「aligner」に関連した英語例文の一覧と使い方(33ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide a projection aligner in which the advantage of reduced wavelength can be utilized actually.例文帳に追加

低減された波長の利点を実際に活用することを可能にする投影露光装置を提供すること。 - 特許庁

BEAM TRANSDUCER ELEMENT, ILLUMINATION OPTICAL SYSTEM USING THE BEAM TRANSDUCER ELEMENT, ALIGNER, LASER PROCESSING MACHINE AND PROJECTION DEVICE例文帳に追加

ビーム変換素子、該ビーム変換素子を用いた照明光学系、露光装置、レーザ加工機及び投射装置 - 特許庁

COIL-MANUFACTURING METHOD AND DEVICE, ELECTROMAGNETIC MOTOR, PROJECTION ALIGNER, AND DEVICE MANUFACTURING APPARATUS例文帳に追加

コイルの製造方法およびコイル製造装置ならびに電磁モータ、露光装置およびデバイスの製造方法 - 特許庁

STENCIL MASK AND ITS MANUFACTURING METHOD, ALIGNER AND EXPOSURE METHOD, AND METHOD FOR MANUFACTURING ELECTRONIC DEVICE例文帳に追加

ステンシルマスクおよびその製造方法、露光装置および露光方法、並びに電子装置の製造方法 - 特許庁

SUBSTRATE CHUCK, ALIGNER, MANUFACTURE OF DEVICE, SUBSTRATE CONVEYING SYSTEM AND METHOD FOR CONVEYING SUBSTRATE例文帳に追加

基板チャック、露光装置およびデバイス製造方法ならびに基板搬送システムおよび基板搬送方法 - 特許庁

IMMERSION PROJECTION ALIGNER MOUNTING CLEANING MECHANISM OF OPTICAL COMPONENT, AND IMMERSION OPTICAL COMPONENT CLEANING METHOD例文帳に追加

光学部品の洗浄機構を搭載した液浸投影露光装置及び液浸光学部品洗浄方法 - 特許庁

METHOD AND DEVICE OF MEASURING WAVEFRONT ABERRATION, PROJECTION ALIGNER, AND METHOD OF MANUFACTURING PROJECTION OPTICAL SYSTEM例文帳に追加

波面収差測定方法、波面収差測定装置、投影露光装置、投影光学系の製造方法 - 特許庁

SUBSTRATE HOLDING DEVICE, ALIGNER HAVING THE SAME, EXPOSURE METHOD, METHOD FOR PRODUCING DEVICE, AND LIQUID REPELLENT PLATE例文帳に追加

基板保持装置及びそれを備える露光装置、露光方法、デバイス製造方法、並びに撥液プレート - 特許庁

Therefore, a spread angle of projection beam of an aligner is made variable in the range of 5 to 8 [mrad], for example.例文帳に追加

したがって、露光装置の投影ビームの開き角を、例えば、５〜８［ｍｒａｄ］の範囲で可変とする。 - 特許庁

BLIND DRIVE METHOD, LIGHTING REGION CONTROLLER, SCANNING EXPOSURE METHOD, AND SCANNING ALIGNER例文帳に追加

ブラインド駆動方法と照明領域規制装置および走査型露光方法並びに走査型露光装置 - 特許庁

REFLECTION OPTICAL ELEMENT, LIGHTING OPTICAL DEVICE HAVING THE SAME, PROJECTION ALIGNER, AND DEVICE MANUFACTURING METHOD例文帳に追加

反射型光学素子及び該光学素子を備える照明光学装置、投影露光装置、デバイス製造方法 - 特許庁

TRANSFER ALIGNER, AND MASK HOLDING MECHANISM USED FOR THAT DEVICE, AND MANUFACTURING METHOD OF SEMICONDUCTOR ELEMENT例文帳に追加

転写型露光装置および該装置に使用されるマスク保持機構、および半導体素子の製造方法。 - 特許庁

A reticle stage 11 of an electron beam aligner is provided with a plurality of reticle-mounting sections 41 and 43.例文帳に追加

本発明の電子線露光装置のレチクルステージ１１は複数のレチクル搭載部４１、４３を有する。 - 特許庁

A projection system mirror cylinder 28 in the aligner is composed of a laminated plurality of frame bodies 45.例文帳に追加

露光装置において、投影系鏡筒２８は積層された複数の枠体４５で構成されている。 - 特許庁

SOFT X-RAY REDUCTION PROJECTION ALIGNER, SOFT X-RAY REDUCTION PROJECTION EXPOSURE METHOD, AND PATTERN FORMATION METHOD例文帳に追加

