「casting method」に関連した英語例文の一覧と使い方(106ページ目) - Weblio英語例文検索

An anodic oxidation treatment method for a piston made of the aluminum alloy consists of a process for forming the anodically oxidized film 16 on the aluminum alloy 10 containing Si 12, 13, 14 with an electrolyte mixed with phosphate and fluoride, a process for impregnating the micropores 18 of the anodically oxidized film 16 with a photosetting resin and a process for curing the photosetting resin by casting light thereto.例文帳に追加

アルミニウム合金製ピストンの陽極酸化処理方法は、りん酸塩並びにふっ化物を混合した電解液でＳｉ１２，１３，１４を含むアルミニウム合金１０に陽極酸化皮膜１６を生成する工程と、陽極酸化皮膜１６の微細な孔１８…に液状の光硬化性樹脂２０を含浸する工程と、この光硬化性樹脂２０に光を当てて硬化する工程とからなる。 - 特許庁

In the solution film forming method for manufacturing the cellulose acetate film by casting a cellulose acetate solution prepared by dissolving cellulose acetate in an organic solvent, an organic compound, which has reactivity with respect to an alkali metal compound and an alkaline earth metal compound and has solubility preventing the precipitation of salts of an alkali metal and an alkaline earth metal formed by reaction, is added to the cellulose acetate solution.例文帳に追加

上記課題は、セルロースアセテートを有機溶媒に溶解したセルロースアセテート溶液を流延してフィルムを製造する方法において、アルカリ金属化合物およびアルカリ土類金属化合物に対し反応性を有し、かつ反応によって生成するアルカリ金属およびアルカリ土類金属の塩が該溶液から析出しない溶解度を有する有機化合物を含有せしめることを特徴とするセルロースアセテートフィルムの溶液製膜方法によって解決される。 - 特許庁

The layer A and the layer B are laminated by a co-extrusion film-forming method and at the same time a surface of the layer A side is equipped with a design pattern formed by using an embossing roller as a casting roller.例文帳に追加

Ａ層：所定のＰＢＴ系樹脂および所定のポリエステル系樹脂からなる樹脂層、Ｂ層：所定のポリエステル系樹脂を主体としてなる樹脂層、Ｃ層：所定のポリエステル系樹脂を主体としてなる樹脂層、Ｄ層：所定のＰＢＴ系樹脂を含有してなる樹脂層、Ａ層とＢ層とを共押出し製膜法により積層すると同時に、キャスティングロールとしてエンボスロールを用いることにより形成された柄意匠をＡ層側表面に備えている。 - 特許庁

In the method for making the silicon casting mold in which the releasing agent film is formed on its inner surface, the releasing agent film contains silicon nitride 201 and amorphous fine silica 202 obtained by heating treatment by jetting silicon tetrachloride into high temperature flame of hydrogen gas and oxygen gas, and the fine silica 202 is mixed with the above silicon nitride 201 to be 10 to 90 wt.% in the mixture.例文帳に追加

鋳型内表面に離型材皮膜を形成するシリコン鋳造用鋳型の製造方法であって、上記離型材皮膜は窒化珪素２０１と、水素ガスと酸素ガスとの高温火炎中に四塩化珪素を噴射して加熱処理して得られる非晶質微細シリカ２０２とを含有してなり、この微細シリカ２０２を上記窒化珪素２０１との総量の１０〜９０重量％となるように混合してなることを特徴とする。 - 特許庁

The method for shot-blasting the workpiece having the grooves includes a step of removing large burrs formed on the outside of the workpiece by casting projectiles toward the workpiece while turning the workpiece, and a step of removing inside foreign substances formed inside the grooves of the workpiece by jetting the shots toward the workpiece while making compressed air blow into the grooves of the workpiece.例文帳に追加

溝部を有する被処理製品のショットブラスト方法であって、被処理製品の外側に形成された大きなバリを除去するため、被処理製品を回転させ投射材を被処理製品に投射する外部バリ除去工程と、被処理製品の溝部の内部に形成された異物を除去するため、圧縮エアで被処理製品の溝部の内部へブローしながら投射材を被処理製品に投射する内部バリ除去工程とを含んでいる。 - 特許庁

In the method for manufacturing the semiconductor ingot by solidifying a semiconductor melt 9 containing a first dopant material regulating a first conduction type in the prescribed direction within a casting mold, the liquid surface of the semiconductor melt 9 in the solidification process is measured and the semiconductor raw material having the first dopant concentration lower than that of the semiconductor melt is supplied into the semiconductor melt according to the measured value.例文帳に追加

第一導電型を規定する第一ドーパント材を含有する半導体融液９を、鋳型内で所定方向に凝固させてなる半導体インゴットの製造方法において、前記凝固過程における前記半導体融液９の液面を測定し、該測定値に応じて前記半導体融液の第一ドーパント濃度よりも第一ドーパント濃度が低い半導体原料を、前記半導体融液中に供給することとする。 - 特許庁

In the method where the slab of white cast iron obtained by casting molten iron having a componential composition satisfying [%C]<4.3-1.3x[%Si],例文帳に追加

［％Ｃ］＜４．３−１．３ｘ［％Ｓｉ］、［％Ｃ］＞１．７、［％Ｓｉ］＜２．０を満たす成分組成の溶鉄を水冷銅鋳型を用いた連続鋳造機で鋳造して得られた白鋳鉄の鋳片を、固液共存状態まで加熱した後、ダイカスト装置に装入し、金型内に射出して成型する方法において、所望の成型体の断面積最小部の形状に応じて、金型内の当該最小部における充填速度を調整することを特徴とする鉄のダイカスト成型方法。 - 特許庁

