alignerを含む例文一覧と使い方
該当件数 : 2856件
WAVE FRONT MEASURING METHOD AND DEVICE THEREFOR, ADJUSTMENT METHOD OF IMAGING OPTICAL SYSTEM, AND MANUFACTURING METHOD OF SEMICONDUCTOR ALIGNER例文帳に追加
波面測定方法、波面測定装置、結像光学系の調整方法、及び半導体露光装置の製造方法。 - 特許庁
To provide a mask data correction method in consideration of the properties of an actual aligner; a photomask; and a mask data correction program.例文帳に追加
実際の露光装置の特性を考慮したマスクデータの補正方法、フォトマスク、マスクデータの補正プログラムを提供すること。 - 特許庁
A peripheral aligner 1 is provided with an exposing part 2, an ultraviolet ray irradiation part 3, and an electrical part 4 within an enclosure 5.例文帳に追加
周辺露光装置1は、枠体5の内部に露光部2、紫外線照射部3、および電装部4を設けている。 - 特許庁
To provide an electron beam aligner in which a high accuracy of pattern describing position is realized by minimizing lowering of throughput.例文帳に追加
スループットの低下を最小限にして高精度なパターン描画位置精度を実現した電子ビーム露光装置を得る。 - 特許庁
To provide an electron beam aligner which is capable of projecting a pattern accurately on a wafer for exposure with a plurality of electron beams.例文帳に追加
複数の電子ビームにより精度よくウェハにパターンを露光することができる電子ビーム露光装置を提供する。 - 特許庁
To inhibit generation of so-called variation in temperature inside a temperature-regulated chamber for accommodating a projection aligner and other devices.例文帳に追加
露光装置、その他の装置を収容する温調チャンバ内部のいわゆる温度揺らぎの発生を抑制することである。 - 特許庁
A data processing circuit and an aligner for the data processing circuit are installed at a position different from the transfer path of a data unit.例文帳に追加
データユニットの転送経路とは別の位置に、データ処理回路と、このデータ処理回路用のアライナとが備えられる。 - 特許庁
METHOD FOR MANUFACTURING ULTRAVIOLET REGION REFLECTING MIRROR, ULTRAVIOLET REGION REFLECTING MIRROR, AND PROJECTION ALIGNER USING THE SAME例文帳に追加
紫外域用反射ミラーの製造方法並びに紫外域用反射ミラー及びそれを用いた投影露光装置 - 特許庁
To provide a stage apparatus, an aligner, and the like capable of improving the durability of the stage apparatus and positioning precision.例文帳に追加
ステージ装置の耐久性及び位置決め精度の向上を図ることができるステージ装置、露光装置等を提供する。 - 特許庁
An adder 103 corrects the second image data inputted into the aligner 19 by using this correction.例文帳に追加
そして、加算器103が、この補正量を用いて、露光装置19に入力される第2の画像データを補正する。 - 特許庁
A difference between the size of the transparent portion and that of the colorless transparent resin pattern is to be equal to accuracy of alignment of the aligner.例文帳に追加
透明部の寸法と無色透明樹脂パターンの寸法の差が、露光装置の合わせ精度と同一であること。 - 特許庁
SUBSTRATE-RETAINING DEVICE, SUBSTRATE-CARRYING SYSTEM, PROJECTION ALIGNER, COATING DEVICE, DEVICE-MANUFACTURING METHOD, AND SUBSTRATE-RETAINING PART CLEANING METHOD例文帳に追加
基板保持装置、基板搬送システム、露光装置、塗布装置およびデバイス製造方法ならびに基板保持部クリーニング方法 - 特許庁
The aligner is activated (S608) in compliance with the thus-obtained shot correcting parameter and wafer correcting parameter for the accomplishment of exposure (S609).例文帳に追加
得られたショット補正パラメータとウエハ補正パラメータとに応じて、装置ユニットを駆動し(S608)、露光する(S609)。 - 特許庁
To provide an aligner capable of optionally setting the size of a pattern to be formed on a photosensitive substrate at the time of splice exposure.例文帳に追加
継ぎ露光する際、感光基板に形成されるパターンの大きさを任意に設定できる露光装置を提供する。 - 特許庁
The aligner has a substrate placing device 16 on the surface of which a substrate 21 can be attracted by static electricity.例文帳に追加
本発明の露光装置1は、基板21をその表面に静電吸着可能な基板載置装置16を有している。 - 特許庁