軟Ｘ線縮小投影露光装置、軟Ｘ線縮小投影露光方法及びパターン形成方法 - 特許庁

To provide an aligner by which the alignment of exposing patterns is realized in the manufacture of a build-up wiring board or the like.例文帳に追加

ビルドアップ配線板等の製造における露光パターンのアライメントを実現させた露光装置を得る。 - 特許庁

To provide an optical component, a lens system and a projection aligner hardly causing clouding and clouding irregularity.例文帳に追加

曇りや曇りムラが発生しにくい光学部品、レンズ系、及び投影露光装置を提供すること。 - 特許庁

To provide a maskless aligner of which exposure time is shortened by reducing light absorption at a liquid-crystal reticle.例文帳に追加

マスクレス露光装置に関し、液晶レティクルにおける光吸収を低減して、露光時間を短縮する。 - 特許庁

To correct imaging error of a projection aligner while attaining high projection efficiency.例文帳に追加

投影露光装置の結像誤差を、高い投影効率を達成しながら補正することができるようにする。 - 特許庁

DRIVING APPARATUS AND DRIVING METHOD, POSITION DETECTING APPARATUS AND ALIGNER USING IT, AND DEVICE MANUFACTURING METHOD例文帳に追加

駆動装置及び方法、それを用いた位置検出装置及び露光装置並びにデバイス製造方法 - 特許庁

To provide an aligner and an exposure method for improving focus accuracy and throughput.例文帳に追加

フォーカス精度を向上させ、かつスループットを向上させる露光装置および露光方法を提供する。 - 特許庁

ALIGNER AND ITS METHOD, METHOD FOR MANUFACTURING THEREOF, MANUFACTURING PLANT OF SEMICONDUCTOR AND MAINTAINING METHOD FOR THE EXPOSURE DEVICE例文帳に追加

露光装置、露光方法、デバイス製造方法、半導体製造工場および露光装置の保守方法 - 特許庁

To provide an edge aligner for improving the throughput, while limiting the increase in the size of the system.例文帳に追加

サイズの大型化を抑制しつつもスループットを向上させることができるエッジ露光装置を提供する。 - 特許庁

To provide an aligner which has resistance to exposure light and liquid immersion even when exposure to an edge shot is performed.例文帳に追加

エッジショットの露光を行っても、露光光及び液浸水に耐性のある露光装置を提供する。 - 特許庁

ALIGNMENT METHOD AND OVERLAY MEASURING METHOD IN LITHOGRAPHY PROCESS, ALIGNER, AND OVERLAY MEASURING INSTRUMENT例文帳に追加

リソグラフィ工程におけるアライメント方法およびオーバレイ測定方法、露光装置およびオーバレイ測定装置 - 特許庁

To provide a temperature control system having high safety and productivity, and to provide an aligner incorporating the system.例文帳に追加

安全でかつ生産性の高い温調システム及びそれを組み込んだ露光装置を提供すること - 特許庁

ADJUSTMENT METHOD OF ILLUMINANT DEVICE AND ILLUMINANT DEVICE, EXPOSURE METHOD AND ALIGNER AND DEVICE MANUFACTURING METHOD例文帳に追加

光源装置の調整方法及び光源装置、露光方法及び露光装置、並びにデバイス製造方法 - 特許庁

The respective wafer input to the aligner 10 is allocated to a plurality of processing stems of the aligner 10 so that the wafer processed by the same processing system of the CMP apparatus 20 may be processed by either of two processing systems 11 and 12 of the aligner 10, and the wafer is subjected to exposure in the respective processing system.例文帳に追加

露光装置１０に投入されたロットの各ウエハは、ＣＭＰ装置２０の同一の処理系で処理されたウエハは、露光装置１０の２つの処理系１１、１２のいずれか同一の処理系で処理されるように、露光装置１０の複数の処理系に割り振られ、各処理系において露光処理が行われる。 - 特許庁

To obtain an aligner which can obtain high resolution at high transmittance by using an exposure light having a short wavelength.例文帳に追加

短波長の露光光を用いて、高い透過率で高い解像力を得ることのできる露光装置。 - 特許庁

To inspect and correct fault due to wave aberration after a multilayer mirror for EUV aligner is formed.例文帳に追加

ＥＵＶ露光装置用多層膜ミラーの作成後に波面収差の不具合を検査及び修正する。 - 特許庁

To provide an alignment method of a semiconductor aligner enabling performing alignment more surely.例文帳に追加

