emittanceを含む例文一覧と使い方
該当件数 : 23件
HIGH EMITTANCE SHELL MOLD FOR DIRECTIONAL CASTING例文帳に追加
方向性鋳造用の高エミッタンスシェルモールド - 特許庁
TRANSMISSION DIFFUSION EMITTANCE TYPE FILM THICKNESS MEASURING METHOD例文帳に追加
透過拡散放射率型フイルム厚さ測定方法 - 特許庁
SURVO CONTROL METHOD AND DEVICE FOR HIGH-EMITTANCE ELECTRON SOURCE例文帳に追加
高エミッタンス電子源のサ−ボ制御方法及びその装置 - 特許庁
MANUFACTURING METHOD OF ION IMPLANTING DEVICE AND ION BEAM EMITTANCE MEASURING INSTRUMENT, AND SEMICONDUCTOR DEVICE例文帳に追加
イオン注入装置及びイオンビームエミッタンス測定器、半導体装置の製造方法 - 特許庁
FIBER HAVING THERMAL EMITTANCE CHANGED BY TEMPERATURE, FIBER STRUCTURE AND FIBER PRODUCT例文帳に追加
温度によって熱放射率が変化する繊維および繊維構造体および繊維製品 - 特許庁
To make luminance control without changing the angle distribution of the current density of a high luminance and high emittance electron gun.例文帳に追加
高輝度、高エミッタンス電子銃の電流密度の角度分布を変えることなく輝度調整を行う。 - 特許庁
To provide an electron gun and a cathode-ray tube intending to enhance drive characteristics and to improve emittance.例文帳に追加
ドライブ特性の向上とエミッタンスの改善とを図る電子銃及び陰極線管を提供する。 - 特許庁
To provide a multi-beam source generating a set of particle beamlets having low emittance and a uniform current distribution.例文帳に追加
低エミッタンスおよび均質な電流分布を持つ1組の粒子ビームレットを生成するマルチビーム源を提供する。 - 特許庁
To provide an ion feeding source with high brightness and low emittance, an acceleration/deceleration moving system and an improved ion feeding source.例文帳に追加
高輝度で低エミッタンスのイオン供給源、加速/減速移動システム及び改善したイオン供給源を提供する。 - 特許庁
To inhibit degradation of efficiency by suppressing decline of light flux due to light emittance from an arc tube as well as improve light distribution property.例文帳に追加
発光管から発光することによる光束の低下を抑えて効率の低下を抑制するとともに、配光特性を向上する。 - 特許庁
The ion beam emittance measuring mechanism 15 comprises an ion beam emittance measuring instrument 151 which is inserted into the passage of ion beam, that is, on a beam line at the time of measurement, and is controlled so as to be outside of the beam line at the time other than measurement, and can inspect at least divergence degree of ion beam.例文帳に追加
イオンビームエミッタンス測定機構15は、測定時にイオンビームの経路すなわちビームライン上に挿入され、測定時以外はビームラインから外れるように制御され、イオンビームの少なくとも発散度合いが検査可能なイオンビームエミッタンス測定器151を有する。 - 特許庁
A beam size is reduced greatly in an electron beam cooling device 6 by a low-emittance EBIS-type ion source or hollow beams.例文帳に追加
低エミッタンスのEBIS型イオン源または中空(hollow)ビームによる電子ビーム冷却装置6で、ビームサイズを極端に小さくする。 - 特許庁
To provide an electron gun that is improved in a drive characteristics, so as to emit high luminance which has been unavailable by a conventional amplifier and is improved in emittance.例文帳に追加
ドライブ特性が向上し、従来の増幅器では得られない高い輝度を得ることが可能で、かつエミッタンスが改善された電子銃を得る。 - 特許庁
In the fixing device provided with a temperature detecting element 5 for estimating and detecting the temperature of the fixing roll 2 by detecting infrared ray discharged from a fixing roll 2, infrared ray emittance of the fixing roll 2 in a wave length range detectable by the temperature detecting element 5 is smaller than the infrared ray emittance of toner T in the wave length range.例文帳に追加
定着ローラ2から放出された赤外線を検知することにより定着ローラ2の温度を推定して検知する温度検知素子5を備える定着装置において、温度検知素子5によって検知可能な波長領域における定着ローラ2の赤外線放射率を、該波長領域におけるトナーTの赤外線放射率以下にする。 - 特許庁
To provide an electron beam transfer device which is capable of providing an extensive unit exposure area even when the emittance of an electron gun is relatively low, and reducing a harmful effect caused by the space charge effect.例文帳に追加
