alignerを含む例文一覧と使い方
該当件数 : 2856件
REFLECTING MEMBER, METHOD OF ADJUSTING THE SAME, ALIGNER METHOD OF MANUFACTURING THE SAME, AND METHOD OF MANUFACTURING MICRODEVICE例文帳に追加
反射部材及びその調整方法、露光装置及びその製造方法、並びにマイクロデバイスの製造方法 - 特許庁
To provide a weight-reduced aligner having a stage system that can make highly accurate scanning and positioning.例文帳に追加
高精度の走査・位置決めを行うことのできるステージ装置を有し、軽量化された露光装置を提供する。 - 特許庁
To provide a charged particle beam projection aligner that can improve throughput, and can restrain cost in a mask and a device.例文帳に追加
スループットの向上が可能で、マスクと装置のコストの抑制が可能な荷電ビーム露光装置を提供する。 - 特許庁
To provide an aligner wherein the image of a spatial light modulation element can be accurately projected on an imaging surface.例文帳に追加
空間光変調素子の像を結像面に正確に投影することができる露光装置を提供する。 - 特許庁
MEASURING DEVICE, MEASURING METHOD, ALIGNER AND EXPOSURE METHOD HAVING THE SAME, AND METHOD FOR MANUFACTURING DEVICE USING THE SAME例文帳に追加
測定装置、測定方法及びそれを有する露光装置及び露光方法、それを利用したデバイス製造方法 - 特許庁
To enhance transfer accuracy significantly by cleaning the surface of an aligner in the exposure chamber.例文帳に追加
露光室内の装置の表面を清浄化することにより、転写精度を大幅に向上できるようにする。 - 特許庁
To provide an aligner and exposure method for operating exact exposures, even if a circuit pattern is extremely fine.例文帳に追加
非常に微細な回路パターンであっても、正確な露光が可能な露光装置及び露光方法を提供する。 - 特許庁
A linear illuminator using an end LED and a linear light transmission body is used as a destaticization aligner.例文帳に追加
除電露光装置として端部LEDと線状導光体を用いた線状照明装置を用いる。 - 特許庁
The aligner projects the image of a specified pattern on a substrate P through a liquid 1 to expose the substrate.例文帳に追加
露光装置は、所定パターンの像を液体1を介して基板Pに投影することによって基板を露光する。 - 特許庁
METHOD FOR DRIVING OPTICAL MODULATION ELEMENT, OPTICAL MOUNTING ELEMENT, ALIGNER AND FLAT DISPLAY DEVICE BOTH USING THE ELEMENT例文帳に追加
光変調素子の駆動方法及び光変調素子並びにそれを用いた露光装置、平面表示装置 - 特許庁
Next, other wafer where a resist film is applied within an application unit 11 is carried in the aligner 12, and the resist film is exposed.例文帳に追加
次に、塗布ユニット11でレジスト膜を塗布した他のウエハを露光装置12に搬入し、レジスト膜を露光する。 - 特許庁
PROJECTION OPTICAL SYSTEM AND ITS MANUFACTURING METHOD, ALIGNER AND ITS MANUFACTURING METHOD, AND MANUFACTURING METHOD OF MICRO DEVICE例文帳に追加
投影光学系及びその製造方法、露光装置及びその製造方法、並びにマイクロデバイスの製造方法 - 特許庁
To provide a motor device for transmitting polyphase signal power, and to provide an aligner having the motor apparatus.例文帳に追加
多相信号電力の伝送を行うモータ装置及び、そのモータ装置を備えた露光装置を提供する。 - 特許庁
IMAGE PICKUP DEVICE, ITS MANUFACTURING METHOD, ALIGNMENT DEVICE, ALIGNER, ABBERATION MEASURING INSTRUMENT, AND METHOD OF MANUFACTURING THE DEVICE例文帳に追加
撮像装置、撮像装置の製造方法、位置合わせ装置、露光装置、収差測定装置、およびデバイス製造方法 - 特許庁
OPTICAL DETECTION DEVICE, OPTICAL CHARACTERISTIC ADJUSTING DEVICE, OPTICAL CHARACTERISTIC ADJUSTING METHOD, ALIGNER, AND METHOD OF MANUFACTURING DEVICE例文帳に追加
光学検出装置、光学特性調整装置、光学特性調整方法、露光装置、及びデバイスの製造方法 - 特許庁
