「aligner」に関連した英語例文の一覧と使い方(34ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide an artificial tooth aligner with which even a person who is not an expert can efficiently perform alignment according to a general alignment theory corresponding to the shape and size of the teeth of a patient, and to provide a denture producing device provided with the aligner.例文帳に追加

熟練者でなくとも、患者の歯の形と大小に応じ、一般的な排列理論に沿った排列が効率よく行える人工歯排列器及びそれを備えた義歯製作装置を提供する。 - 特許庁

To provide a proximity scan aligner capable of precisely performing exposure without any irregularities in the exposure by fixing illuminance between respective light sources by restraining variations in an illuminometer, and to provide a method of controlling the proximity scan aligner.例文帳に追加

照度計のバラツキを抑えることにより各光源間の照度を一定にすることにより、露光むら無く高精度に露光を行うことができる近接スキャン露光装置及びその制御方法を提供する。 - 特許庁

To provide a small-sized UV(ultra-violet) laser device which can generate stably UV rays having both sufficient output and low coherency as a light source of an aligner or the like, and is easy of maintenance, and the aligner.例文帳に追加

露光装置等の光源として充分な出力と低コヒーレンスとを兼ね備えた紫外光を、安定して発生することができ、かつ小型でメインテナンスの容易な紫外レーザ装置及び露光装置を提供する。 - 特許庁

To prevent the lowering of the throughput of an aligner while preventing exposing work from being hindered by fine dust adhering to a reticle (mask) used for EUV lithography after the reticle (mask) is introduced into the aligner.例文帳に追加

ＥＵＶリソグラフィに用いられるレチクル（マスク）を露光装置内に導入した後に、レチクルに微細なゴミが付着することにより露光作業に支障をきたすことを防ぎつつ、露光装置のスループット低下を防止する。 - 特許庁

Furthermore, the maintenance information of the aligner is data communicated via a computer network by equipping the aligner with a display, a network interface and the computer to execute the software for the network.例文帳に追加

さらに、本発明の露光装置に、ディスプレイと、ネットワークインタフェースと、ネットワーク用ソフトウェアを実行するコンピュータとを設けることにより、露光装置の保守情報をコンピュータネットワークを介してデータ通信することが可能となる。 - 特許庁

To provide a concentric circular aligner which is capable of protecting a wafer against chipping when the wafer is attached to the aligner, reducing misalignment or erroneous alignment, and more accurately aligning and attaching a circular wafer and a circular carrier.例文帳に追加

ウェーハの粘着時に破片の発生を防止すると共に、位置合わせのずれ及び誤差を減少して、円形ウェーハ及び円形キャリアをより精確に位置合わせ粘着することができる同心円アライナの提供。 - 特許庁

To provide an aligner and an alignment method which can achieve higher-precision alignment by compensating the measurement precision of a base line quantity as an aligner equipped with an off-axis type alignment system and its alignment method.例文帳に追加

オフ・アクシス方式のアライメント系を備えた露光装置及びそのアライメント方法に関し、ベースライン量の計測精度を補償してより高精度でアライメントができる露光装置及びアライメント方法を提供する。 - 特許庁

The aligner for the data processing circuit is configured to align the address of the data unit input to the aligner so that non-transfer object data is prevented from being included in the leading section of the aligned data unit.例文帳に追加

データ処理回路用のアライナは、アライン後のデータユニットの先頭部分に非転送対象のデータが含まれることが無いように、このアライナに入力されたデータユニットのアドレスをアラインするよう構成されている。 - 特許庁

A difference information between an ideal lattice in an aligner 20A as a section area arrangement reference and a section area arrangement on a reference wafer in an aligner 20B as a section area arrangement reference is obtained beforehand.例文帳に追加

露光装置２０Ａにおける区画領域の配列基準である理想格子と露光装置２０Ｂにおける区画領域の配列基準である基準ウエハ上の区画領域の配列との誤差情報を予め求める。 - 特許庁

After the apparatus is adjusted using an aligner 19A so that a charged particle beam passes through the center of an aperture stop 14, an aligner 19B is adjusted to find an adjustment point where illumination uniformity is minimum (uneven illumination is minimum).例文帳に追加

アライナ１９Ａを用いて、荷電粒子線が開口絞り１４の中心を通るように調整した後、アライナ１９Ｂを調整して、照明一様性が最小（照明むらが最小）となる調整点を見つける。 - 特許庁

To enable easy operation even for an inexperienced operator of aligner, by reducing operation load of an operator during adjustment recognition operation and installation of an aligner and restraining troubles caused by misoperations.例文帳に追加

露光装置の調節確認作業や設置時のオペレータの作業負荷を減らし、オペレーションミスによるトラブルの発生を抑制し、露光装置の操作に熟練した人でなくても、簡単に操作が行なえるようにする。 - 特許庁

An aligner has a mask-holding part 8, and a pellicle-holding part 9 or a pellicle support part 10.例文帳に追加

