「eXp」に関連した英語例文の一覧と使い方 - Weblio英語例文検索

A point that the complex numbers of exp (ikΔz) and exp(-ikΔz) appear differs from a conventional case by newly applying a boundary condition.例文帳に追加

境界条件を新たに適用することで、exp(ikΔｚ)やexp(-ikΔｚ)という複素数が現れる点が従来と異なる。 - 特許庁

For a discussion of the errors that can occur for these functions, see exp (3). 例文帳に追加

これらの関数で発生するエラーについては、exp (3) を参照のこと。 - JM

function returns the result of multiplying the floating-point number x by 2 raised to the power exp . 例文帳に追加

関数は、浮動小数点実数xと 2 のexp乗との積を返す。 - JM

A useful set of states is Exp (for experimental), Stab (for stable), and Rel (for released). 例文帳に追加

一般に用いられる識別子としては、Exp(experimental: 実験的)、Stab(stable: 安定した)、Rel(released: リリースした)があります。 - JM

If x is zero, and exp is positive infinity, a domain error occurs, and a NaN is returned. 例文帳に追加

xがゼロでexpが正の無限大の場合、領域エラー (domain error) が発生し、NaN が返される。 - JM

If x is an infinity, and exp is negative infinity, a domain error occurs, and a NaN is returned. 例文帳に追加

xが無限大でexpが負の無限大の場合、領域エラー (domain error) が発生し、NaN が返される。 - JM

An electron emission time constant t_s^exp (t_i, T) of a priming electron is calculated.例文帳に追加

プライミング電子の電子放出時定数ｔ_ｓ^exp（ｔ_ｉ，Ｔ）を算出する。 - 特許庁

P_n=A_D×EXP(-k_n×n) (1).例文帳に追加

Ｐ_ｎ＝Ａ_Ｄ×ＥＸＰ（−ｋ_ｎ×ｎ） （１） - 特許庁

The A-line is represented by T=exp(7.78-0.18C).例文帳に追加

Ａ線は、Ｔ＝ｅｘｐ（７．７８−０．１８Ｃ）で表される。 - 特許庁

They will live on as exp points within us!例文帳に追加

経験値として 私達の中に生き続ける - 映画・海外ドラマ英語字幕翻訳辞書

For various special cases, including the handling of infinity and NaN, as well as overflows and underflows, see exp (3). 例文帳に追加

無限大や NaN の扱いや、オーバーフローとアンダーフローなどのさまざまな特別な状況については、exp (3) を参照のこと。 - JM

If x is positive infinity (negative infinity), and exp is not negative infinity, positive infinity (negative infinity) is returned. 例文帳に追加

xが正の無限大 (負の無限大) でexpが負の無限大でない場合、正の無限大 (負の無限大) が返される。 - JM

Magnetic field intensity H_exP in a direction parallel to the medium surface of the magnetic field is controlled so that H_exP>1.3×Hc.例文帳に追加

磁界の媒体表面に平行な方向の磁界強度Ｈ_ｅｘＰを、Ｈ_ｅｘＰ＞１．３×Ｈｃとなるように制御する。 - 特許庁

Its output Cn is Cn=P+(Cn-1-P)*EXP(-t/T).例文帳に追加

この出力Ｃｎは、Ｃｎ＝Ｐ＋（Ｃｎ−１−Ｐ）・ＥＸＰ（−ｔ／Ｔ）である。 - 特許庁

Formula (1): Δt≤350×EXP(-0.004×T), where T is the temperature of the substrate 1.例文帳に追加

Δｔ≦３５０×ＥＸＰ（−０．００４×Ｔ） 但し、Ｔは基板の温度 - 特許庁

In formula, d_aim represents the intensity of each wavelength of a target color's spectral curve, d_exp represents the intensity of each wavelength of a sample's spectral curve and n represents the number of data.例文帳に追加

ＲＭＳエラー＝√Σ_380-730（ｄ_aim−ｄ_exp）^2／（ｎ） 上式において、ｄ_aimは標的とする色の分光曲線の各波長の強度を、ｄ_expは試料の分光曲線の各波長の強度を、ｎはデータの数を表わす。 - 特許庁