To provide a multiple optical fiber aligner capable of controlling optical loss down and suppressing generation of crosstalk between optical fibers.例文帳に追加
光の損失を低く抑制でき、しかも、各光ファイバ間のクロストークが発生し難い多芯光調芯器を提供する。 - 特許庁
To provide an aligner and a system for exposure enabling easier definition of an optimum operating parameter depending on production modes.例文帳に追加
生産形態に応じて最適な動作パラメータを簡便に設定できる露光装置および露光システムを提供する。 - 特許庁
MANUFACTURING METHOD FOR CYLINDER LENS, GRAY SCALE MASK, MANUFACTURING METHOD FOR INTEGRATOR, INTEGRATOR, ILLUMINATION OPTICAL SYSTEM AND PROJECTION ALIGNER例文帳に追加
柱面レンズの製造方法、グレースケールマスク、インテグレータの製造方法、インテグレータ、照明光学系、及び投影露光装置 - 特許庁
To provide a work transfer system with aligner, capable of improving position precision during work transfer using a work transfer robot.例文帳に追加
アライナ装置を備えたワーク搬送システムにおいて、ワーク搬送用ロボットによるワーク搬送時の位置精度の向上を図る。 - 特許庁
The aligner 1 comprises a machine base 10, a delivery arm part 20 of a wafer 3, and a holding clamper 30.例文帳に追加
アライナー装置1は、機台10と、ウェハ3の受渡しアーム部20と保持クランパー30とを有して構成されている。 - 特許庁
To provide a fiducial mark suitable for detecting a mark position accurately and an aligner having such a mark.例文帳に追加
精確なマーク位置検出を行うのに適するフィデューシャルマーク、および、そのようなマークを有する露光装置を提供する。 - 特許庁
In this aligner, a first mirror 91 is arranged, so that its focusing position matches with an incident surface 56b of a light guide rod 56.例文帳に追加
第1ミラー91は、その焦点位置が導光ロッド56の出射面56bと一致するように配置されている。 - 特許庁
To control the movement of outgas between two spaces divided by a partition having an opening in an aligner.例文帳に追加
露光装置において、開口を有する隔壁によって仕切られた2空間の間のアウトガスの移動を制御すること。 - 特許庁
PHOTOMASK HOUSING DEVICE, PHOTOMASK FRAME, PHOTOMASK UNIT, PROJECTION ALIGNER, METHOD FOR PROJECTION ALIGNMENT, AND METHOD OF MANUFACTURING SEMICONDUCTOR DEVICE例文帳に追加
フォトマスク収納装置、フォトマスクフレーム、フォトマスクユニット、投影露光装置、投影露光方法及び半導体装置製造方法 - 特許庁
To provide a charged particle beam aligner in which a Coulomb effect can be reduced without the sacrifice of throughput.例文帳に追加
スループットを低下させることなくクーロン効果を低減させることができる荷電粒子線露光装置を提供する。 - 特許庁
ACTUATOR, GAP MEASURING APPARATUS, NONCONTACT COPYING APPARATUS, SIX DEGREE OF FREEDOM TABLE DRIVER, ALIGNER AND METHOD FOR FABRICATING DEVICE例文帳に追加
アクチュエータ、ギャップ測定装置、非接触倣い装置、6自由度テーブル駆動装置、露光装置、及びデバイスの製造方法 - 特許庁
The wafer 5 is taken out of the cassette 2 by a robot hand 3a at the end of the transfer mechanism 3 to be transferred to an aligner.例文帳に追加
ウェハー5は搬送機構3の先端のロボットハンド3aよってカセット2から取り出され、アライナー4に搬送される。 - 特許庁
To perform evaluation and abnormality detection of a fine pattern formed on a semiconductor wafer and an aligner which exposed that pattern.例文帳に追加
半導体ウエハ上に形成された微細パターン及びそれを露光した露光装置の評価と異常検知を行う。 - 特許庁
ELECTRON BEAM EXPOSURE MASK, ELECTRON BEAM EXPOSURE METHOD USING THIS, ELECTRON BEAM ALIGNER AND MANUFACTURE OF DEVICE例文帳に追加
電子線露光用マスク及びこれを用いる電子線露光方法と電子線露光装置並びにデバイスの製造方法 - 特許庁
To provide an aligner and an exposure method capable of performing alignment with no visual field obstructed by a photomask.例文帳に追加
フォトマスクに視野を妨げられることなくアライメントを行なうことができる露光装置および露光方法を提供する。 - 特許庁
CORE FOR ELECTROMAGNETIC ACTUATOR, ELECTROMAGNETIC ACTUATOR, STATE APPARATUS USING THE SAME, ALIGNER AND SEMICONDUCTOR DEVICE MANUFACTURING METHOD例文帳に追加