露光装置にマスク保持部８と、ペリクル保持部９ないしペリクル支持部１０とを備えることを特徴とする。 - 特許庁

To provide an aligner and an exposure method to which measures are taken to prevent a foreign substance from adhering to a reticle.例文帳に追加

レチクルに異物が付着しにくくなるような対策を加えた露光装置及び露光方法を提供する。 - 特許庁

ILLUMINATION DEVICE AND ILLUMINATION METHOD, AND ALIGNER WITH THE ILLUMINATION DEVICE AND DEVICE MANUFACTURING METHOD BY MEANS OF THEM例文帳に追加

照明装置と照明方法、および該照明装置を備えた露光装置とこれらによるデバイス製造方法 - 特許庁

ILLUMINATION DEVICE AND ILLUMINATION METHOD, AND ALIGNER WITH THE ILLUMINATION DEVICE AND MANUFACTURING METHOD OF DEVICE BY MEANS OF THEM例文帳に追加

照明装置と照明方法、および該照明装置を備えた露光装置とこれらによるデバイスの製造方法 - 特許庁

ALIGNER, SEMICONDUCTOR THIN FILM, THIN-FILM TRANSISTOR, LIQUID CRYSTAL DISPLAY, EL DISPLAY, AND METHOD OF MANUFACTURING THE SAME例文帳に追加

露光装置、半導体薄膜、薄膜トランジスタ、液晶表示装置、ＥＬ表示装置およびその製造方法 - 特許庁

To increase a degree of freedom in spatial designing of an illumination optical system and a projection optical system in an EUV aligner.例文帳に追加

ＥＵＶ露光装置において、照明光学系、投影光学系の空間的設計自由度を向上する。 - 特許庁

To provide an exposure method capable of reducing arraying errors so as to effectively use the shot area of an aligner.例文帳に追加

露光装置のショットエリアを有効に使用できるように配列誤差の低減が可能な露光方法を提供する。 - 特許庁

The main body 18 of an EUV aligner is installed in the vacuum chamber 17 and performs EUV exposure.例文帳に追加

真空チャンバ１７の内部には、ＥＵＶ露光装置の本体１８が設置されていて、ＥＵＶ露光を行う。 - 特許庁

LATENT IMAGE FORMING METHOD, LATENT IMAGE DETECTING METHOD, EXPOSURE METHOD, DEVICE ALIGNER, RESIST AND SUBSTRATE例文帳に追加

潜像形成方法及び潜像検出方法及び露光方法及びデバイス及び露光装置及びレジスト及び基板 - 特許庁

The size and orientation of the wafer 5 are detected by the aligner 4 so as to be adjusted aligning in a fixed oriented position.例文帳に追加

アライナー４によってウェハー５のサイズと向きが検出され、常に一定の向きになるように調整される。 - 特許庁

To provide an electronic beam aligner which is capable of projecting a pattern on a wafer very accurately for exposure with an electron beam.例文帳に追加

電子ビームにより精度よくウェハにパターンを露光することができる電子ビーム露光装置を提供する。 - 特許庁

To provide an aligner in which a photo-mask can be appropriately held on a mask holder with a simple configuration.例文帳に追加

簡単な構成により、フォトマスクをマスクホルダに適切に保持させることのできる露光装置を提供する。 - 特許庁

OPTICAL CHARACTERISTICS MEASUREMENT METHOD, ADJUSTMENT AND EXPOSURE METHOD OF PROJECTION OPTICAL SYSTEM, AND MANUFACTURING METHOD OF ALIGNER例文帳に追加

光学特性計測方法、投影光学系の調整方法及び露光方法、並びに露光装置の製造方法 - 特許庁

ACTIVE VIBRATION REMOVING DEVICE, APPARATUS AND METHOD FOR CONTROLLING USING SPEED SENSOR, ALIGNER AND METHOD FOR MANUFACTURING DEVICE例文帳に追加

能動的除振装置、速度センサを用いた制御装置および方法、露光装置ならびにデバイス製造方法 - 特許庁

To provide a stage device using a non-electromagnetic actuator having a simple structure and excellent controllability and to provide an aligner.例文帳に追加

構造が単純で、制御性に優れた非電磁アクチュエータを用いたステージ装置及び露光装置を提供する。 - 特許庁

POSITION DETECTING METHOD, OPTICAL CHARACTERISTIC MEASURING METHOD, OPTICAL CHARACTERISTIC MEASURING EQUIPMENT, ALIGNER AND METHOD FOR MANUFACTURING DEVICE例文帳に追加

位置検出方法、光学特性測定方法、光学特性測定装置、露光装置、及びデバイス製造方法 - 特許庁

To provide a wafer conveyance device which can position a wafer accurately and test it without using an aligner.例文帳に追加

アライナーを使用しなくても、ウエハを正確に位置決めして検査することができるウエハ検査装置を提供する。 - 特許庁

METHOD FOR MANUFACTURING PROJECTION OPTICAL SYSTEM AND PROJECTION OPTICAL SYSTEM, AND PROJECTION ALIGNER HAVING THE PROJECTION OPTICAL SYSTEM例文帳に追加