To provide an aligner in which lowering of uniformity in illuminance of light irradiating a reticle can be corrected easily.例文帳に追加
レチクルに照射する光の照度の均一性低下を容易に補正することができる露光装置を提供する。 - 特許庁
To provide a reticle allowing an electrostatic chuck to be applied even to a substrate made of glass and an aligner using the same.例文帳に追加
基板にガラスを用いても静電チャックを行い得るレチクル及びそれを用いた露光装置を提供する。 - 特許庁
POSITION DETECTING METHOD, POSITION ADJUSTING METHOD, SCANNING EXPOSURE METHOD AND SCANNING ALIGNER THEREOF, AND DEVICE MANUFACTURE例文帳に追加
位置検出方法、位置調整方法、走査露光方法及び走査型露光装置並びにデバイス製造方法 - 特許庁
SURFACE POSITION DETECTOR AND MANUFACTURING METHOD, ALIGNER AND MANUFACTURING METHOD AND MANUFACTURING METHOD OF MICRODEVICE例文帳に追加
面位置検出装置及びその製造方法、露光装置及びその製造方法、並びにマイクロデバイスの製造方法 - 特許庁
POSITION DETECTING MARK AND ITS DETECTION METHOD, AND MANUFACTURE OF DIFFFRACTION OPTIC ELEMENT, OPTICAL SYSTEM AND ALIGNER例文帳に追加
位置検出マークおよびその検出方法ならびに回折光学素子、光学系および露光装置の製造方法 - 特許庁
SUBSTRATE SUCTION HOLDING DEVICE, ALIGNER USING THE SUBSTRATE SUCTION HOLDING DEVICE AND MANUFACTURE OF THE DEVICE例文帳に追加
基板吸着保持装置および該基板吸着保持装置を用いた露光装置ならびにデバイスの製造方法 - 特許庁
SUBSTRATE RETAINER, ALIGNER, METHOD FOR MANUFACTURING DEVICE AND METHOD FOR MAINTAINING SEMICONDUCTOR MANUFACTURING PLANT AND EQUIPMENT例文帳に追加
基板保持装置、露光装置、デバイス製造方法、半導体製造工場および半導体製造装置の保守方法 - 特許庁
To accurately transfer a pattern having lines of minute dimensions which exceed the resolution of a projection aligner or a space.例文帳に追加
露光装置の解像度を上回る微細な寸法のラインまたはスペースを有するパターンを高精度に転写する。 - 特許庁
When the mounting error is brought about after the aligner 10 is mounted to the imaging apparatus 1, a correcting amount optimum among correcting amounts formed on the basis of the quantities of light of the aligner 10 at the measuring positions A, B and C stored in the storage part 14 is applied to adjust the exposure amount of each LED 11 of the aligner 10.例文帳に追加
露光装置10を画像形成装置1に装着後に装着誤差が生じた場合には、記憶部14に記憶されている測定位置A、B、およびCにおける露光装置10の光量に基づいて作成される補正量のうち最適な補正量を適用して露光装置10の各LED11の露光量を調整する。 - 特許庁
In this denture producing device, the artificial tooth aligner is attached to the prescribed part of an articulator, the artificial tooth aligner is provided with a shifting instrument for artificial teeth and at least one of an inclination angle and a vertical level is made adjustable for the shifting instrument.例文帳に追加
咬合器の所定部位に人工歯排列器が取りつけられ、その人工歯排列器が人工歯用のシフト器具を有し、そのシフト器具は、傾斜角度と上下レベルの少なくとも一方が調整可能になっている義歯製作装置。 - 特許庁
A 0-system frame aligner part 4c and a 1-system frame aligner part 4d in a device on a receiving side 4 has a frame alignment function and respectively read 0-system data and 1-system data to the position of a pointer value '522' which is always to frames behind.例文帳に追加
受信側装置4における0系フレームアライナ部4c及び1系フレームアライナ部4dはフレームアライメント機能を有し、固定的に2フレーム後のポインタ値「522」の位置へ0系データ及び1系データをそれぞれ読出す。 - 特許庁