電磁アクチュエータ用コア、電磁アクチュエータ、これを用いたステージ装置および露光装置、並びに半導体デバイスの製造方法 - 特許庁
ELECTRON BEAM OPTICAL AXIS POSITIONING METHOD, ELECTRON BEAM OPTICAL AXIS POSITIONING APPARATUS AND ELECTRON BEAM PROXIMITY ALIGNER例文帳に追加
電子ビーム光軸位置調整方法および電子ビーム光軸位置調整装置、ならびに電子ビーム近接露光装置 - 特許庁
An aligner apparatus 10 is provided with a linear scan camera 2, a displacement sensor 6, a camming follow-up mechanism 3, and an eccentricity follow-up mechanism 4.例文帳に追加
アライナ装置10に、リニアスキャンカメラ2、変位センサ6、面振追従機構3、偏心追従機構4を設けた。 - 特許庁
OPTICAL CHARACTERISTIC MEASUREMENT MASK, OPTICAL CHARACTERISTIC MEASUREMENT METHOD, ADJUSTMENT METHOD OF PROJECTION OPTICAL SYSTEM AND MANUFACTURING OF ALIGNER例文帳に追加
光学特性計測用マスク、光学特性計測方法、投影光学系の調整方法、及び露光装置の製造方法 - 特許庁
The aligner exposes a plurality of shot regions on a substrate coated with a photosensitive agent one after another through a projecting optical system.例文帳に追加
露光装置は、感光剤が塗布された基板の複数のショット領域を投影光学系を介して順に露光する。 - 特許庁
This is an aligner which projects and transfers the image of the pattern of a mask 1 on a substrate 2 through a projective optical system 3.例文帳に追加
マスク1のパターンの像を投影光学系3を介して基板2上に投影転写する露光装置である。 - 特許庁
To obtain a wave front aberration measuring method and a projection aligner which can measure precisely the wave front aberration at a high speed for grasping imagery performance of a projection optical system which is changed by an exposing load and environmental change in the projection aligner.例文帳に追加
投影露光装置において、露光負荷や環境変化により変化する投影光学系の結像性能を把握する為、波面収差を精度良く、かつ、高速に計測することのできる波面収差測定方法及び投影露光装置を得ること。 - 特許庁
The placement/cooling units P-CP serve both as a function for temporarily placing the substrate W before exposure treatment by an aligner 17, and a cooling function (temperature preservation function) for matching the temperature of the substrate W to that in the aligner 17.例文帳に追加
この載置兼冷却ユニットP−CPは、露光装置17による露光処理前の基板Wを一時的に載置する機能と、基板Wの温度を露光装置17内の温度に合わせるための冷却機能(温度維持機能)とを兼ね揃えている。 - 特許庁
To enable an ultra-fine element structure to be manufactured by a lithography method and an ion etching method by manufacturing an electron beam aligner with a linear high density electron beam source or an X-ray aligner with a linear high brightness X-ray source.例文帳に追加
線状高密度電子線源を有する電子線露光装置、あるいは、線状高輝度X線源を有するX線露光装置を作製することにより、超微細な素子構造を、リソグラフィ法およびイオンエッチング法により作製可能とすること。 - 特許庁
To provide an aligner capable of highly accurately printing by ensuring the transmittance of exposing light and the uniformity of the transmittance in a gap on the upper surface of a reticle or a wafer in the aligner using UV- light as the exposing light.例文帳に追加
露光光として紫外光を用い、露光装置内のレチクルあるいはウエハの上面の隙間における露光光の透過率および透過率の均一性を確保でき、高精度な焼付けを行なうことが可能な露光装置を提供する。 - 特許庁
To provide an exposure method, an aligner, and semiconductor devices manufactured using the aligner, where even with a plurality of aligners, the effects of nonlinear errors generated between the aligners is reduced as much as possible.例文帳に追加
複数台の露光装置を用いた場合においても、露光装置間に生じる非線形誤差による影響を可能な限り小さくすることのできる、露光方法、露光装置およびその露光装置を用いて製造された半導体装置を提供する。 - 特許庁
To provide a member for semiconductor aligner used appropriately for a supporting member where a member to be exposed is mounted for high- speed drive, with less loading, while hard to vibrate, on a drive system even at fast movement, even with a larger aligner.例文帳に追加