投影光学系の製造方法及び投影光学系、並びに該投影光学系を有する投影露光装置 - 特許庁

PROCESS FOR FABRICATING OPTICAL ELEMENT, OPTICAL ELEMENT, ALIGNER, ALIGNING METHOD, AND PROCESS FOR FABRICATING DEVICE HAVING MICROPATTERN例文帳に追加

光学素子の製造方法、光学素子、露光装置、露光方法、および微細パターンを有するデバイスの製造方法 - 特許庁

To accurately transfer a pattern having a line of minute dimensions which exceed the resolution of a projection aligner or space.例文帳に追加

露光装置の解像度を上回る微細な寸法のラインまたはスペースを有するパターンを高精度に転写する。 - 特許庁

ALIGNER USING LIGHT SHADING MEANS, EXPOSURE METHOD, MANUFACTURING METHOD FOR THIN-FILM TRANSISTOR AND DISPLAY DEVICE AND ELECTRONIC EQUIPMENT例文帳に追加

遮光手段を用いた露光装置、露光方法、薄膜トランジスタの製造方法、表示装置及び電子機器 - 特許庁

To provide an aligner which can implement various kinds of self- measurement without using specialized original plate for measurement.例文帳に追加

専用の計測用原版を用いることなく、各種自己計測を行うことが可能な露光装置を提供する。 - 特許庁

To optimize a parameter value used in global alignment of an aligner during a mass production operation.例文帳に追加

露光装置のグローバルアライメントにおいて用いられるパラメータ値を、量産稼働中に最適化することを可能とする。 - 特許庁

To provide an aligner or the like improving pattern formation accuracy by improving a method for holding a reflection mirror.例文帳に追加

反射鏡の保持方法に改良を加え、パターン形成精度を向上できる露光装置等を提供する。 - 特許庁

To measure image forming performance (for example, wavefront aberrations) of the projection optical system of a projection aligner.例文帳に追加

投影露光装置において投影光学系の結像性能（例えば、波面収差）を計測することを可能にする。 - 特許庁

To provide a circuit board which can obtain superior exposure characteristic and an aligner equipped with the circuit board.例文帳に追加

優れた露光特性を得ることができる回路基板及びこの回路基板を備える露光装置を提供する。 - 特許庁

To realize high precision exposure by preventing the contamination of a lens due to liquid in a liquid immersion aligner.例文帳に追加

液浸式の露光装置において、液体によるレンズの汚染を防止して、精度の高い露光を実現すること。 - 特許庁

To provide an aligner for adjusting the illuminance of a surface to be exposed to light while uniformizing the intensity distribution of light.例文帳に追加

光の強度分布を一様としながら露光対象面の照度を調整する露光装置を提供する。 - 特許庁

WAVEFRONT ABERRATION MEASUREMENT METHOD, ADJUSTMENT AND EXPOSURE METHODS OF PROJECTION OPTICAL SYSTEM, AND MANUFACTURING METHOD OF ALIGNER例文帳に追加

波面収差計測方法、投影光学系の調整方法及び露光方法、並びに露光装置の製造方法 - 特許庁

ALIGNMENT METHOD, ALIGNMENT SUBSTRATE, MANUFACTURING METHOD OF ALIGNMENT SUBSTRATE, EXPOSURE METHOD, ALIGNER AND MANUFACTURING METHOD OF MASK例文帳に追加

アライメント方法、アライメント基板、アライメント基板の製造方法、露光方法、露光装置およびマスクの製造方法 - 特許庁

CARRYING-PROCESS LAYOUT METHOD, COMPOSITE-FUNCTION ROBOT, AND CLAMPING TYPE ALIGNER DEVICE HAVING COMPLETELY HERMETIC STRUCTURE例文帳に追加

搬送工程レイアウト方法並び複合機能ロボット及び完全密閉構造を成したクランプ方式アライナ装置。 - 特許庁

The aligner device has a machine base 10, a delivery arm 20 of the wafer 3, and a holding clamper 30.例文帳に追加

アライナー装置１は、機台１０と、ウェハ３の受け渡しアーム部２０と保持クランパ３０とを有して構成する。 - 特許庁

MICRO ACTUATOR, MICRO ACTUATOR ARRAY, MICRO ACTUATOR ARRANGEMENT, OPTICAL DEVICE, DISPLAY, ALIGNER, AND METHOD OF MANUFACTURING DEVICE例文帳に追加

マイクロアクチュエータ、マイクロアクチュエータアレー、マイクロアクチュエータ装置、光学デバイス、表示装置、露光装置、及びデバイス製造方法 - 特許庁

Then, the substrate 7 is exposed plural times by using a first aligner according to the first shot map.例文帳に追加

次に、第１露光装置２２Ａを用い、第１ショットマップに従い、基板７上に複数回の露光を行う。 - 特許庁