続された露光装置１において、他の露光装置１、ワークステーション２、またはサーバ３に記憶されている互換性のあるデータファイルまたはプログラムを検索する検索手段を設ける。 - 特許庁

A space between the lens of an aligner and the upper layer film 14 is filled with an immersion substance 15, and an exposing light is irradiated from the aligner to the resist film 13 through the immersion substance 15 and the upper layer film 14.例文帳に追加

そして、露光機のレンズと上層膜１４との間に液侵物質１５を充填し、露光機から液侵物質１５及び上層膜１４を通してレジスト膜１３に露光光を照射する。 - 特許庁

To provide a scan projection aligner that prevents exposure in a defocus state even if the scan speed of a substrate to exposure light is increased, and a surface position detection method that is used for the scan projection aligner.例文帳に追加

露光光に対する基板の走査速度が速くなる場合でも、デフォーカス状態で露光されるのを防止した走査露光装置及びこの装置に用いる面位置検出方法を提供する。 - 特許庁

FIZEAU LENS, INTERFERENCE MEASURING INSTRUMENT, MANUFACTURING METHOD FOR PROJECTION OPTICAL SYSTEM AND PROJECTION ALIGNER例文帳に追加

フィゾーレンズ、干渉測定装置、干渉測定方法、投影光学系の製造方法、及び投影露光装置 - 特許庁

ARTIFICIAL QUARTZ MEMBER, OPTICAL ELEMENT, OPTICAL SYSTEM, PROJECTION ALIGNER, AND METHOD FOR SELECTING ARTIFICIAL QUARTZ MEMBER例文帳に追加

人工水晶部材、光学素子、光学系、投影露光装置、及び人工水晶部材の選別方法 - 特許庁

POSITION DETECTION APPARATUS AND POSITIONING APPARATUS AND THEIR METHODS, PROJECTION ALIGNER, AND MANUFACTURING METHOD OF DEVICE例文帳に追加

位置検出装置、位置決め装置及びそれらの方法並びに露光装置及びデバイスの製造方法 - 特許庁

In this aligner, the image of a pattern formed on a mask 1 is exposed to a substrate 8 by a projection optical system.例文帳に追加

露光装置は、マスク１に形成されたパターンの像を投影光学系により基板８に露光する。 - 特許庁

The aligner 17 is arranged while being adjacent to the interface block 16 in the substrate treating device 500.例文帳に追加

基板処理装置５００のインターフェースブロック１６に隣接するように露光装置１７が配置される。 - 特許庁

To provide an aligner in which an illumination optical system can be adjusted accurately in a short time.例文帳に追加

照明光学系の調整を短時間に正確に行うことができる露光装置を提供する。 - 特許庁

To provide a load lock device which is strengthened in dustproofness for enhancing the throughput of an aligner.例文帳に追加

発塵対策を強化して露光装置のスループットを高めることができるロードロック装置を提供する。 - 特許庁

To obtain a projection aligner that can accurately align a reticle and a wafer speedily.例文帳に追加

レチクルとウエハとの位置合わせを高速でしかも高精度に行うことができる投影露光装置を得ること。 - 特許庁

To provide an exposure method for improving the throughput and an aligner suited for its embodiment.例文帳に追加

スループットの改善を図ることができる露光方法およびその実施に好適な露光装置を提供する。 - 特許庁

To provide an edge aligner in which the throughput can be enhanced while suppressing increase in size.例文帳に追加

サイズの大型化を抑制しつつもスループットを向上させることができるエッジ露光装置を提供する。 - 特許庁

To provide an optical system and aligner, capable of minimizing astigmatism, and to provide a device manufacturing method.例文帳に追加

非点収差を小さくすることができる光学系、露光装置及びデバイスの製造方法を提供する。 - 特許庁

ALIGNER, METHOD FOR CONTROLLING OUTPUT OF ENERGY SOURCE, LASER USING THE METHOD AND METHOD FOR MANUFACTURING DEVICE例文帳に追加

露光装置、エネルギ源の出力制御方法、該方法を用いるレーザ装置、及びデバイス製造方法 - 特許庁

To obtain an aligner which can machine a precise replica pattern, etc., of an ink jet recording head inexpensively en bloc.例文帳に追加

インクジェット記録ヘッドの精密なレプリカ型等を安価に一括加工できる露光装置を実現する。 - 特許庁

Further, the substrate 7 is exposed plural times by using a second aligner according to the second shot map.例文帳に追加

次に、第２露光装置２２Ｂを用い、第２ショットマップに従い、基板７上に複数回の露光を行う。 - 特許庁

An aligner exposes the pattern of a mask (M) to a photosensitive substrate (W) via a projection optical system (PL).例文帳に追加

マスク（Ｍ）のパターンを投影光学系（ＰＬ）を介して感光性基板（Ｗ）上に露光する露光装置。 - 特許庁

POLYPHASE LINEAR MOTOR, ITS DRIVING METHOD, STAGE DEVICE USING IT, ALIGNER, AND DEVICE MANUFACTURING METHOD例文帳に追加

多相型リニアモータならびにその駆動方法、およびそれを用いたステージ装置、露光装置、デバイス製造方法 - 特許庁

PHASE DETECTION METHOD OF TIME-SERIES DATA, PHASE DETECTION DEVICE, SEMICONDUCTOR PROJECTION ALIGNER, AND PROGRAM STORAGE MEDIUM例文帳に追加

時系列データの位相検出方法、位相検出装置、半導体露光装置およびプログラム記憶媒体 - 特許庁

SEMICONDUCTOR DEVICE, FABRICATION THEREOF, FORMATION OF RESIST PATTERN EMPLOYING IT AND ALIGNER例文帳に追加

半導体装置、半導体装置の製造方法およびそれに用いるレジストパタ—ン形成方法と露光装置 - 特許庁

To perform exposure by increasing the focus measurement accuracy, in a scanning type aligner in a special case, such as a TEG.例文帳に追加

走査型露光装置でＴＥＧ等の特殊なケースにおいて、フォーカス計測精度を上げて露光する。 - 特許庁

To provide a high-precision multiple charged particle beam aligner without raising the performance of a demagnification electronic optical system.例文帳に追加

縮小電子光学系の性能を上げずに、高精度なマルチ荷電粒子線露光装置を提供する。 - 特許庁

LIGHTING OPTICAL DEVICE, MANUFACTURING METHOD THEREOF AND ALIGNER PROVIDED THEREWITH例文帳に追加

照明光学装置、該照明光学装置の製造方法及び該照明光学装置を備えた露光装置 - 特許庁

To provide an exposure method and an aligner which have high accuracy and satisfactory productivity and workability.例文帳に追加

精度良く且つ生産性・作業性が良い露光方法及び露光装置を提供することを目的とする。 - 特許庁