Further, the value of particle beam intensity I per unit time is determined by D=I×t_exp×n_exp according to a multiple lithography frequency n_exp and a particle beam intensity D determined by a necessary accuracy, and I is adjusted so as to meet the value.例文帳に追加

さらに、必要な精度から決定された多重描画回数ｎ_ｅｘｐと粒子線強度ＤとからＤ＝Ｉ・ｔ_ｅｘｐ・ｎ_ｅｘｐにより単位時間あたりの粒子線強度Ｉの値を決定し、その値に合うようにＩを調整する。 - 特許庁

The function is defined as, for example, R(T, t)=EXP[(T-100)/14.75]×t.例文帳に追加

上記関数は、例えばＲ（Ｔ，ｔ）＝ＥＸＰ[（Ｔ−１００）／１４．７５]×ｔとする。 - 特許庁

The specific heat ratio κ_exp of combustion gas in the cylinder is calculated using the obtained measuring data.例文帳に追加

そして、得られた測定データを用いて筒内の燃焼ガスの比熱比κ_ｅｘｐを算出する。 - 特許庁

σ[MPa]=A×exp(D/T[K])×(dε/dt)^m ...(1), T[K]+(1+0.002V[mm/sec])×K(T)<T_0 [K]...(2).例文帳に追加

σ［ＭＰａ］＝Ａ×ｅｘｐ（Ｄ／Ｔ［Ｋ］）×（ｄε／ｄｔ）^m … （１）Ｔ［Ｋ］＋（１＋０．００２Ｖ［ｍｍ／ｓｅｃ］）×Ｋ（Ｔ）＜Ｔ_0 ［Ｋ］… （２） - 特許庁

When the cleaning operation of the substrate stage or an alignment operation is performed in the exposure unit EXP, the cleaning substrate CW or the dummy substrate DW is conveyed from the substrate processing apparatus SP to the exposure unit EXP.例文帳に追加

露光ユニットＥＸＰ内にて基板ステージの洗浄作業またはアライメント作業を行うときには、基板処理装置ＳＰから露光ユニットＥＸＰにクリーニング基板ＣＷまたはダミー基板ＤＷを搬送する。 - 特許庁

When the substrate stage is to be cleaned or aligned in the exposure unit EXP, the stage cleaning substrate CW or the dummy substrate DW is carried from the substrate processor SP to the exposure unit EXP.例文帳に追加

露光ユニットＥＸＰ内にて基板ステージの洗浄作業またはアライメント作業を行うときには、基板処理装置ＳＰから露光ユニットＥＸＰにステージ洗浄用基板ＣＷまたはダミー基板ＤＷを搬送する。 - 特許庁

In the multiple lithography, a required lithographic time t_t_exp is determined according to a noise period f and t_t_exp =1/(2×k×f) (where, k=1, 2...).例文帳に追加

多重描画において、描画所要時間ｔ_ｔ＿ｅｘｐをノイズの周期ｆに合わせ、ｔ_ｔ＿ｅｘｐ＝１／（２・ｋ・ｆ）（ここで、ｋ＝１，２，…）に従って決定する。 - 特許庁

On the other hand, in the independent control, the target displacement angles INP, EXP are calculated as optimal valves depending on the engine operational status, the actual displacement angles INR, EXR are brought close to the target displacement angles INP, EXP.例文帳に追加

一方、独立制御では、エンジン運転状態に応じた最適な値として上記目標変位角ＩＮＰ，ＥＸＰがそれぞれ算出され、これらに向けて実変位角ＩＮＲ，ＥＸＲが近づけられる。 - 特許庁

A threshold voltage generator 10 receives the expected value data EXP and generates threshold voltage Vth having a voltage level according to the expected value data EXP in synchronization with the signal S1 to be tested.例文帳に追加

しきい値電圧発生器１０は、期待値データＥＸＰを受け、当該期待値データＥＸＰに応じた電圧レベルを有するしきい値電圧Ｖｔｈを、被試験信号Ｓ１と同期して生成する。 - 特許庁

An average value, a dispersed value, and an effective number of the activated energy wherein an average mean square error of t_s^exp (t_i, T) and t_s^th (t_i, T) becomes the least are determined.例文帳に追加