In this composite roll for hot rolling obtained by welding and integrating an external layer material and an internal layer material by a centrifugal casting method, the external layer material has a componential composition containing, by weight, 1.4 to 2.7% C, 0.3 to 1.0% Si, 0.3 to 1.0% Mn, ≤1.0%例文帳に追加

外層材と内層材とを遠心鋳造法によって溶着一体化させてなる熱間圧延用複合ロールであって、前記外層材の成分組成が重量％で、Ｃ：１．４〜２．７％、Ｓｉ：０．３〜１．０％、Ｍｎ：０．３〜１．０％、Ｎｉ：１．０％以下、Ｃｒ：５．０〜１２．０％、Ｍｏ：３．０〜１０．０％、Ｗ：２．０〜６．０％、Ｖ＋Ｎｂ：２．５％以下を含有すると共に、残部が実質的にＦｅから成り、且つ次の（１）式と（２）式を満足する。 - 特許庁

The method for manufacturing the polycarbonate optical retardation film having 40 to 350 nm retardation in the plane direction measured at 550 nm wavelength includes a process of forming a film to produce a film by flow casting a solution of a polycarbonate resin, a stretching process to stretch the produced film at least in one direction to obtain a stretched oriented film, and a heat treatment process to heat-treat the stretched film under low tensile condition.例文帳に追加

また、波長５５０ｎｍで測定した面内レターデーション値が４０〜３５０ｎｍであるポリカーボネート系位相差フィルムの製造方法において、ポリカーボネート系樹脂の溶液を流延製膜して膜を作製する製膜工程と、作製された膜を少なくとも一方向に延伸して延伸フィルムを得る延伸工程と、前記延伸フィルムを低張力条件下で熱処理する熱処理工程とを含むことを特徴とするポリカーボネート系位相差フィルムの製造方法である。 - 特許庁

The method for manufacturing the flat membrane includes producing the membrane by a dry-type micro-phase separation method and casting a coasting solution in a form of a solid flat plate with micro irregularities.例文帳に追加

平膜の素材はセルロース誘導体およびそれをケン化した再生セルロース多層構造膜で、平均孔径が５ｎｍ〜５００ｎｍ膜厚は４０μｍ〜５００μｍ、空孔率０．７以上で１００層以上の積層体で１層の厚さが０．０５μｍ〜０．５μｍである膜を設計し、かつ膜の平均孔径の２倍の平均粒子径を持つ微粒子の平膜の表裏面での濾過による粒子捕捉量の比が１／５以下で１／１００以上であることを特徴とする平膜と、該平膜を作製する方法において乾式法のミクロ相分離法で製膜し、流延用溶液をミクロな凹凸を持つ固体平板状に流延することを特徴とする製膜方法を採用すれば該平膜が作製できる。 - 特許庁

The electromagnetic casting method for silicon ingot includes charging a silicon material into a non-bottom cooling crucible having electric conductivity and arranged in a chamber maintained by an inert gas atmosphere, melting the silicon material by electromagnetic induction heating from an induction coil surrounding a non-bottom cooling crucible, and solidifying the molten silicon material while pulling it down from the non-bottom cooling crucible.例文帳に追加

不活性ガス雰囲気に維持されるチャンバー内に配置した導電性を有する無底冷却ルツボにシリコン原料を投入し、無底冷却ルツボを囲繞する誘導コイルからの電磁誘導加熱によりシリコン原料を融解させ、この溶融シリコンを無底冷却ルツボから引き下げながら凝固させてシリコンインゴットを鋳造する方法において、リンがドープされたシリコンインゴットの鋳造を行ったチャンバー内を清掃する際に不活性ガス雰囲気の温度を２００℃以下にした状態でチャンバーを開放して清掃することを特徴とする。 - 特許庁

A method has a rough rolling stage where a rough-rolled steel sheet is obtained by performing the rough rolling of a slab manufactured by continuous casting and a finish rolling stage where a hot-rolled sheet is obtained by hot-rolling the rough rolled steel sheet with a finishing mill which is constituted of a plurality of rolling stands.例文帳に追加

連続鋳造により作製されたスラブを粗圧延して粗圧延鋼板を得る粗圧延工程と、粗圧延鋼板を複数の圧延スタンドからなる仕上げ圧延機で熱間圧延して熱延鋼板を得る仕上げ圧延工程とを有し、前記仕上げ圧延工程は、各圧延スタンドを通過後の鋼板の表面温度Ｔ（℃）と、当該鋼板表面に接触する雰囲気中の酸素濃度Ｍ（体積％）の関係が、下記数式（１）を満たすように、前記鋼板の表面温度Ｔと前記酸素濃度Ｍを調整する。 - 特許庁

The method of manufacturing the dielectric sheet includes: forming an embossed pattern formed of a thermoplastic material on a carrier film; forming a dielectric sheet by casting dielectric slurry onto the carrier film to cover the embossed pattern; removing the carrier film and the embossed pattern to leave an intaglio pattern having the shape corresponding to the embossed pattern on the dielectric sheet; and filling the intaglio pattern of the dielectric sheet with a conductive material.例文帳に追加

本発明の一側面にかかる誘電体シートの製造方法は、キャリアフィルム上に熱可塑性物質からなる陽刻パターンを形成する段階と、上記キャリアフィルム上に上記陽刻パターンを覆うように誘電体スラリーをキャスティングして誘電体シートを形成する段階と、上記陽刻パターンに対応する形状を有する陰刻パターンが上記誘電体シートに残るように上記キャリアフィルムと上記陽刻パターンを除去する段階と、上記誘電体シートの上記陰刻パターンに導電性物質を充填する段階を含む。 - 特許庁