A heating section for heat-treating an exposed substrate is provided in a development processing block 4, thus preventing thermal influence to the projection aligner STP by interposing an interface block 5 between the heating section and the projection aligner STP.例文帳に追加
露光された基板を加熱処理する加熱部を現像処理ブロック4に設けることにより、この加熱部と露光装置STPとの間にインターフェイスブロック5を介在させて、露光装置STPに熱的影響が及ばないようにする。 - 特許庁
In an aligner, temperature sensors 44A, 44B, and 44C are respectively attached to fine adjustment stage 42A for reticle, an alignment system ALG, and a Z-tilt stage 58 constituting a body 100 of the aligner and, at the same time, an environment sensor unit ES is provided in a chamber 11.例文帳に追加
露光装置本体100を構成するレチクル微動ステージ42A、アライメント系ALG及びZチルトステージ58に温度センサ44A、44B、44Cを取付けるとともに、チャンバ11内に環境センサユニットESを設けている。 - 特許庁
To obtain a mask, an aligner, and an electron beam dimensional drift correction method, where a variable forming electron beam drawing system can be corrected on the dimensional drift of a forming beam without lowering the aligner in throughput.例文帳に追加
本発明は、可変成形電子ビーム描画方式の成形ビームの寸法ドリフト補正をスループットを低下させることなく実行できるマスクならびに露光装置および電子ビーム寸法ドリフト補正方法を得ることを課題とする。 - 特許庁
To provide a device for purging an ultraviolet ray path in an aligner partially effectively by inert gas in the aligner that applies a mask pattern to a photosensitive substrate via a projection optical system by using ultraviolet rays as exposure light.例文帳に追加
露光光として紫外光を用い、マスクのパターンを投影光学系を介して感光基板に照射する露光装置において、露光装置内の紫外光路を不活性ガスで部分的に有効にパージする装置を開発する。 - 特許庁
To provide an aligner having merits that gas used in a vacuum chamber can be exhausted in a short period of time, and the deterioration of the degree of vacuum can be restrained in the vacuum chamber, or the like, and to provide an aligner having the exhaust apparatus.例文帳に追加
真空チャンバー内で使用される気体を短時間に排気することができる、あるいは、真空チャンバー内の真空度の悪化を抑制できる等の利点を有する排気装置と、それを有する露光装置とを提供する。 - 特許庁
To successively reduce alignment failures at use of a mobile aligner, without generating decrease in IC chip yield or the like.例文帳に追加
ICチップ収率などの減少を招くことなく、逐次移動式露光装置を用いる際のアライメント不良を低減する。 - 特許庁
To provide an aligner and an exposure method for carrying out photolithography by practical throughput and small resolution.例文帳に追加
フォトリソグラフィーを実用的なスループットと小さな解像度によって行なうための露光装置及び露光方法を提供する。 - 特許庁
To provide an aligner device in which a chipped portion in a wafer can be detected with high accuracy in a wafer edge grip method.例文帳に追加
ウエハのエッジグリップ方式においてウエハの切欠部の検出を精度良く行えるアライナ装置を提供すること。 - 特許庁
As the buffering mechanism (25), a spring 25 is interposed as a resilient member between the mask holder 13 and the aligner body 14.例文帳に追加
該緩衝機構(25)として、マスクホルダー13と装置本体14との間に弾性部材としてのバネ25を配置する。 - 特許庁
The aligner also measures the surface position of a wafer by irradiating a device portion DPk on which a pattern is formed with light ILY.例文帳に追加
