| 例文 |
chamber methodsの部分一致の例文一覧と使い方
該当件数 : 26件
SUBSTRATE CLEANING CHAMBER, AND CLEANING AND CONDITIONING METHODS例文帳に追加
基板洗浄チャンバ、洗浄及びコンディショニング方法 - 特許庁
Methods for processing a biological sample and methods of making a sample chamber array are also provided.例文帳に追加
生物学的サンプルを処理する方法およびサンプルチャンバアレイを作製する方法もまた提供される。 - 特許庁
METHODS AND APPARATUS FOR PROCESSING SEMICONDUCTOR WAFER USING PLASMA PROCESSING CHAMBER IN WAFER TRACK ENVIRONMENT例文帳に追加
ウェーハトラック環境内のプラズマ処理チャンバを用いて半導体ウェーハを処理する方法及び装置 - 特許庁
Further, using various methods, the front chamber 40 may be moved on or into the main chamber 30.例文帳に追加
さらに、前方チャンバ40は、様々な方法を用いて、主チャンバ30上又は主チャンバ30内に前方チャンバ40を移動しても良い。 - 特許庁
There are also provided the centrifuge having such the rotor chamber, and methods for reducing the sound emanating from the rotor chamber of the centrifuge, in particular the air-cooled laboratory centrifuge.例文帳に追加
かかるロータ室を有する遠心機、及び遠心機特に空冷実験用遠心機の前記ロータ室から発散する音を低減する方法。 - 特許庁
Methods of increasing the pressure in the treatment chamber include a method of supplying a purge gas, and a method of supplying a treatment gas.例文帳に追加
工程チャンバ内部の圧力を増加させる方法には、パージガスを供給する方法と、工程ガスを供給する方法がある。 - 特許庁
To reduce consumed power due to wasteful lighting in controlling the lighting of a heating chamber by corresponding to various using methods of a user.例文帳に追加
加熱室内の照明の制御について,ユーザの多様な使用方法に対応し,無駄な点灯による電力消費を低減する。 - 特許庁
Exemplary methods and apparatus comprise a thermocatalytic hydrogen generation reactor which includes a reaction chamber containing a catalyst-coated substrate, and a combustion chamber containing a catalyst-coated substrate.例文帳に追加
典型的な方法および装置は、触媒によって覆した担体を含んでいる反応室、および触媒によって被覆した担体を含んでいる燃焼室を備える熱触媒水素発生器からなる。 - 特許庁
The manufacturing method can form a plurality of layers with the different methods while keeping a sucked vacuum state in one chamber 111.例文帳に追加
1つのチャンバー111内で真空真空吸引状態を維持した状態で、異なる方法による複数の層を形成することができる。 - 特許庁
The present invention relates to the methods for preparing nucleic acids from a template nucleic acid by amplifying a sample nucleic acid with a PCR, wherein after a primary thermocycles in a first amplifying chamber, a partial amount of the reaction mixture is being subjected to a secondary thermocycles in a second amplifying chamber which has a smaller volume than the first amplifying chamber.例文帳に追加
鋳型核酸試料をPCRで増幅するに際して、第一増幅チャンバー内での一次温度サイクル数をかけられた後、部分量の当該反応混合物が、第一増幅チャンバーよりも容積の小さい第二増幅チャンバー内で二次温度サイクル数にかけられる。 - 特許庁
The application of the AD method to the formation of the pressure chamber 52 improves the machining precision of the pressure chamber 52 and permits dimensional precision difficult to attain by other processing methods such as etching and realizes a variety of shapes of pressure chambers.例文帳に追加
圧力室52の形成にAD法を適用すると、圧力室52の加工精度を上げることができると共にエッチングなど他の加工方法では困難な寸法精度が可能になり、様々な圧力室形状を実現できる。 - 特許庁
To provide a method and an apparatus for regulating wet-bulb temperature inside a wood drying chamber that enable easy control of wet-bulb temperature inside the wood drying chamber by means of high-temperature steam, while making significant improvements to energy losses as compared with conventional control methods.例文帳に追加
