「exposure data」に関連した英語例文の一覧と使い方 - Weblio英語例文検索

EXPOSURE CONTROLLING IMAGE DATA FOR SCANNING TYPE EXPOSURE例文帳に追加

走査型露光のための露光管理用画像データ - 特許庁

GENERATING METHOD OF EXPOSURE PATTERN DATA AND CHARGED-BEAM EXPOSURE SYSTEM例文帳に追加

露光パターンデータの生成方法と荷電ビーム露光装置 - 特許庁

A pixel mapping circuit 240 maps pixels of one exposure data on the other exposure data so that the pixels of the one exposure data out of the normal exposure data and mix exposure data has an equal size to the other exposure data.例文帳に追加

また、通常露光データ及び混合露光データのうちの一方の露光データの画素を、他方の露光データと同サイズになるように、一方の露光データの画素を他方の露光データ上にマッピングする画素マッピング回路２４０を設ける。 - 特許庁

EXPOSURE APPARATUS HAVING DATA CORRECTION FUNCTION例文帳に追加

データ補正機能を備えた露光装置 - 特許庁

To accelerate the exposure processing of exposure control data, in an electron beam exposure system.例文帳に追加

電子ビーム露光装置における露光制御データの展開処理を高速化する。 - 特許庁

Exposure data to control the liquid crystal light valve 41e of the projector type exposure device are separated to exposure time data 71 and exposure intensity data 72 and 73.例文帳に追加

プロジェクタ型の露光装置の液晶ライトバルブ４１ｅを制御する露光データを露光時間データ７１と、露光強度データ７２および７３に分解する。 - 特許庁

CREATING METHOD FOR EXPOSURE DATA OF ELECTRON BEAM, AND EXPOSURE METHOD FOR ELECTRON BEAM例文帳に追加

電子ビーム露光データ作成方法及び電子ビーム露光方法 - 特許庁

METHOD FOR PREPARING EXPOSURE DATA, METHOD FOR PREPARING APERTURE MASK DATA, ELECTRIC CHARGE BEAM EXPOSURE METHOD, AND ELECTRIC CHARGE BEAM EXPOSURE SYSTEM例文帳に追加

露光データ作成方法、アパーチャマスクデータの作成方法、荷電ビーム露光方法、及び荷電ビーム露光装置 - 特許庁

A data input section 32 inputs exposure pattern data and CAD data.例文帳に追加

データ入力部３２は、露光パターンデータとＣＡＤデータを入力する。 - 特許庁

To shorten a time for preparing exposure data and decrease capacitance of the exposure data.例文帳に追加

露光データを作成する時間を短縮すると共に、露光データの容量を少なくする。 - 特許庁

EXPOSURE DATA CREATION METHOD, EXPOSURE DATA CREATING DEVICE, AND SEMICONDUCTOR DEVICE MANUFACTURING METHOD例文帳に追加

露光データの作成方法、露光データ作成装置及び半導体装置の製造方法 - 特許庁

The image data ϕ1 is corrected by the exposure data generating part 62 based on the correction data ϕ2, then, the exposure data ϕ3 is generated.例文帳に追加

露光データ生成部６２でこの補正データφ２を基に画像データφ１を補正し露光データφ３を生成する。 - 特許庁

CHARGED PARTICLE BEAM DEVICE, EXPOSURE DATA CREATING METHOD AND PATTERN EXPOSURE METHOD例文帳に追加

荷電粒子ビーム装置、露光データ作成方法およびパターン露光方法 - 特許庁

Exposure information of the imaging data is input.例文帳に追加

撮像データの露光情報を入力する。 - 特許庁

The short-time exposure image data are subjected to the white balancing correction based on the short-time exposure image data and the long-time exposure image data, the long-time exposure image data are subjected to the white balancing correction based on the short-time exposure image data and the long-time exposure image data, and they are synthesized.例文帳に追加

短時間露光画像データは、短時間露光画像データ及び長時間露光画像データに基づきホワイトバランス補正を行い、長時間露光画像データは、短時間露光画像データ及び長時間露光画像データに基づきホワイトバランス補正を行い、これらを合成することを特徴とする。 - 特許庁