露光装置の大型化に対して、高速移動した場合においても駆動系への負荷が小さく且つ振動しにくく、被露光部材を搭載し高速駆動される支持部材などに好適に使用される半導体露光装置用部材を提供する。 - 特許庁
In the notch aligner, the wafer supports 94a and the ring holder 20 displace relatively in a perpendicular direction so that each wafer support passes the cutout of the ring holder 20, thereby attaching or detaching the wafer W to/from the ring holder 20 in the notch aligner.例文帳に追加
ノッチアライナにおいて、各ウエハ支持部がリングホルダ20の切り欠きを通過する様にこれらウエハ支持部94aとリングホルダ20とが鉛直方向に相対変位する事により、ノッチアライナにてリングホルダ20に対するウエハWの着脱が行われる。 - 特許庁
To provide a shutter blade device which minimizes a deformation because of its own weight and a deformation of a shutter blade during a rotational operation, to provide a shutter unit using this, to provide an imaging apparatus and an aligner using this, and to provide a device manufacturing method using this aligner.例文帳に追加
自重変形と回転動作中におけるシャッタ羽根の変形を極小に抑えるシャッタ羽根装置、これを用いるシャッタユニット、これを用いる撮像装置および露光装置、この露光装置を用いるデバイス製造方法を提供する。 - 特許庁
To provide an aligner capable of stably installing a drive source unit even when conditions for installing it are different and shortening a connecting cable as possible in the aligner connected to the drive source unit via the cable.例文帳に追加
駆動源装置に接続ケーブルを介して接続された露光装置において、装置の設置される条件が異なっても駆動源装置を安定して設置することができ、接続ケーブルを可能な限り短くすることができる露光装置を提供する。 - 特許庁
An aligner head 32 of an aligner 30 is moved by driving thrust force 150 kgf, thereby, the roughly aligned and bonded color filters substrate 11 and array substrate 12 are made smoothly slidable and movable with each other and the time for the alignment regulation is shortened.例文帳に追加
アライナ30のアライナヘッド32を駆動推進力150kgfで動かす事により、粗く位置合わせして貼り合せたカラーフィルタ基板11とアレイ基板12とを相互にスムースにスライド移動可能とし、アライメント調整時間の短縮を図る。 - 特許庁
To provide a color light source for an aligner capable of being adapted to a compact color aligner which can irradiate color lights of red, green and blue in an overlapped manner to a continuously moving exposure object with a high degree of precision and without causing a color shift and image blurring.例文帳に追加
連続的に移動する露光体に対して、赤、緑、青色の各カラー光を、色ずれと結像ぼけ無しで精度よ重ねて照射することができる小型のカラー露光装置に適用可能な露光装置用カラー光源を提供すること。 - 特許庁
To provide an aligner in which a lens tube which holds a reduction projection lens and a reduction projection optical system can be protected against distortion, static deformation or wobbling, vibrations and the like when the reduction projection optical system is mounted on the aligner body.例文帳に追加
縮小投影光学系を露光装置本体に搭載する際に、縮小投影レンズを保持する鏡筒および縮小投影光学系への歪みの発生、静変形やウオブリング、振動の発生等を防ぐことができる露光装置を提供する。 - 特許庁
To provide a wafer carrying process unit wherein the carrying work of a robot and the notch alignment work of an aligner device can be processed concurrently.例文帳に追加
ロボットの搬送作業とアライナ装置のノッチ合せ作業が同時処理できるウエハー搬送工程ユニットを提供する。 - 特許庁
METHOD OF MANUFACTURING MASTER DISK FOR MANUFACTURING OPTICAL RECORDING MEDIUM, ALIGNER AND MASTER DISK FOR MANUFACTURING OPTICAL RECORDING MEDIUM, AND OPTICAL RECORDING MEDIUM例文帳に追加
光記録媒体製造用原盤の製造方法、露光装置、並びに光記録媒体製造用原盤および光記録媒体 - 特許庁
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