高温蒸気を用いて、木材乾燥室内の湿球温度の制御が容易に行え、かつ従来の制御方法に比べてエネルギーロスを大幅に改善できる木材乾燥室の湿球温度の調整方法および調整装置の提供。 - 特許庁
To provide a detector which detects the diffusion of a volatile organic compound or the like convertible to the result from an FLEC method, a chamber method or other methods with a simple device.例文帳に追加
簡単な装置でFLEC法やチャンバー法、あるいはその他の方法での結果に換算可能な揮発性有機化合物等の放散量を検出するための検出装置を提供する。 - 特許庁
In the carrying/supporting methods, a sputtering system 100 is used wherein the system includes a chamber 104 having a decompression chamber 101, a target holder 102 and an object holder 103, a superconducting magnet 105 provided at the rear side of the target holder 102, and a freezer 108 which cools the superconductive magnet 105 to cryogenic temperatures.例文帳に追加
減圧室101とターゲットホルダ102と対象物ホルダ103とをもつチャンバ104と、ターゲットホルダ102の裏側に設けられた超電導磁石105と、超電導磁石105を極低温に冷却する冷凍機108とをもつスパッタ装置100を用いる。 - 特許庁
Conventional spray-drying methods are improved by incorporation of a pressure nozzle and a diffuser plate to improve the flow of drying gas, and extension of a drying chamber to increase drying time.例文帳に追加
従来の噴霧乾燥法が、圧力ノズル及び乾燥用ガスの流れを改良するために拡散板を組込み、さらに乾燥時間を増加するために乾燥室を伸長することによって改良された。 - 特許庁
Various methods are used for automatic handling of workpieces, in order to use plural plasma treatment chambers on one base, and to charge and discharge the workpieces in and from the chamber.例文帳に追加
1つのベース上で複数のプラズマ処理チャンバを使用すること、および複数のプラズマ処理チャンバに装填し、取り出すために工作物を自動的に取り扱うことに関して、様々な方法がある。 - 特許庁
To provide methods for depositing on a substrate in a process chamber an insulating thin film of nitrofluorinated silicate glass(NFG) which has lower dielectric constant and better adhesion properties than those of fluorosilicate glass.例文帳に追加
フルオロケイ酸塩ガラスより薄膜の誘電率が低くかつ接着特性が良好である、プロセスチャンバ内で基板上にニトロフッ化ケイ酸塩ガラスの絶縁薄膜を堆積する方法を提供する。 - 特許庁
The method is preferably carried out in a three-chamber apparatus and enables shorter production cycles, more economical use of energy, and favorable variation of the surface properties of honeycomb bodies, as compared with previous methods.例文帳に追加
この方法は好ましくは3チャンバの装置内で実行され、以前の方法に比べ製造サイクルの短縮、より経済的なエネルギの利用、およびハニカム体の表面特性の多様化が可能になる。 - 特許庁
To provide an oil extraction system which is capable of easily recovering PCB insulating oil from a transformer without secondary contamination due to PCB by a method other than methods of forming an isolated chamber.例文帳に追加
隔離室を形成する以外の仕方で、PCBによる二次汚染を引き起こすことなく、PCB絶縁油を変圧器から簡便に回収することのできる抜油システムを提供することである。 - 特許庁
These systems and methods can include retrieving the first wafer from the cassette 32 by using the first arm 18; delivering the first wafer to the process chamber 16 using the first arm 18; removing the processed wafer from the process chamber 16 using the second arm 30; and returning the processed wafer to the cassette 32 using the second arm.例文帳に追加
これらのシステム及び方法は、第1アーム18を用いて第1ウエハをカセット32から取り出し、第1アーム18を用いて第1ウエハを処理チャンバ16に移載し、第2アーム30を用いて処理済みウエハを処理チャンバ16から除去し、第2アームを用いて処理済みウエハをカセット32に返却してもよい。 - 特許庁