An exposure data generating circuit 220 generates normal exposure data and mix exposure data by respectively providing predetermined pre-processes on a normal exposure signal and mix exposure signal with the normal exposure signal and mix exposure signal as inputs.例文帳に追加

通常露光信号、及び混合露光信号を入力とし、通常露光信号及び混合露光信号に対して所定のプリプロセスをそれぞれ施して通常露光データ及び混合露光データを生成する露光データ生成回路２２０を設ける。 - 特許庁

The read fixed form raster data for exposure and the peculiar raster data are combined to generate comprehensive exposure raster data.例文帳に追加

そして、読み出された露光用定形ラスタデータと固有ラスタデータとを合成し、全体の露光ラスタデータを生成する。 - 特許庁

The exposure data creator 314 for manufacturing a wafer creates exposure data 308 for manufacturing a wafer.例文帳に追加

ウェハ製造用露光データ作成処理部３１４は、ウェハ製造用露光データ３０８を作成する。 - 特許庁

EXPOSURE PATTERN DATA INSPECTION APPARATUS, METHOD AND PROGRAM例文帳に追加

露光パターンデータ検査装置、方法およびプログラム - 特許庁

ALIGNER, EXPOSURE DATA PREPARATION METHOD AND MASK例文帳に追加

露光装置、露光データ作成方法、および、マスク - 特許庁

The multiple exposure apparatus 1 is equipped with an exposure data creating section 11 which creates the differential data based on the difference between the front and the rear exposure data out of a plurality of the exposure data which is the raster data created based on the drawing data being the vector data used for the exposure performed continuously a plurality of times.例文帳に追加

多重露光装置１は、連続して複数行われる露光のために使用されるベクタデータである描画データに基づいて作成されるラスタデータである複数の露光データのうち、前後の露光データとの差異に基づいて差異データを作成する露光データ生成部１１を備える。 - 特許庁

The vector data of a drawing coordinate system is transformed into vector data of an exposure coordinate system matching the exposure coordinate intrinsic to the exposure apparatus.例文帳に追加

この描画座標系ベクタデータを、露光装置に固有の露光座標に適合した露光座標系ベクタデータに変換する。 - 特許庁

Besides, exposure quantity data are divided into three of high-order bit data, middle-order bit data and low-order bit data.例文帳に追加

また、露光量データは、上位ビットデータ、中位ビットデータ、下位ビットデータに３分割される。 - 特許庁

The imaging data are data to which automatic exposure processing is not performed.例文帳に追加

撮像データは、自動露光処理が施されていないデータである。 - 特許庁

This exposure controller exposes a line sensor by using 1st and 2nd exposure periods and obtains RGB image data.例文帳に追加

第1、第2の露光時間を用いてラインセンサを露光し、RGBの画像データを得る。 - 特許庁

An exposure condition recording section 105 inputs exposure condition information of the imaging data.例文帳に追加

露光条件記録部105は、撮像データの露光条件情報を入力する。 - 特許庁

A comparison inspection section 34 performs inspection of the exposure pattern data by comparing the exposure pattern data with the CAD data.例文帳に追加

比較検査部３４は、露光パターンデータとＣＡＤデータとを比較することによって露光パターンデータの検査を行う。 - 特許庁

METHOD AND DEVICE FOR EXPOSURE DATA CREATION, METHOD AND EQUIPMENT FOR EXPOSURE DATA VERIFICATION, AND PROGRAM例文帳に追加

露光データ作成方法、露光データ作成装置、露光データ検証方法、露光データ検証装置、及びプログラム - 特許庁

METHOD AND APPARATUS FOR GENERATING EXPOSURE DATA例文帳に追加

露光データ作成方法及び露光データ作成装置 - 特許庁

To provide an exposure correction device by which exposure correction for picture data appropriately exposing the picture data at any range is available.例文帳に追加