ｔ_ｓ^exp（ｔ_ｉ，Ｔ）とｔ_ｓ^ th（ｔ_ｉ，Ｔ）の平均二乗誤差が最小となる活性化エネルギーの平均値、分散値、実効数を決定する。 - 特許庁

A complex linear operation circuit 108 stores the inverse matrix of a matrix consisting of q rows and p columns of exp(2πjk_pn_q/N) about a set {k_p} using the carrier numbers of M effective carriers as elements and a set {n_q} using sample numbers 0 to M-1 as elements.例文帳に追加

複素線形演算回路108には、M本の有効キャリアの番号を要素とする集合｛k_p｝、サンプル番号0乃至M-1を要素とする集合｛n_q｝について、ｑ行ｐ列がexp(2πjk_pn_q／N)である行列の逆行列が記憶されている。 - 特許庁

When an exposure process is completed in an exposure unit EXP, an exposure complete signal 71 is transmitted from the exposure unit EXP to a main controller MC.例文帳に追加

露光部ＥＸＰにおいて露光処理が完了すると、露光部ＥＸＰからメインコントローラＭＣに向けて露光完了信号７１が送信される。 - 特許庁

The material is subjected to aging at aging temperature T(K) in a range of 373-523 K for an aging period (s) of 10^-7exp(9880/T)×T×(exp((AI+6)/3.9))^-1.5 s or longer to form a thin steel plate having yield elongation YP-El of 0.5% or more.例文帳に追加

そして、該素材に、373〜523Ｋの範囲の時効温度Ｔ（Ｋ）で、時効時間（ｓ）：10^−７exp（9880/Ｔ）×Ｔ×［exp（（AI＋６）/3.9）］^−1.5 ｓ以上の時効処理を施し、0.5％以上の降伏伸びYP-Elを有する薄鋼板とする。 - 特許庁

SINGLE DATAPATH FLOATING POINT IMPLEMENTATION OF RCP, SQRT, EXP AND LOG FUNCTIONS AND LOW LATENCY RCP BASED ON THE SAME TECHNOLOGY例文帳に追加

同一の技術に基づくＲＣＰ，ＳＱＲＴ，ＥＸＰおよびＬＯＧ関数の単一データパス浮動小数点実行及び少ない待ち時間のＲＣＰ - 特許庁

Thereby, reliability of the substrate transport in the IF part 5 is high and the device 10 and the exposure machine EXP can stably operate.例文帳に追加

よって、ＩＦ部５における基板搬送の信頼性が高く、装置１０および露光機ＥＸＰを安定して稼働することができる。 - 特許庁

Thus, a complex number exp(-jθ) corresponding to the complex rotation angle θ is output to a complex multiplier 114 as a complex weight.例文帳に追加

こうして、当該複素回転角θに相当する複素数ｅｘｐ（−ｊθ）が複素重みとして複素乗算器１１４に出力される。 - 特許庁

Wherein, R(Dp): a cumulative oversize mass fraction (mass%), Dp: a sieve opening diameter (mm), De: a particle size (mm) at which cumulative sieving mass fraction becomes 36.8 mass%.例文帳に追加

Ｒ(Dp) ＝ 100・exp｛−(Dp/De)^n｝ ここで、Ｒ(Dp)：積算ふるい上質量分率（mass％） Dp：ふるい目径（mm） De：積算ふるい質量分率が36.8mass％となる粒径（mm） - 特許庁

In this case, the bias current of an emitter common transistor output circuit becomes Iid=K×I1×exp(A/2) and no longer depends on temperature.例文帳に追加

このとき、エミッタ共通トランジスタ出力回路のバイアス電流はｌ_id ＝Ｋ×Ｉ_1×ｅｘｐ（Ａ／２）となり、温度に依存しなくなる。 - 特許庁

Wherein, formula 1 is η=α×exp(β/T), in which formula, η is viscosity (mPa s), T is an absolute temperature (K), α is a constant and β is a temperature coefficient.例文帳に追加