To provide a frequency-adjusting apparatus that can efficiently adjust a frequency by switching between two frequency-adjusting methods in a single chamber, the two frequency-adjusting methods being a frequency-adjusting method of increasing a resonance frequency of a piezoelectric vibrator to a target frequency and a frequency-adjusting method of reducing a resonance frequency of the piezoelectric vibrator to the target frequency.例文帳に追加
圧電振動子の共振周波数を、高くして狙い周波数に合せ込む周波数調整方法、および低くして狙い周波数に合せ込む周波数調整方法の二種類の周波数調整方法を備え、1つのチャンバー内で切り替えることにより、効率のよい周波数調整を実現する周波数調整装置。 - 特許庁
Methods for forming graded dielectric layers include supplying a nitrogen-containing source gas at a declining flow rate or concentration, while supplying an oxygen-containing source gas at rising flow rate or concentration, to a deposition chamber.例文帳に追加
傾斜誘電体層を形成する方法は堆積室に、下降流量または濃度で窒素含有原料ガスを供給する一方で、上昇流量または濃度で酸素含有原料ガスを供給するステップを含む。 - 特許庁
The vacuum processing apparatus has a plurality of control methods, and includes a means for determining whether the transfer robot is rate-controlling or the chamber is rate-controlling based on the processing time of the workpiece and switching to a control method corresponding to the rate-controlling section.例文帳に追加
複数の制御方法を備え、被処理体の処理時間から搬送ロボットが律速となるか、処理室が律速となるかを判定し、その律速する部位に応じた制御方法に切り替える手段を備えた真空処理装置を提供する。 - 特許庁
To provide a piezoelectric film actuator increasing a displacement amount of a diaphragm even if it has a simple structure and the same drive voltage, and also to provide: a droplet jetting device providing a displacement amount required for jetting a liquid and stably jetting liquid droplets by using the piezoelectric film actuator even if a pressure chamber is miniaturized; and methods for manufacturing the actuator and the device.例文帳に追加
単純な構造で、かつ同じ駆動電圧でも振動板の変位量を大きくできる圧電膜型アクチュエータ、および、その圧電膜型アクチュエータを用いて、圧力室が小型化されても液体噴射に必要な変位量が得られ、かつ安定した液滴噴射が可能な液滴噴射装置、さらにそれらの製造方法を提供すること。 - 特許庁
In particular, the invention provides apparatus and methods for limiting deposition/condensation of GaCl_3 and reaction by-products on an isolation valve that is used in the system, and a method for forming a monocrystalline Group III-V semiconductor material by reacting an amount of a gaseous Group III precursor as one reactant with an amount of a gaseous Group V component as another reactant in a reaction chamber.例文帳に追加
特に、本発明は、システムで使用される隔離弁上のGaCl_3及び反応副生成物の堆積/凝縮を抑制する装置及び方法と、1つの反応物質としてのある量の気体状第III族前駆体と別の反応物質としてのある量の気体状第V族成分とを反応チャンバ内で反応させることによって、単結晶第III−V族半導体材料を形成する方法を提供する。 - 特許庁
PENETRATION STRUCTURE OF CONNECTION LINE IN AIR-TIGHT CHAMBER, DISCHARGE APPARATUS COMPRISING THE SAME, PRODUCTION METHODS FOR LIQUID CRYSTAL DISPLAY APPARATUS, ORGANIC EL DEVICE, ELECTRON DISCHARGE APPARATUS, PDP APPARATUS, ELECTROPHORESIS DISPLAY APPARATUS, COLOR FILTER, AND ORGANIC EL, AND FORMATION METHOD FOR SPACER, METAL WIRING, LENS, RESIST, AND LIGHT DIFFUSION BODY例文帳に追加
気密チャンバにおける接続ラインの貫通構造およびこれを備えた吐出装置、並びに液晶表示装置の製造方法、有機EL装置の製造方法、電子放出装置の製造方法、PDP装置の製造方法、電気泳動表示装置の製造方法、カラーフィルタの製造方法、有機ELの製造方法、スペーサ形成方法、金属配線形成方法、レンズ形成方法、レジスト形成方法および光拡散体形成方法 - 特許庁
| 例文 |
| Copyright © Japan Patent office. All Rights Reserved. |
|
ログイン |
Weblio会員(無料)になると
|
|
ログイン |
Weblio会員(無料)になると
|