また、パターンが形成されたデバイス部分DPkに照明光IL_Yを照射してウェハの表面位置を計測する。 - 特許庁
To provide an aligner which can prevent the deterioration of throughput and can reduce costs, and provide a method for manufacturing a device.例文帳に追加
スループットの悪化の防止とコストダウンを図ることができる露光装置及びデバイスの製造方法を提供すること。 - 特許庁
To provide a mask capable of suppressing an exposure defect, a stage device, an aligner, an exposure method, and a device manufacturing method.例文帳に追加
露光不良を抑制できるマスク、ステージ装置、露光装置、露光方法及びデバイス製造方法を提供すること。 - 特許庁
To provide an aligner simultaneously attaining highly accurate drawing and prevention of particle scattering in a carrier part.例文帳に追加
高精度な描画と、搬送部でのパーティクル散乱の防止とを同時に達成することができる露光装置を提供する。 - 特許庁
The peripheral aligner 1 is made as a unit, and it can be piled up vertically together with other board processing units.例文帳に追加
周辺露光装置1は、ユニット化されており、他の基板処理ユニットと上下方向に積層配置することができる。 - 特許庁
To provide an aligner which can accurately control the flatness of the pattern forming surface of an original plate (reticle).例文帳に追加
原版(レチクル)のパターン形成面の平坦度を高精度で制御できる露光装置及び露光方法を提供する。 - 特許庁
To obtain good light quantity of an optical system by improving the transmittance of a lens system of an aligner.例文帳に追加
本発明では、露光装置のレンズ系の透過率を向上させ良好な光学系の光量を得ることを目的とする。 - 特許庁
To enable an optical system to be lessened in aberration even if it has a large NA in an aligner provided with a light source of short wavelengths.例文帳に追加
短波長の光源を用いる露光装置において、NAが大きい場合にも光学系の収差を小さくする。 - 特許庁
STAGE AND ITS DRIVING METHOD, ALIGNER AND EXPOSURE METHOD, AND DEVICE AND ITS MANUFACTURING METHOD例文帳に追加
ステージ装置の駆動方法及びステージ装置並びに露光装置及び露光方法並びにデバイス及びデバイスの製造方法 - 特許庁
To expose light with an optimum light exposure amount in the early stage, even when the fluctuation of a substrate, flickering of an aligner, or the like occur.例文帳に追加
下地の変動や露光装置の揺らぎ等が生じた場合でも、早期に最適露光量で露光を行なう。 - 特許庁
In addition, highly accurate exposure is possible by reducing the vibration effects, with the aligner which is provided with this stage device.例文帳に追加
また、このステージ装置を備えた露光装置では、振動の影響を極力低減して、高精度な露光が可能となる。 - 特許庁
In the aligner 10, airflow is generated in a main unit chamber 200 by a fan 221 in an environment control unit 220.例文帳に追加
露光装置10においては、環境制御部220のファン221により本体チャンバ200内に気流が生成される。 - 特許庁
MOTOR, STAGE, ALIGNER, DEVICE, DRIVING METHOD OF MOTOR AND STAGE, EXPOSURE METHOD, AND MANUFACTURING METHOD OF DEVICE例文帳に追加
モータ装置、ステージ装置、露光装置、デバイス、モータの駆動方法、ステージ装置の駆動方法、露光方法、および、デバイスの製造方法 - 特許庁
To provide an exposure method and an aligner, where superposition accuracy between patterns that are exposed using a beam is improved.例文帳に追加
ビームを使用して露光するパターン間の重ねあわせ精度を向上させる露光方法と露光装置を提供する。 - 特許庁
X-RAY MASK, X-RAY ALIGNER, X-RAY EXPOSURE METHOD, AND SEMICONDUCTOR MANUFACTURED THEREBY例文帳に追加
X線マスク、X線露光装置、X線露光方法およびこのX線露光方法で製造された半導体装置 - 特許庁
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