より確実にアライメントを行うことが可能となる半導体露光装置のアライメント方法を提供する。 - 特許庁

The wafer where up to precedent development is performed is carried in the aligner 12, and superposition measurement is performed.例文帳に追加

先行現像まで行われたウエハを露光装置１２に搬送して、重ね合わせ測定を行なう。 - 特許庁

TEMPERATURE-CONTROLLED FLUID SUPPLYING APPARATUS, ALIGNER COMPRISING THE APPARATUS, AND METHOD OF MANUFACTURING SEMICONDUCTOR DEVICE例文帳に追加

温度制御流体供給装置、及びその装置を備える露光装置と半導体デバイス製造方法 - 特許庁

BLANKING APERTURE ARRAY DEVICE AND ITS MANUFACTURING METHOD, SEMICONDUCTOR ELEMENT MANUFACTURING METHOD AND ELECTRON BEAM ALIGNER例文帳に追加

ブランキング・アパーチャ・アレイ・デバイスおよびその製造方法、半導体素子製造方法、電子ビーム露光装置 - 特許庁

METHOD OF MANUFACTURING PHOTOMASK FOR EVALUATING ALIGNER, SAME PHOTOMASK, AND METHOD OF EVALUATING ABERRATION例文帳に追加

露光装置評価用フォトマスクの製造方法、露光装置評価用フォトマスクおよび収差評価方法 - 特許庁

PHOTOMASK, ALIGNER, LIQUID CRYSTAL PANEL MEMBER, DEVICE AND METHOD FOR MANUFACTURING LIQUID CRYSTAL PANEL MEMBER例文帳に追加

フォトマスク、露光装置、液晶パネル部材、液晶パネル部材の製造装置、液晶パネル部材の製造方法 - 特許庁

PROJECTION MASK, ELECTRON BEAM EXPOSURE METHOD, ELECTRON BEAM ALIGNER, SEMICONDUCTOR DEVICE AND PRODUCTION METHOD FOR SEMICONDUCTOR DEVICE例文帳に追加

投影マスク、電子線露光方法、電子線露光装置、半導体装置及び半導体装置の製造方法 - 特許庁

ELECTRON BEAM ALIGNER, ELECTRON BEAM EXPOSURE METHOD, METHOD FOR MANUFACTURING SEMICONDUCTOR ELEMENT, MASK, AND MASK MANUFACTURING METHOD例文帳に追加

電子ビーム露光装置、電子ビーム露光方法、半導体素子製造方法、マスク、及びマスク製造方法 - 特許庁

To provide a projection aligner for microlithography having an illumination system, a reflection reticle and reduction lenses.例文帳に追加

照明系、反射レチクル及び縮小レンズを有するマイクロリソグラフィーの投影露光装置を提供する。 - 特許庁

The present pattern layer is exposed in the main lot by setting the displacement compensation coefficient to the aligner.例文帳に追加

位置ずれ補正係数を露光装置に設定して、本体ロットで現在のパターンレイヤの露光を行う。 - 特許庁

ALIGNER AND EXPOSING METHOD OF RADIATION-SENSITIVE LAYER FORMED USING CHARGED PARTICLES, AND MASK THEREFOR例文帳に追加

荷電粒子による放射線感応層の露光装置および方法、ならびにこの目的のためのマスク - 特許庁

SCANNING ALIGNER EXPOSURE METHOD USED THEREFOR, AND STORAGE MEDIUM HAVING STORED ITS CONTROL PROGRAM例文帳に追加

走査型露光装置及びそれに用いる露光方法並びにその制御プログラムを記録した記録媒体 - 特許庁

To provide an aligner which can quickly exchange a wafer and can improve the throughput.例文帳に追加

素早くウエハの交換を行うことができ、スループットの向上を図ることができる露光装置を提供する。 - 特許庁

MANUFACTURE OF STEP-DIFFERENCE COIL, THE STEP-DIFFERENCE COIL, LINEAR MOTOR, STAGE EQUIPMENT, ALIGNER AND MANUFACTURE OF DEVICE例文帳に追加

段差付きコイル製造方法、段差付きコイル、リニアモ—タ、ステ—ジ装置、露光装置ならびにデバイス製造方法 - 特許庁

METHOD AND APPARATUS FOR MEASURING INTERFERENCE, MANUFACTURING METHOD FOR OPTICAL SYSTEM, AND PROJECTION ALIGNER例文帳に追加

干渉測定方法及び干渉測定装置、並びに光学系の製造方法及び投影露光装置 - 特許庁