式１ η＝α・ｅｘｐ（β／Ｔ）（式中、ηは粘度（ｍＰａ秒）、Ｔは絶対温度（Ｋ）、αは定数、βは温度係数を表す。） - 特許庁

(%); (d) dry heat shrinkage factor = 0-3% and (e) thermal intermediate elongation ≤1.8×exp(5.5×K/10^5) (%).例文帳に追加

（ｃ）中間伸度≦１．５×ｅｘｐ（５．５×Ｋ／１０^5 ） （％） （ｄ）乾熱収縮率＝０〜３％ （ｅ）熱時中間伸度≦１．８×ｅｘｐ（５．５×Ｋ／１０^5 ） （％）。 - 特許庁

A pattern generator PG generates expected value data EXP showing an expected value of the signal S1 to be tested which is input to an I/O terminal P_IO.例文帳に追加

パターン発生器ＰＧは、Ｉ／Ｏ端子Ｐ_ＩＯに入力される被試験信号Ｓ１の期待値を示す期待値データＥＸＰを発生する。 - 特許庁

Based on these operating condition parameters and model constants A-H, a function model parameter X is calculated according to equation: X=A×P^B×Veff^C×Pc^D×EGR^E×Ne^F×q^G×exp(H/T).例文帳に追加

Ｘ＝Ａ×Ｐ^Ｂ×Ｖeff^Ｃ×Ｐc^Ｄ×ＥＧＲ^Ｅ×Ｎe^Ｆ×ｑ^Ｇ×ｅｘｐ（Ｈ/Ｔ） - 特許庁

(2) It is preferable that the steel in the above (1) contains one or more kinds selected from among 0.005 to 0.04% Ti, 0.005 to 0.04% Nb and 0.03 to 0.30% V.例文帳に追加

［Mo］≦exp(G−5)＋5・・・(a)、 G≦5.5・・・(b)(2)上記(1)の鋼材は、さらにTi：0.005〜0.04％、Nb：0.005〜0.04％およびV：0.03〜0.30％の１種または２種以上を含有させるのが望ましい。 - 特許庁

1200log_2h and exp[-(x-(F+1200log_2h))^2/2W^2] in expression (o) are precalculated and prestored into a memory of a computer.例文帳に追加

中の1200ｌｏｇ_２ｈとｅｘｐ［−（ｘ−（Ｆ＋1200ｌｏｇ_２ｈ））^２／２Ｗ^２］を事前に計算してコンピュータのメモリに格納する。 - 特許庁

(1): X=7.43×10^-6 exp(2.68×10^-2E)+8 The high modulus carbon fibers are excellent in adhesion with the resin, excellent in a peeling property and a shearing property and are available for a high modulus carbon fiber composite.例文帳に追加

Ｘ＝７．４３×１０^-6ｅｘｐ（２．６８×１０^-2Ｅ）＋８ （１） ただし、Ｅ：ストランド引張り弾性率（ＧＰａ） - 特許庁

In an computer software product, the hybridization intensity I is determined by using I=exp[ΣiPiSi].例文帳に追加

１つの実施形態において、ハイブリダイゼーション強度（Ｉ）は、Ｉ＝ｅｘｐ［Σ_iＰ_iＳ_i］を使用して決定される。 - 特許庁

This substrate treatment device 10 is provided with a treatment part 3 and an IF part 5, and the IF part 5 is adjacent to an exposure machine EXP separate from the device 10.例文帳に追加

基板処理装置１０は処理部３とＩＦ部５とを備え、ＩＦ部５は本装置１０とは別体の露光機ＥＸＰに隣接している。 - 特許庁

An IF section 5 transports the substrates W fed from each of the substrate treatment lines Lu and Ld to the exposing machine EXP provided separately from this apparatus 10.例文帳に追加

ＩＦ部５は、各基板処理列Ｌｕ、Ｌｄから払い出された基板Ｗを、本装置１０とは別体の露光機ＥＸＰに搬送する。 - 特許庁

According to a first means of this invention, the value of exp (2πj μn(k+1)) coincides with either ±1 or ±j in many cases.例文帳に追加

本発明の第１の手段によれば、ｅｘｐ（２πｊ・μｎ（ｋ＋１））の値は、±１，±ｊの何れかに一致するケースが多くなる。 - 特許庁