任意の範囲の画像データを適正な露出にするような画像データの露出補正を可能とする。 - 特許庁

Further, part of the vector data of the exposure coordinate system is extracted and transformed into raster data of the exposure coordinate system to control the exposure by a modulation element, and multiple exposure is performed.例文帳に追加

さらに、露光座標系ベクタデータの一部を抽出して、変調素子による露光を制御するための露光座標系ラスタデータに変換し、多重露光を実施する。 - 特許庁

Afterward, the corrected exposure data D200 is used to carry out an exposure step.例文帳に追加

以後、前記補正された露光データＤ２００を利用して露光工程を実施する。 - 特許庁

PATTERN DATA GENERATING DEVICE, EXPOSURE SYSTEM, PATTERN DATA GENERATION METHOD AND PROGRAM例文帳に追加

パターンデータ生成装置、露光システム、パターンデータ生成方法、およびプログラム - 特許庁

To execute data processing for generating exposure pattern data from design data more efficiently.例文帳に追加

設計データから露光パターンデータを生成するデータ処理工程をより効率的に行う。 - 特許庁

This exposure apparatus is provided with: a data retaining means 41 retaining characteristic data particular to the exposure apparatus; a reading means inputting the characteristic data to an exposure control means compensating exposure position and exposure timing in the exposure apparatus using the characteristic data and a communication means 42 carrying out radio communication.例文帳に追加

この露光装置は、露光装置に固有の特性データを保持するデータ保持手段４１と、特性データを使用して露光装置の露光位置および露光タイミングを補正する露光制御手段へ特性データを入力する読み取り手段と無線通信する通信手段４２とを備える。 - 特許庁

METHOD AND PROGRAM FOR FORMING EXPOSURE DATA例文帳に追加

露光データ生成方法及び露光データ生成プログラム - 特許庁

An exposure change data calculation section 103 calculates second target data corresponding to the second exposure on the basis of the first target data.例文帳に追加

露出変化データ算出部１０３は第２の露出に対応した第２ターゲットデータを第１ターゲットデータに基づいて算出する。 - 特許庁

A data transmission part 7 of an exposure dosimeter 1 outputs by radio the detected exposure dosage data detected by an exposure dosage detection part 4.例文帳に追加

被曝線量計測器１のデータ送信部７は被曝線量検出部４が検出した検出被曝線量データを無線出力する。 - 特許庁

During exposure operation, vector data of a peculiar pattern PB is converted to raster data in accordance with a relative position of an exposure area, and fixed form raster data for exposure corresponding to the relative position of the exposure area is read out from the memory.例文帳に追加

露光動作のとき、露光エリアの相対位置に応じて固有パターンＰＢのベクタデータをラスタデータに変換するとともに、露光エリアの相対位置に応じた露光用定形ラスタデータをメモリから読み出す。 - 特許庁

To reduce load at developing of exposure control data, in an electron beam exposure system.例文帳に追加

電子ビーム露光装置において露光制御データを展開する際の負担を軽減する。 - 特許庁

Based upon the data of the calculated exposure, exposure processing (step T10) is carried out.例文帳に追加

算出された露光量のデータに基づいて露光処理（ステップＴ１０）が実行される。 - 特許庁

An exposure unit 206 performs exposure process based on the processed mammographic image data.例文帳に追加

露光部２０６は、画像処理後のマンモ画像データに基づいて露光処理を実施する。 - 特許庁

METHOD FOR DECIDING EXPOSURE SETTING, LITHOGRAPHY EXPOSURE APPARATUS, COMPUTER PROGRAM, AND DATA CARRIER例文帳に追加

露光設定を決定するための方法、リソグラフィ露光装置、コンピュータプログラムおよびデータキャリア - 特許庁

METHOD FOR FORMING MASK DATA FOR PARTIAL AND SIMULTANEOUS TRANSFER EXPOSURE AND EXPOSURE METHOD BY THE SAME例文帳に追加

部分一括転写露光用マスクデータの作成方法及びそれによる露光方法 - 特許庁

An exposure condition recording part 107 inputs exposure information in imaging pickup data.例文帳に追加

露光条件記録部107は、撮像データを撮影した際の露光情報を入力する。 - 特許庁