電子銃のエミッタンスが比較的低くても単位露光領域を広くできるとともに、空間電荷効果による弊害を低減できる電子線転写装置を提供する。 - 特許庁
To provide an emitter capable of operating at a high extraction voltage in a charged particle beam device and moreover having improved emittance, to provide a manufacturing method thereof, and to provide a charged particle beam device equipped with the above emitter.例文帳に追加
荷電粒子線装置において高い引出電圧で動作可能で、且つ、エミッタンスを向上させたエミッタ、およびその製造方法、並びに、当該エミッタを備える荷電粒子線装置を提供する。 - 特許庁
To provide a low-temperature charged particle beam treatment accelerator for reducing the weight of the component of an accelerator and reducing costs greatly by accelerating, storing, and taken out low-emittance beams that are strong "cold ion beams".例文帳に追加
強い強度の“冷たいイオンビーム”である低エミッタンスビームを加速・貯蔵・取り出しすることで加速器のコンポーネントを軽量化し、コストの大幅な低減を可能とする低温荷電粒子線治療加速器の提供。 - 特許庁
An electrode structure having a convergence effect is arranged proximity to the vicinity of an extraction electrode of a cold cathode electron source array part, whereby the convergence effect of emitted electron beams is enhanced to provide a satisfactory low-emittance characteristic.例文帳に追加
冷陰極電子源アレイ部の引き出し電極近傍に、収束効果を有する電極構造体を近接配置することにより、放出電子ビームの収束効果を高め、良好な低エミッタンス特性を得る。 - 特許庁
To reduce diagonal passage through an absorptive material even if charged particles of limited emittance arrive at a ridge filter unit or a slipping out of charged particles from the absorptive material due to scattering and makes an expanding black peak uniform in the depth direction.例文帳に追加
有限のエミッタンスの荷電粒子がリッジフィルタユニットに入射した場合でも吸収材を斜めに通過したり、あるいは散乱による吸収材からの荷電粒子の抜け出しを少なくし、深さ方向に一様な拡大ブラックピーグとすることにある。 - 特許庁
This instrument has a light source 11 for irradiating a beam of light at a prescribed incident angle equal to that at which the beam of light having entered is reflected by the reflecting object 20 at a certain angle of emittance and an imaging means 13 for imaging the beam of light reflected from reflecting object 20.例文帳に追加
所定の入射角度で入射された光を一定の出射角度で反射する光反射体20に対して、その入射角度で光を照射する光源11と、光反射体20で反射した光を撮像する撮像手段13とを備える。 - 特許庁
Emittance characteristics of ions on the emission end face of a first stage quadrupole 15 are matched with the acceptance characteristics of ions on the incident end face of a second quadrupole 17, so that ions emitted from the first stage quadrupole 15 enter efficiently into the second quadrupole 17.例文帳に追加
第1段四重極15を出射したイオンが効率良く第2段四重極17に入射するように、第1段四重極15の出射端面におけるイオンのエミッタンス特性と第2段四重極17の入射端面におけるイオンのアクセプタンス特性とを一致させる。 - 特許庁
The ion implanting device 101 comprises an ion source 11 which generates and extracts ion beam IB, a mass spectrometer 12 having a magnet, an ion beam convergence part such as an electrostatic lens and Q lens (four-pole lens), and an ion beam emittance measuring mechanism 15 between the ion source 11 and the mass spectrometer 121, preferably at the rear stage of the electrostatic lens 141.例文帳に追加
イオン注入装置101は、イオンビームIBを発生、引き出すイオン源11、マグネット(電磁石)を有する質量分析器12、イオンビームを加速する加速器13、静電レンズ、Qレンズ(4極レンズ)等のビーム収束部14、そして、イオン源11と質量分析器121の間、好ましくは静電レンズ141の後段にイオンビームエミッタンス測定機構15が設けられる。 - 特許庁
| Copyright © Japan Patent office. All Rights Reserved. |
|
ログイン |
Weblio会員(無料)になると
|
|
ログイン |
Weblio会員(無料)になると
|